本发明的目的在于提供一种能够高精度地清洗相向部的基板处理装置。基板处理装置具有：基板保持部，其水平地保持基板；第一供应部，其具有与保持在基板保持部上的基板的下表面相向的第一开口，并从第一开口向基板的下表面供应流体；相向部，其具有与保持在...

本发明涉及遮断部的清洗，提供一种能够提高处理能力的基板处理方法以及基板处理装置。本发明的基板处理方法具有：第一供给工序，包括向旋转的基板的上表面供给处理液的一个以上的第一处理；第二供给工序，包括向旋转的遮断部的下表面供给冲洗液的一个以上...

根据本发明的基板处理方法，其包括：基板保持工序，通过从基座的上表面向上方隔开间隔而水平地保持基板的基板夹具来保持基板；第一处理液供应工序，向被所述基板夹具保持的基板的上表面供应第一处理液；清洗液供应工序，向所述基座的上表面供应用于冲洗附...

本发明涉及一种基板处理方法和基板处理装置，一边防止气泡卷入在基板的表面形成的图案的凹部，一边将填充剂良好地填充于凹部。基板处理方法包括：液膜形成工序，在基板中的形成有图案的图案形成面形成冲洗液的液膜；积液形成工序，在基板的旋转中心附近，...

本发明提供基板处理方法及基板处理装置。降低干燥处理中进行疏水化处理时疏水剂的使用量。本发明的基板处理方法用于干燥表面形成有规定图案的基板。此外，本发明的基板处理方法包括：清洗工序，将清洗液存储在密闭的腔室内的处理槽并将所述基板浸渍于所述...

本发明提供基板处理方法及基板处理装置。在对基板进行蚀刻和清洗时，抑制溶解于蚀刻液的物质的重结晶。本发明的基板处理方法是对规定的基板进行蚀刻和清洗。详细地，基板处理方法包括：蚀刻工序，使用温度高于常温的碱性的蚀刻液来溶解设置于所述基板上的...

本发明涉及一种基板处理装置，抑制清洗刷的刷主体中的用于与基板抵接的基板抵接部的大小的变动。基板处理装置具备基板的旋转保持机构、用于使安装有清洗刷的轴移动的刷移动机构，刷主体包括用于形成柱状部分的顶端面的基板抵接部，基板处理装置还具备矫正...

本发明的基板处理方法包括：基板保持工序，将基板保持为水平；液膜形成工序，向所述基板的上表面供给处理液而形成覆盖该基板的上表面的处理液的液膜；蒸气环境气体充满工序，以包含表面张力比该处理液的表面张力低的低表面张力液的蒸气的蒸气环境气体充满...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，将含水的冲洗液供给至被保持为水平的基板之后，使含有异丙醇的含IPA液供给至已附着有冲洗液的基板。之后，将水分浓度较低的含IPA液供给至基板。被供给至基板的含IPA液为了被再次供给至基板而被回收。

本片剂印刷装置首先向输送的片剂(9)的表面照射紫外线或者红外线。将紫外线或者红外线照射至应形成印刷图像的目标区域(A)的至少轮廓部。在照射紫外线的情况下，轮廓部的表面变得粗糙，油墨的接触角变小。另外，在照射红外线的情况下，轮廓部被蚀刻为...

本发明提供蚀刻装置、基板处理装置、蚀刻方法以及基板处理方法。在第一期间，基板旋转并向基板上供给作为低挥发液的纯水。停止喷出低挥发液后，低挥发液残留在DSA膜上广泛的区域。低挥发液不与DSA膜反应而保持在DSA膜上。在接下来的第二期间，基...

本发明涉及一种涂敷装置和涂敷方法，缩短涂敷处理的节拍时间，并且将涂敷液稳定地涂敷于基板。该涂敷装置具有：浮起部，以使基板的主面朝向上方的状态，使基板浮起；搬运部，将由浮起部浮起的基板，以基板搬运速度向规定的搬运方向搬运；喷嘴，向由搬运部...

本发明涉及一种基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法及基板处理方法，在基板清洗装置，在使研磨头与利用旋转夹具旋转的基板的一面接触的状态下，使该研磨头至少在基板的中心和外周部之间移动。由此，基板的一面被研磨头研磨，从而去除存在于基板的一...

本发明提供一种能够防止闪光照射时基板被污染的热处理装置。在容纳半导体晶片(W)的室(6)的内壁面安装环状的支撑部(68)，由该支撑部(68)支撑基座(74)。当半导体晶片(W)载置于基座(74)时，室(6)的内侧空间被分成上部空间(65...

一种热处理装置，即使在吸收红外光的处理气体的环境中，也能够准确地测量基板温度。在对半导体晶片进行热处理的室内形成氨气环境，该氨气吸收与辐射温度计(120)的测量波长区域重叠的波长区域的红外光。通过在辐射温度计(120)的光学透镜系统(2...

本发明提供基板处理方法及基板处理装置，该基板处理方法包括：基板保持工序，将基板保持为水平；液膜形成工序，向所述基板的上表面供给处理液，形成覆盖该基板的上表面的处理液的液膜；液膜去除区域形成工序，从所述处理液的液膜排除一部分处理液，在所述...

本发明涉及从第一板状体剥离第二板状体的剥离装置和方法。剥离装置具备：保持第一板状体的保持部；沿剥离前进方向排列的多个吸附部，吸附第二板状体的另一侧主面；剥离控制部，按照多个吸附部的排列顺序进行部分剥离使第二板状体的剥离前进，部分剥离指，...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明是一边使喷嘴相对于基板相对地移动，一边从填充有处理液的填充状态的泵将处理液输送至喷嘴，从而缩短从喷嘴使处理液喷出至基板的基板处理装置的节拍时间。本发明基板处理装置包括：补充部，将处理液补充...

一种基板处理装置，其能够抑制处理液到达基板表面的器件图案区域的情况，并且能够适当地进行基板周缘部的处理。上杯体(11)具有包围半导体晶片(W)的形状。该上杯体(11)具有从半导体晶片(W)侧的端缘朝下方延伸的圆筒状的壁部(101)。该壁...

本发明提供一种适合地进行图案光的对焦的技术。图案曝光装置(10)包括：曝光头(82)，其用于向基板W的感光材料面输出图案光；测量器(84)，其用于测量基板W的位置；以及聚焦控制部(902)，其根据基板W的感光材料面的位置，对图案光的成像...