基板处理装置包括：基板保持部，将基板(9)保持为水平状态；处理液供给部，向基板(9)的上表面(91)上供给第一处理液、与第一处理液相比比重小且沸点高的第二处理液，从而在基板(9)的上表面(91)上形成第一处理液的液膜即第一液膜(71)、...

基板处理装置包括：基板保持单元，其将基板保持为水平；基板旋转单元，其使被保持的基板绕沿铅直方向的规定的旋转轴线旋转；处理液供给喷嘴，其沿水平方向移动，向被保持的基板的上表面供给处理液；切断构件，其将与被保持的基板的上表面之间的环境气体从...

本发明涉及一种基板处理装置，用于接受向基板外排除的处理液的挡板，以在俯视时包围基板保持单元和相向构件的方式配置。挡板与基板、具有与基板的上表面相向的相向面的相向构件一起形成从周围的环境气体隔离的空间。通过非活性气体供给单元向空间供给非活...

基板处理装置的确认部(67)具备检查管路(671)、导电率获取部(672)、判断部(673)。检查管路(671)具有在内周面上分别沿着长度方向延伸并且在周向上交替地配置的多个导电部(675)和多个绝缘部(676)。导电率获取部(672)...

本发明的目的在于，提供一种能够容易设置装置且能够缩短热处理时间的热处理方法及热处理装置。为了实现该目的，首先，准备在一个主面上形成有包含掺杂剂的单分子层薄膜及多分子层薄膜中的至少一方薄膜的基板。接着，将准备的基板配置于腔室内，通过第一灯...

在涂敷装置(1)中，喷嘴移动机构(5)选择性地把持多个涂敷液喷嘴(3)中的一个，并且使把持的涂敷液喷嘴(3)及溶剂喷嘴(4)一体地移动，至少使溶剂喷嘴(4)向溶剂吸引部(35)移动。然后，使移动后的溶剂喷嘴(4)向溶剂吸引部(35)喷出...

利用保持旋转部2使基板W旋转而在基板W上形成涂敷液膜RS，并且利用随着基板W的旋转产生的离心力，将剩余的涂敷液RS的至少一部分推向基板W的周缘部E，使剩余的涂敷液RS沿基板W的周缘部E隆起。之后，利用气体喷嘴4向基板W的周缘部E吹送气体...

本发明涉及一种基体材料处理装置和基体材料处理方法，能够抑制干燥后的基体材料中产生的褶皱，以良好的状态处理基体材料。搬运部具有搬运构件，该搬运构件沿着搬运路径设置于干燥部的下游侧，且隔着气体层搬运基体材料。因此，使通过干燥部加热后的基体材...

本发明提供一种在基板表面使溶剂成分从含有升华性物质的溶液中蒸发之后使升华性物质升华的基板处理技术中，能够用较短的节拍时间且出色的能源利用效率来进行处理的技术。基板处理装置具有：第一腔室；液膜形成部，其在第一腔室内并在基板的表面形成含有升...

提供能够良好地除去附着在基板上表面的颗粒物等的基板处理方法以及执行该方法的基板处理装置。依次执行：水池形成工序S3，在基板W的上表面形成冲洗液的液膜F；接触工序S4，使具有形成有多个空隙部135的网构件134的构件13与液膜F接触；颗粒...

该基板处理方法，为对表面具有含有膜的细微图案的基板实施清洗处理的基板处理方法，包括：甲硅烷基化工序，向所述基板的表面供给甲硅烷基化剂，来对该基板的表面进行甲硅烷基化；药液清洗工序，在进行所述甲硅烷基化工序之后，或者与所述甲硅烷基化工序并...

一种基板处理装置，其中，第二杯檐部的内周缘与相向部件侧壁部的外周面在径向上相向。由此，能够抑制处理液向比杯部更靠上侧飞散。另外，相向部件侧壁部的外周面与第二杯檐部的内周缘之间的径向距离即第二杯部间隙距离比相向部件侧壁部的内周面与基板保持...

本发明的课题在于缩短对涂布于基板上的包含聚酰亚胺前驱物及溶剂的涂布液的涂布膜进行减压干燥所需的时间。本发明提供一种减压干燥方法及减压干燥装置。本发明包括：将涂布于基板上的包含聚酰亚胺前驱物及溶剂的涂布液的涂布膜以第一温度进行减压干燥的工...

设置有穿过用于处理基板的处理部的侧方并延伸的搬运路径。在被上述保持单元保持的收容器和处理部之间被搬运的基板通过搬运路径。第一搬运机械手对被上述保持单元保持的收容器进行基板的搬入和搬出，并接近配置于上述搬运路径内的交接区域。第二搬运机械手...

一种易于提高对象物的单位面积的光的照射强度的照明装置。该照明装置具有出射部列和反射部。在此，出射部列具有多个出射部，多个出射部沿着预先设定的排列方向排列且分别向预先设定的出射方向出射光。反射部具有以向与排列方向交叉的交叉方向观察与排列方...

在基板处理装置(1)中，杯部(4)沿上下方向移动，杯排气口(即，第一杯排气口(421)及第二杯排气口(422)中的一个杯排气口)有选择地与第一室排气口(631)或第二室排气口(632)重叠。在杯排气口与第一室排气口(631)重叠的状态下...

本发明提供一种在膜电极接合体的制造装置中能够在确保维护空间的同时抑制装置的高度尺寸的布局。该膜电极接合体的制造装置(1)具有吸附辊(10)、多孔质基材供给辊(21)、多孔质基材回收辊(24)、层叠基材供给辊(31)、接合体回收辊(65)...

一种包括旋转台和基板旋转保持装置的基板处理装置和基板处理方法。基板旋转保持装置设置成与旋转台一同绕沿铅垂方向的旋转轴线旋转且包括将基板水平地支撑的多个支撑销，支撑销包括具有支撑部的可动销，支撑部设置为可在与基板周缘部抵接的抵接位置与比抵...

检查基板保持状态异常区域自动决定方法，通过检测基板保持部的旋转开始前后的图像中的浓度变化，在检查基板的保持状态的异常时自动地决定图像中特别重视的检查区域，可减轻工作负担。对于基板保持部的图像中位于被基板保持部适当地保持时的基板的上方的、...

本发明提供一种基板处理装置，其包括：腔体、基板保持单元、升降部件和升降驱动单元。腔体具有底板，该底板具有隔开收纳空间的上表面。基板保持单元被收纳于收纳空间并且载放于底板的上表面，并且用于保持基板。升降部件在收纳空间内升降。升降驱动单元驱...