基板处理装置和基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置和基板处理方法，该基板处理装置具备：旋转卡盘，一边将圆板状的基板保持为水平一边使基板以旋转轴线为中心旋转；筒状的挡板，接收从由旋转卡盘保持的基板向外方飞散的处理液；以及定心单元，使基板的中心接近旋转轴线。定心单元包括：推动件，与旋转卡盘上的基板接触；以及线性电机，通过使推动件水平地移动来使基板相对于旋转卡盘水平地移动。线性电机的至少一部分以在俯视下与挡板重叠的方式配置于挡板的上方。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置和基板处理方法
本专利技术涉及对基板进行处理的基板处理装置和基板处理方法。处理对象的基板包括例如半导体晶片、液晶显示装置用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板、有机EL(electroluminescence：场致发光)显示装置等的FPD(FlatPanelDisplay：平板显示器)用基板等。
技术介绍
美国专利US2011281376A1公开了对基板一张一张地进行处理的单张式的基板处理系统。该基板处理系统具备组装了进行斜面(bevel)处理的斜面处理装置和进行基板的定位的基板定位装置的基板处理单元。美国专利US2011281376A1所记载的斜面处理装置包括：旋转部，用于使基板旋转；排放杯，接收用于斜面处理的处理液，并向斜面处理装置的外部排出；以及顶板，配置于排放杯的上方。美国专利US2011281376A1所记载的基板定位装置具有：第一驱动部，能够使与基板的侧面接触的第一基准部在基板的径向上沿着直线移动；以及第二驱动部，能够使与基板的侧面接触的第二基准部在基板的径向上沿着直线移动。第一驱动部和第二驱动部配置于比排放杯更靠下方的位置。它们的一部分配置于比排放杯的外周面更靠外侧的位置。在对基板进行定位时，基板定位装置进入排放杯和顶板之间。然后，使基板定位装置退避到排放杯的外侧。然后，使顶板下降且使排放杯上升，使顶板与排放杯接触。该状态下，从设置于顶板侧的第一喷嘴和设置于排放杯侧的第二喷嘴供给处理液，对基板进行斜面处理。但是，在美国专利US2011281376A1所记载的基板处理系统中，将使与基板接触的第一基准部移动的第一驱动部配置于比接收处理液的排放杯更靠下方的位置。同样地，将使与基板接触的第二基准部移动的第二驱动部配置于比接收处理液的排放杯更靠下方的位置。而且，第一驱动部和第二驱动部的一部分配置于比排放杯的外周面更靠外侧的位置。因此，导致组装有斜面处理装置和基板定位装置的基板处理单元在铅垂方向和水平方向上大型化。
技术实现思路
本专利技术的一实施方式提供一种基板处理装置，其中，包括：基板保持单元，一边将圆板状的基板保持为水平，一边使所述基板以通过所述基板的中央部的铅垂的旋转轴线为中心旋转；处理液供给单元，向由所述基板保持单元保持的所述基板供给处理液；筒状的挡板，包围所述基板保持单元，接收从由所述基板保持单元保持的所述基板向外方飞散的处理液；以及定心单元，包括：至少一个接触部，能够与所述基板保持单元上的所述基板接触；以及定心致动器，通过将至少一个所述接触部水平地移动来使所述基板相对于所述基板保持单元水平地移动，使所述基板的中心接近所述旋转轴线，所述定心致动器的至少一部分以在俯视下与所述挡板重叠的方式配置于所述挡板的上方。根据该结构，定心致动器使与基板保持单元上的基板接触的接触部水平地移动。由此，基板相对于基板保持单元水平地移动，基板的中心接近基板的旋转轴线。然后，一边由基板保持单元使基板旋转，一边使处理液供给单元供给处理液。由此，能够用处理液对定心的基板进行处理。因此，能够提高仅对基板的外周部进行处理的斜面处理或对基板的上表面或下表面的整个区域进行处理的整面处理的均匀性。向旋转的基板供给的处理液从基板向外方飞散，由包围基板保持单元的挡板接收。定心致动器的至少一部分配置于挡板的上方且俯视下与挡板重叠。因此，与整个定心致动器配置于挡板的周围的情况或配置于挡板的下方的情况相比，能够使基板处理装置小型化。由此，能够抑制基板处理装置的大型化且进行处理液的供给和定心。所述定心致动器可以是使至少一个所述接触部水平地直线移动的线性致动器，也可以是使至少一个所述接触部在水平面内旋转的回转致动器。为了能够高精度地控制所述接触部的位置，优选所述定心致动器是电动致动器。在所述定心致动器是回转致动器的情况下，在使所述接触部水平地直线移动时，可以设置将所述回转致动器的旋转转换为所述接触部的直线运动的转换机构(例如滚珠螺杆机构)。在所述实施方式中，在所述基板处理装置可以增加以下的至少一个特征。在至少一个所述接触部不与所述基板接触时，所述接触部的至少一部分以在俯视下与所述挡板重叠的方式配置于所述挡板的上方。根据该结构，除了定心致动器的至少一部分之外，接触部的至少一部分也配置于挡板的上方，且俯视下与挡板重叠。因此，与整个接触部配置于挡板的周围的情况或配置于挡板的下方的情况相比，能够使基板处理装置小型化。由此，能够抑制基板处理装置的大型化且进行处理液的供给和定心。所述定心致动器是线性电机，所述线性电机使至少一个所述接触部水平地直线移动。根据该结构，由于接触部水平地直线移动，因此能够减少接触部通过的空间的体积。而且，由于若向接触部传递线性电机的直线运动，则接触部直线移动，因此可以不设置转换线性电机的直线运动的机构。由此，能够进一步抑制基板处理装置的大型化。而且，由于作为电动致动器的一例的线性电机使接触部移动，因此能够高精度地控制接触部的位置。所述基板处理装置还具备单元壳体，所述单元壳体与所述挡板一同形成容纳所述定心致动器的容纳室。根据该结构，定心致动器容纳于由单元壳体形成的容纳室。因此，能够将定心致动器从朝向定心致动器飞散的处理液进行保护。而且，由于除了单元壳体之外，还由挡板形成容纳室，因此与仅由单元壳体形成容纳室的情况相比，能够使单元壳体小型化。所述处理液供给单元包括：喷嘴，向由所述基板保持单元保持的所述基板的上表面喷出处理液；喷嘴移动单元，使所述喷嘴在处理位置和待机位置之间水平地移动，所述处理位置是向由所述基板保持单元保持的所述基板的上表面供给从所述喷嘴喷出的处理液的位置，所述待机位置是在俯视下所述喷嘴位于所述挡板的周围的位置，所述单元壳体、所述定心致动器和至少一个所述接触部中的至少一个配置于所述喷嘴通过的通过区域的下方，且在俯视下与所述通过区域重叠。根据该结构，向由基板保持单元保持的基板的上表面喷出处理液的喷嘴，在处理位置和待机位置之间水平地移动。单元壳体、定心致动器和至少一个接触部中的至少一个配置于喷嘴通过的通过区域的下方，且在俯视下与通过区域重叠。即，将通过区域的下方的空间利用为配置单元壳体等的空间。由此，由于能够有效地利用基板处理装置内的空间，因此能够抑制基板处理装置的大型化。所述单元壳体包括插入孔，所述插入孔插入有所述接触部，所述基板处理装置还包括封闭构件，所述封闭构件包围所述接触部，防止液体通过所述插入孔进入所述单元壳体内。所述封闭构件可以是堵塞所述接触部的外周面和所述插入孔的内周面之间的间隙的密封环，可以是包括安装于所述接触部的一端部和安装于所述单元壳体的另一端部的筒状的波纹管，也可以是这些之外的构件。所述封闭构件可以配置在所述单元壳体内，也可以配置在所述单元壳体外。根据该结构，定心单元的接触部插入单元壳体的插入孔。封闭构件在单元壳体内或单元壳体外包围接触部。由封闭构件防止液体和环境气体通过插入孔进入单元壳体内。由此，能够防止定心致动器等的配置在单元壳体内的部件被处理液润湿，从而能够防止该部件被腐蚀。所述基板处理装置还具备升降单元，所述升降单元使所述挡板和定心单元升降。根据该结构，升降单元使挡板和定心单元双方升降。因此，与设置有使挡板升降的挡板升降单元和使定本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其中，包括：基板保持单元，一边将圆板状的基板保持为水平，一边使所述基板以通过所述基板的中央部的铅垂的旋转轴线为中心旋转；处理液供给单元，向由所述基板保持单元保持的所述基板供给处理液；筒状的挡板，包围所述基板保持单元，接收从由所述基板保持单元保持的所述基板向外方飞散的处理液；以及定心单元，包括：至少一个接触部，能够与所述基板保持单元上的所述基板接触；以及定心致动器，通过使至少一个所述接触部水平地移动来使所述基板相对于所述基板保持单元水平地移动，使所述基板的中心接近所述旋转轴线，所述定心致动器的至少一部分以在俯视下与所述挡板重叠的方式配置于所述挡板的上方。

【技术特征摘要】
2017.05.31 JP 2017-1087301.一种基板处理装置，其中，包括：基板保持单元，一边将圆板状的基板保持为水平，一边使所述基板以通过所述基板的中央部的铅垂的旋转轴线为中心旋转；处理液供给单元，向由所述基板保持单元保持的所述基板供给处理液；筒状的挡板，包围所述基板保持单元，接收从由所述基板保持单元保持的所述基板向外方飞散的处理液；以及定心单元，包括：至少一个接触部，能够与所述基板保持单元上的所述基板接触；以及定心致动器，通过使至少一个所述接触部水平地移动来使所述基板相对于所述基板保持单元水平地移动，使所述基板的中心接近所述旋转轴线，所述定心致动器的至少一部分以在俯视下与所述挡板重叠的方式配置于所述挡板的上方。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，在至少一个所述接触部不与所述基板接触时，所述接触部的至少一部分以在俯视下与所述挡板重叠的方式配置于所述挡板的上方。3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，所述定心致动器是线性电机，所述线性电机使至少一个所述接触部水平地直线移动。4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，还具备：单元壳体，与所述挡板一同形成容纳所述定心致动器的容纳室。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，所述处理液供给单元包括：喷嘴，向由所述基板保持单元保持的所述基板的上表面喷出处理液；喷嘴移动单元，使所述喷嘴在处理位置和待机位置之间水平地移动，所述处理位置是向由所述基板保持单元保持的所述基板的上表面供给从所述喷嘴喷出的处理液的位置，所述待机位置是在俯视下所述喷嘴位于所述挡板的周围的位置，所述单元壳体、所述定心致动器和至少一个所述接触部中的至少一个配置于所述喷嘴通过的通过区域的下方，且在俯视下与所述通过区域重叠。6.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，所述单元壳体包括插入孔，所述插入孔插入有所述接触部，所述基板处理装置还包括封闭构件，所述封闭构件包围所述接触部，防止液体通过所述插入孔进入所述单元壳体内。7.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，还具备：升降单元，使所述挡板和定心单元升降。8.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，还具备：挡板升降单元，使所述挡板升降；以及定心用升降单元，与所述挡板升降单元不同，用于使所述定心单元相对于所述挡板独立地升降。9.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，所述基板处理装置还具备升降单元，所述升降单元包括：升降致动器，产生使所述定心单元升降的动力；以及传递机构，向所述定心单元传递所述升降致动器的动力，所述传递机构包括支柱，所述支柱插入在上下方向上贯通所述挡板的贯通孔，并与所述定心单元一同升降。10.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，还具备：偏心量检测单元，不与所述基板保持单元上的所述基板接触地检测所述基板相对所述旋转轴线的偏心量。11.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，至少一个所述接触部包括推动件，所述推动件通过与所述基板保持单元上的所述基板的外周部接触来水平地推压所述基板保持单元上的所述基板。12.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，至少一个所述接触部包括两个提升件，所述两个提升件通过与所述基板保持单元上的所述基板的下表面接触来抬起所述基板保持单元上的所述基板，所述基板处理装置还具备定心用升降单元，所述定心用升降单元使所述两个提升件升降。13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其中，所述定心单元还包括滑动托架，所述滑动托架分别支撑所述两个提升件且被所述定心致动器水平地驱动。14.根据权利要求12所述的基板处理装置，其中，所述基板处理装置还具备挡板升降单元，所述挡板升降单元使所述挡板升降，所述定心用升降单元是与所述挡板升降单元相同的单元。15.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，至少一个所述接触部包括：两个止动件，分别配置于相对于基准面对称的两个位置，该基准面是通过所述旋转轴线的铅垂的平面；定位推动件，向所述两个止动件侧水平地推压所述基板保持单元上的所述基板，直到所述基板保持单元上的所述基板的外周部与所述两个止动件接触为止；以及定心推动...

【专利技术属性】
技术研发人员：菊本宪幸，林豊秀，藤田直人，岩尾通矩，酒井涉，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP