株式会社斯库林集团专利技术

株式会社斯库林集团共有1565项专利

  • 检查装置以及检查方法
    检测出在第一缺陷候补区域和第二缺陷候补区域中重复的区域作为缺陷区域,第一缺陷候补区域是基于拍摄图像的各像素的值与参照图像的对应的像素的值之差而检测的区域,所述第二缺陷候补区域是基于拍摄图像的各像素的值与参照图像的对应的像素的值之比而检测...
  • 电子元件的制造方法及层叠体
    本发明涉及一种电子元件的制造方法及层叠体。本发明涉及一种在制造电子元件时可将层叠体中的基层与电子元件良好地剥离的技术。当一面向腔室内供给含有氢的气体,一面在该腔室内形成类金刚石碳层时,调整相对于供给至基层的一方向侧的碳的供给量的氢的供给...
  • 在旋转保持单元中,通过设置在旋转板上的多个卡盘销以与基板的外周端部抵接的状态保持基板,使旋转板围绕旋转轴旋转。在清洗单元中,通过头移动机构使清洗头一边按压被多个卡盘销保持的基板的背面一边移动,借助清洗头的研磨除去基板的背面的异物。借助辅...
  • 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。根据本发明的基板处理装置,通过从低表面张力液体供给单元向基板的表面统计低表面张力液体,在基板的表面形成低表面张力液体的液膜。通过从惰性气体供给单元向处于旋转状态的基板的旋转中心位置供给惰性气体,...
  • 基板处理装置
    本发明提供一种能够提高处理部和分度器部的配置的自由度的基板处理装置。基板处理装置具有对基板进行处理的处理部。处理部的前表面以及处理部的后表面都能够与向处理部供给基板的分度器部连接。根据这样的基板处理装置,能够提高处理部和分度器部的配置的...
  • 基板保持旋转装置、基板处理装置以及基板处理方法
    基板保持旋转装置包括将各可动销的支撑部施力至开放位置和保持位置中的一位置的施力单元,与各第一可动销组对应安装且在与沿旋转轴线的轴线正交的方向磁极方向相同的第一驱动用磁铁、与各第二可动销组对应安装且在与沿旋转轴线的轴线正交的方向与第一驱动...
  • 基板处理装置及基板处理方法
    本发明提供一种能够在短时间内在基板表面上有效形成凝固体的基板处理装置及基板处理方法。该基板处理装置包括:基板保持部,保持水平姿势的基板,旋转部,使被基板保持部保持的基板以铅垂轴为轴进行旋转,第一凝固部,在第一位置向基板背面供给液体制冷剂...
  • 基板保持装置、涂布装置、基板保持方法
    本发明涉及一种基板保持装置、涂布装置、基板保持方法。基板保持装置包括:载置台,将基板载置于载置面;位置调整机构,通过位置调整构件,以在载置面载置有基板的状态自隔开位置向抵接位置移动而执行对载置面上的基板的位置进行调整的位置调整处理;按压...
  • 转印装置及转印方法
    本发明提供一种转印装置及转印方法。该转印装置用辊构件进行按压来使两个板状体抵接,从而能够抑制使事先已对位的两个板状体相抵接时所产生的错位的影响。对准机构(71)安装于主机架(10),对准载物台(36)安装在对准机构(71)上。在对准载物...
  • 基板保持旋转装置、基板处理装置以及基板处理方法
    本发明的基板保持旋转装置包括:施力单元,将各可动销的所述支撑部置于所述保持位置,驱动用磁石,与各可动销对应地安装,开放磁石,以非旋转状态设置,并形成磁场产生区域,所述磁场产生区域是随着所述旋转台的旋转而旋转的各可动销所能够通过的规定的磁...
  • 基板处理装置及基板处理方法
    本发明涉及基板处理装置及基板处理方法,该基板处理装置通过从低表面张力液体供给单元向被加热的基板供给低表面张力液体,将处理液置换为低表面张力液体。减弱对基板的加热,从低表面张力液体供给单元向基板供给低表面张力液体,由此形成低表面张力液体的...
  • 基板保持装置及基板处理装置
    本实用新型涉及一种基板保持装置及基板处理装置。所述基板保持装置包括:平台(4),具有载置基板(3)的保持面(41);多个吸附孔(42),设置于平台(4);多根升降销(7),相对于保持面(41)升降;以及销孔(43),供升降销(7)插通;...
  • 基板处理装置
    本实用新型涉及一种基板处理装置,可削减处理液的使用量。基板处理装置(100)包括:桶状构件(81),设置于背面处理槽(31)内且回收自背面供给部(12)供给至基板的背面的处理液;返回配管(82),使由桶状构件(81)回收的处理液返回至储...
  • 转印装置及转印方法
    本发明提供一种辊构件能够以均匀且稳定的按压力按压板状体的转印装置及转印方法。与橡皮布(BL)相抵接并按压基板(SB)的转印辊(431),其两端部被一对支撑部(430)支撑为旋转自如。用于支撑转印辊(431)的旋转轴的支撑L形构件(433...
  • 检查装置以及检查方法
    在检查装置中设置有多个光源部(42、43),从多个方向分别向对象物(9)的表面中的对象区域照射光,从多个光源部中的一个光源部照射光,由一个拍摄部(32、33)获取表示对象区域的第一拍摄图像,从多个光源部照射光,由该拍摄部获取第二拍摄图像...
  • 聚酰亚胺膜的制造方法、电子设备的制造方法以及涂膜的剥离方法
    本发明提供一种电子设备等的制造方法,在剥离处理之前将支撑体和基底膜良好的粘接,在剥离处理后可以容易地剥离支撑体和基底膜。本发明的电子设备的制造方法,在基底膜上形成器件(83),其中,作为基底膜,至少具有聚酰亚胺膜,所述电子设备的制造方法...
  • 提供一边搬运片状的基体材料一边向该基体材料的表面涂敷涂敷液的涂敷装置,该涂敷装置能够实现对赋予基体材料的张力进行调整的功能。在沿着长边方向被搬运的长片状的基体材料(S)的宽度方向(Dw)上的两端部(Ls、Rs)分别设置有,对基体材料(S...
  • 片剂印刷装置及片剂印刷方法
    第一分割线照相机拍摄由输送辊输送的多个片剂的一面。当从输送辊向第一输送带交付片剂时,所有的片剂以维持方向性的状态翻转正面背面。第二分割线照相机拍摄由第一输送带输送的多个片剂的另一面。基于由第一分割线照相机和第二分割线照相机获取的多个片剂...
  • 一种基板处理装置(1),包括:基板保持部(31);基板旋转机构(32),使基板保持部(31)与基板(9)一同旋转;处理液供给部(5),向基板(9)供给处理液;杯部(4),其内周面(412)接受从旋转的基板(9)飞散的处理液;顶板(22)...
  • 基板处理系统由清洗单元、多个处理液供给单元以及基板处理装置构成。清洗单元在对管道进行清洗时向处理液供给单元的处理单元供给第一清洗液。在将从清洗单元供给的第一清洗液贮存于处理液槽内后,处理液供给单元将处理液槽内的第一清洗液通过管道供给至基...