本发明涉及一种处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法。处理液供给装置向多个处理部供给处理液。处理液供给装置包括：处理液供给源，供给进行了加热或者冷却的处理液；多个循环配管，多个所述循环配管分别与多个所述处理部对应地设置，分别使所...

本发明提供一种能够减少供给至基板(W)的旋转基座(11)侧的面的处理液附着于基板(W)的相反一侧的面的技术。多个卡盘销(12)分别具有：基板把持部(20)，通过按压基板(W)的周端面来把持所述基板；支柱部(18)，设置于旋转基座(11)...

本发明提供能够良好地排除基板上的低表面张力液体的基板处理方法以及基板处理装置。该基板处理方法包括：基板保持工序，将基板保持为水平状态；处理液供给工序，向基板的上表面供给含有水的处理液；置换工序，向基板的上表面供给表面张力比水的表面张力低...

本发明提供一种无需监控摄像机即可廉价且高精度地推断拥挤程度及人数的方法。本发明中设置有：拥挤程度推断步骤(S10)，基于便携终端装置的传感器信息(例如加速度信息)推断拥挤程度；平均拥挤程度计算步骤(S20a)，基于针对多台便携终端装置在...

基板处理方法，包括：液膜形成工序，在基板的上表面形成厚度比图案的高度厚的处理液的液膜，喷出口配置工序，以使第一喷出口朝向基板的上表面中的包括旋转中心的规定的第一区域，且使第二喷出口朝向基板的上表面中的包围第一区域的外侧的规定的第二区域的...

基板处理装置包括：基板保持单元，用于保持基板；旋转单元，使被所述基板保持单元保持的基板绕规定的第一旋转轴线旋转，所述第一旋转轴线通过该基板的主面的中央部；喷嘴，所述喷嘴被设置为能够绕规定的第二旋转轴线自转，并向所述基板的主面喷出处理流体...

本发明的基板处理装置中，从喷出管(7)向供给位置(SP)供给的处理液的液流，通过液流分散构件(8)被大致分散为朝向处理槽(1)中央的底面侧液流、以及朝向处理槽(1)中央的斜上方的液流这两个部分。因此，由于能够使较强的液流分散为在处理槽(...

一种基板处理装置，通过设置于热处理部的除电装置来进行基板的除电处理。在除电装置OWE中，使保持基板W的保持部(434)以及出射真空紫外线的出射部(300)中的至少一方相对于另一方沿着一个方向相对地移动。此时，由出射部出射的真空紫外线UV...

本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够将从处理液产生的凝结固体烟雾高效排出。基板处理装置具备基板的保持部件、使保持部件以旋转轴为中心旋转的旋转机构、处理液供给机构、内侧保护件、设置于内侧保护件的外侧的外侧保护件、以及包含与流路连...

本发明涉及一种基板处理装置，具有：共用配管，向分支部引导处理液；供给配管，从分支部向药液喷嘴引导处理液；返回配管，沿着与供给配管不同的路径，从分支部引导处理液；喷出阀，变更从共用配管向分支部供给的处理液的流量。喷出阀使阀芯在包括喷出执行...

本发明提供一种基板处理装置，具备：第一供给配管，从第一分支部向第一药液喷嘴引导处理液；第一返回配管，从第一分支部向容器引导处理液；第一压力损失规定单元，以使第一供给配管内的压力损失大于第一返回配管内的压力损失的方式规定压力损失；以及第一...

该膜‑催化剂接合体的制造装置(1)具有：多个搬送辊，将长带条状的电解质膜(92)在该电解质膜(92)的长度方向即搬送方向上搬送，形成于该电解质膜的背面的第一电极层(9a)含有第一催化剂粒子；吸附辊(10)，用该吸附辊的外周面的一部分吸附...

本发明提供一种行为分析方法、记录介质以及行为分析系统。作为分析便携终端装置的使用者的行为的方法，设置有：传感器信息获取步骤，从便携终端装置所搭载的一个以上的传感器获取传感器信息；动作判定步骤，基于传感器信息来判定使用者的动作；以及行为判...

本发明涉及一种基板搬运装置、基板处理装置以及基板搬运方法，部分位置计算部基于第一检测器至第五检测器的检测信号，计算基板的第一部分至第五部分在手部上的位置。假想圆计算部根据第一部分至第四部分的位置分别计算4个假想圆，计算各假想圆的中心位置...

本发明提供一种基板处理方法，处理涂覆有定向自组装材料的基板，该基板处理方法具备加热工序和冷却工序。加热工序将处理容器内保持为非氧化性气体环境，并且使基板位于加热位置，从而加热基板以使定向自组装材料相分离。冷却工序将处理容器内保持为非氧化...

本发明提供一种基板处理方法，将形成有处理膜的基板载置于热处理腔室内的热处理空间中来进行热处理，所述方法包括：排气步骤，排出所述热处理空间内的气体；非活性气体供给步骤，对所述热处理空间供给非活性气体；以及热处理步骤，对所述热处理空间中的基...

本发明提供一种基板处理方法，在热处理腔室内的热处理空间内对形成有处理膜的基板进行热处理，所述基板处理方法包括排气步骤、非活性气体供给步骤以及热处理步骤，在实施所述排气步骤、所述非活性气体供给步骤之后，实施热处理步骤，在所述排气步骤中，排...

本发明提供一种基板处理方法，在热处理空间内对基板进行热处理，所述方法包括：搬入步骤，使基板载置于支撑销上；排气步骤，排出所述热处理空间内的气体；非活性气体供给步骤，对所述热处理空间供给非活性气体；基板下空间气体排出步骤，排出所述基板与所...

本发明提供一种基板处理装置、其控制方法及计算机可读存储介质，通过较简易的结构抑制从喷嘴对基板排出处理液时的缺陷的发生。基板处理装置具备：喷嘴、配管部、阀、发动部、控制部以及检测部。喷嘴向基板排出处理液。配管部形成连接至喷嘴的处理液的流路...

本发明的目的在于提供能提高基板的搬送精度的基板搬送装置、检测位置校正方法及基板处理装置。检测坐标计算部在进行检测位置校正动作时和进行基板搬送动作时，计算在机械手的基准位置上放置的基准基板或基板的外周部的检测坐标。偏移量计算部在进行检测位...