本发明提供基板反转装置、基板处理装置以及基板支撑装置和基板反转方法、基板处理方法以及基板支撑方法。基板支撑装置的支撑机构与水平姿态的基板的周缘部接触并从下方支撑基板。支撑机构具备一对导向部和切换机构。一对导向部在基板的宽度方向的两侧与基...

本发明提供一种基板干燥方法和基板处理装置，该基板干燥方法使具有图案的基板的表面干燥，其中，所述基板干燥方法包括：升华剂液膜配置工序，在所述基板的所述表面配置液体的升华剂的液膜；高蒸汽压液体供给工序，向所述基板中的与所述表面相反侧的面即背...

本发明提供一种基板干燥方法和基板处理装置，所述基板干燥方法使具有图案的基板的表面干燥，其中，所述基板干燥方法包括：升华剂液膜配置工序，在所述基板的所述表面配置液体的升华剂的液膜；高蒸汽压液体配置工序，在配置于所述基板的所述表面的升华剂的...

本发明的泵装置具有泵室、活塞、马达和控制部。控制部参照喷出命令、理论信息和活塞的当前位置，确定假想终点。控制部参照校正坐标图，将假想终点校正为目标位置。控制部向马达输出用于使活塞从出发位置移动到目标位置的驱动命令。

本发明涉及一种处理液供给装置，供给用于处理基板的处理液，所述装置包括：通液部，供处理液流通；以及泵，具有通过容积的变化与所述通液部之间进行处理液的送出和接受的腔室和被电驱动来改变所述腔室的容积的腔室驱动部，所述通液部、所述腔室和所述腔室...

本发明是泵装置、处理液供给装置、基板处理装置、排液方法以及液体置换方法。在腔室上形成有与积存部连通的至少三个开口、即第一开口、第二开口、第三开口。第二开口位于比第一开口高的位置。第三开口用于：通过从第一开口向积存部内导入气体，或者，通过...

本发明提供基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：在由具有第一挡板及第二挡板的多个挡板包围的位置配置基板并保持基板的基板保持工序；使基板绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板旋转工序；向基板的上表面供给使其疏水化的液体的疏水...

本发明涉及基板处理方法及装置，该方法包括将基板保持为水平的基板保持工序、向基板的上表面供给含水的处理液的处理液供给工序、向上表面供给低表面张力液体来用低表面张力液体置换处理液形成低表面张力液体的液膜的液膜形成工序、通过向液膜的中央区域供...

本发明涉及一种泵装置、处理液供给装置以及基板处理装置，在该泵装置的腔室形成有第一开口、第二开口以及第三开口。第二开口位于比第一开口以及第三开口更高的位置，并且位于积存部的最高位置。气泡借助浮力容易地集中于比第三开口更高的第二开口的附近。...

本发明首先，一边使焦点位置沿着光轴变化一边拍摄对象物，从而获取多个拍摄图像(D1～D5)。接着，获取多个拍摄图像(D1～D5)间的倍率变化。接下来，基于倍率变化，确定多个拍摄图像(D1～D5)间相互对应的像素，并且在对应的像素之间比较锐...

在圆形基板(W)上形成药液的贮液部(PD)之前，形成螺旋状的药液膜(CF)。贮液部(PD)的药液会与螺旋状的药液膜(CF)好好地溶合为一。为此，在使圆形基板(W)旋转来扩展贮液部(PD)的药液以覆盖螺旋状的药液膜(CF)时，会使贮液部(...

本发明的目的在于供给有效地除去了颗粒的高温的药液。药液供给装置是将药液供给至预定的供给对象的药液供给装置，其具备：供给流路，其一端与常温的药液的供给源连接，并且另一端与供给对象连接，从供给源向供给对象引导药液；第一过滤器，其除去从供给源...

本发明的目的在于提供一种减压干燥装置、基板处理装置及减压干燥方法。本发明的减压干燥装置通过将附着有处理液的基板收容在腔室内并将腔室内减压，而使基板干燥。减压干燥装置具有：腔室；减压排气部；阀，调节减压排气的流量；目标设定部，设定目标数据...

本发明提供一种对基板进行处理的基板处理装置、相对于固定构件对可动构件进行对位的对位装置、基板处理方法以及对位方法。在基板处理装置的向处理单元搬送基板的手部上设置有光学传感器，在与处理单元内的旋转卡盘具有固定的位置关系的固定构件上设置有光...

本发明提供一种在基板的主面形成有被覆膜的结构中，能够抑制该主面受到污染的基板处理方法和基板处理装置。该基板处理方法，包括：基板保持工序，将具有第一主面和所述第一主面的相反侧的第二主面的基板保持为水平；被覆膜形成工序，通过向所述第一主面供...

本发明的片剂印刷装置(1)具有：搬送机构，一边使负压作用于多个吸附部来吸附保持片剂(9)，一边搬送该片剂(9)；印刷头(42)，向片剂(9)的表面喷出墨滴；照相机(55)，配置在印刷头(42)的下游侧；不良品判定部，基于照相机(55)拍...

本发明提供一种加热装置及加热方法，所述加热装置能够抑制装置的大型化，并且在基板的表面形成高温的气体流，将不需要的气体从基板的表面附近除去。本发明的加热装置具有多个棒状加热器(20)及包覆棒状加热器(20)的多个外管(30)。从供气部供给...

本发明的基板处理方法，进行基板的图案形成面的干燥处理，其特征在于，所述基板处理方法包括：供给工序，向所述基板的图案形成面供给含有升华性物质的处理液；温度调节工序，通过调节所述基板的温度，将供给至该基板的图案形成面的所述处理液控制在所述升...

基板处理系统由清洗单元、多个处理液供给单元以及基板处理装置构成。清洗单元在对管道进行清洗时向处理液供给单元的处理单元供给第一清洗液。在将从清洗单元供给的第一清洗液贮存于处理液槽内后，处理液供给单元将处理液槽内的第一清洗液通过管道供给至基...

一种基板处理装置，包括：保持单元，其水平保持基板；相向构件，其从上方与所述基板的上表面相向，能够与所述保持单元卡合；支撑构件，其支撑所述相向构件；升降单元，在使所述相向构件向上方离开了所述保持单元的状态下，使所述支撑构件在上位置与卡合位...