本发明提供一种试料容器，用于培养细胞等，通过目视能够简单地判定容器所担载的液体的量。本发明的试料容器具有能够在上部开口的内部空间(SP)贮存液体的孔。在水平姿势的试料容器中，当将投影在水平面上的内部空间的开口设定为开口面(111)、将内...

在基板处理装置的基板(9)的处理中，首先，向基板(9)的上表面(91)供给填充剂溶液。由此，在基板(9)的上表面(91)上形成填充剂溶液的膜即涂布膜，基板(9)的上表面(91)上的构造体的间隙被填充剂溶液填满。接着，在涂布膜形成后，在使...

本发明的数据处理装置(80)是一种用于作成印刷数据(D5)的数据处理装置，该印刷数据(D5)用于使喷墨式印刷头对片剂的表面进行印刷处理。数据处理装置(80)具有矢量旋转处理部(81)和图像转换处理部(82)。矢量旋转处理部(81)使输入...

基板处理装置包括：处理腔室；基板保持单元，配置在所述处理腔室内，用于保持基板；第一喷嘴，具有用于朝被所述基板保持单元保持的基板的主面喷出流体的喷出口。在基板处理装置中执行：第一处理步骤，将第一药剂流体从所述第一喷嘴朝所述基板的主面喷出，...

本发明提供基板处理装置以及基板处理方法，其目的在于，不仅使基板的周缘部的处理宽度变细，而且还提高处理宽度的均匀性。为了达成该目的，本发明的基板处理装置具有：保持构件，设置成从下方将基板保持为大致水平，能够使基板以规定的旋转轴为中心进行旋...

本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，该基板处理装置具备：旋转卡盘，一边将圆板状的基板保持为水平一边使基板以旋转轴线为中心旋转；筒状的挡板，接收从由旋转卡盘保持的基板向外方飞散的处理液；以及定心单元，使基板的中心接近旋转轴线。定心单...

本发明提供一种基板处理方法，其中，包括：冲洗液供给工序，向基板的主面供给含有水的冲洗液；旋转工序，使基板以通过基板的主面的中央部的旋转轴线为中心旋转；以及疏水剂供给工序，在进行所述冲洗液供给工序后，与所述旋转工序并行执行，向所述基板的主...

本发明提供基板处理装置，具备：基板保持单元，将基板保持为水平；处理液供给单元，具有喷出处理液的处理液喷嘴，向基板的上表面供给处理液；移动单元，使处理液供给单元在处理液喷嘴与基板的上表面相对的处理位置和处理液喷嘴从与基板的上表面相对的位置...

间歇地形成有多个矩形的触媒层的电解质膜沿着一个方向被搬送。由光纤传感器检测触媒层的前端，并且利用该检测结果控制测定部的扫描，使得触媒层上的测定部的测定点的扫描轨迹与矩形的触媒层的对角线一致。多个触媒层全部测定线相同，从而能够进行均质检查...

该图像获取装置(2)具有底面位置检测装置(1)，可获取配置于容器的凹部的细胞的图像。底面位置检测装置(1)具有保持部(10)、光照射部(20)、检测部(30)以及控制部(70)。保持部(10)将容器(9)保持为水平。光照射部(20)向容...

一种涂敷技术和喷嘴，能够抑制喷嘴清扫处理中的喷嘴和喷嘴抵接构件的摩耗和破损且利用喷嘴在适当范围内涂敷涂敷液。涂敷装置具备：喷嘴，从设置于喷嘴主体部的顶端部的狭缝状的喷出口喷出涂敷液；喷嘴抵接构件，具有能够与顶端部抵接的凹部；驱动部，使喷...

本发明在喷嘴清扫技术和使用喷嘴清扫技术的涂敷装置中提供通用性优异的喷嘴清扫技术，喷嘴清扫技术在将喷嘴抵接构件的凹部按压于喷嘴的顶端部的状态下，使喷嘴抵接构件相对于顶端部在喷出口的延伸方向上相对地移动来清扫上述顶端部。喷嘴清扫装置具备：喷...

本发明涉及喷嘴清扫技术，在将喷嘴抵接构件的凹部按压于喷嘴的顶端部的状态下清扫上述顶端部，防止喷嘴抵接构件的局部性摩耗来延长喷嘴抵接构件的寿命并且减少摩擦粉的产生。喷嘴清扫装置具备：喷嘴抵接构件，设置有凹部，凹部具有能够与顶端部抵接的内侧...

第一分割线照相机拍摄由输送辊输送的多个片剂的一面。当从输送辊向第一输送带交付片剂时，所有的片剂以维持方向性的状态翻转正面背面。第二分割线照相机拍摄由第一输送带输送的多个片剂的另一面。基于由第一分割线照相机和第二分割线照相机获取的多个片剂...

本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置具有控制单元，在利用处理部对基板的上表面进行处理的上表面处理时，上述控制单元一边操作旋转驱动部，使基板以第一转速旋转，一边从处理液供给部供给处理液，并操作第一控制阀从气体喷嘴以第一流量供给气体，...

本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置。当磷酸容器内的磷酸水溶液的硅浓度达到规定浓度范围的上限值时，通过从磷酸容器排出磷酸水溶液和/或减少返回磷酸容器的磷酸水溶液的量，使磷酸容器内的液量减少到规定液量范围的下限值以下的值。当磷酸容器内...

本发明涉及周缘处理装置和周缘处理方法。检测用于确定基板相对于基准面的倾斜的倾斜确定信息。基于检测出的倾斜确定信息和第一角度，在与基准面平行的方向上对由旋转保持部所保持的基板的保持位置进行修正，以使由周缘区域处理部处理的基板的部分和基板的...

本发明提供一种向基板涂敷药液的涂敷方法，该涂敷方法包括溶剂供给工序和药液供给工序。在溶剂供给工序中，向基板(W)供给溶剂。在溶剂供给工序之后，在药液供给工序中向基板供给药液。溶剂供给工序包括第一工序。在第一工序中，使基板以第一转速旋转，...

一种基板处理方法，用于从在表面上形成有具有硬化层的抗蚀剂的基板上去除该抗蚀剂，包括：基板保持工序，保持所述基板；以及抗蚀剂剥离工序，对用于混合多种流体生成液滴的多流体喷嘴，供给臭氧气体与过热水蒸气，并且使含有通过将臭氧气体与过热水蒸气混...

第一搬送机械手相对容纳器进行基板的搬入及搬出。第二搬送机械手与第一搬送机械手之间进行基板的交接，且经由第一出入口相对第一处理部进行基板的搬入及搬出。第三搬送机械手与第二搬送机械手之间进行基板的交接，经由第二出入口相对第二处理部进行基板的...