基板反转装置、基板处理装置及基板支撑装置以及其方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供基板反转装置、基板处理装置以及基板支撑装置和基板反转方法、基板处理方法以及基板支撑方法。基板支撑装置的支撑机构与水平姿态的基板的周缘部接触并从下方支撑基板。支撑机构具备一对导向部和切换机构。一对导向部在基板的宽度方向的两侧与基板的周缘部接触。切换机构通过在第一接触位置与第二接触位置之间切换一对导向部的位置，从而变更一对导向部与基板与接触状态。一对导向部的每一个具备第一接触区域和第二接触区域。第二接触区域在上下方向以及宽度方向上位于与第一接触区域不同的位置。在基板支撑装置中，能够配合基板的状态，在第一接触区域与第二接触区域之间切换导向部的与基板的接触区域。

Substrate inversion device, processing device, support device and method

The invention provides a substrate inversion device, a substrate processing device, a substrate support device and a substrate inversion method, a substrate treatment method and a substrate support method. The supporting mechanism of the base plate support device contacts the periphery of the horizontal attitude base plate and supports the base plate from below. The supporting mechanism has a pair of guiding parts and a switching mechanism. A pair of guide parts contact the periphery of the base plate on both sides of the width direction of the base plate. The switching mechanism changes the contact state between the first contact position and the second contact position by switching the position of a pair of guide parts. Each pair of guide sections has a first contact area and a second contact area. The second contact area is located in a different position from the first contact area in the upper and lower directions and in the width direction. In the base plate support device, the contact area between the guide part and the base plate can be switched between the first contact area and the second contact area in accordance with the state of the base plate.

【技术实现步骤摘要】
基板反转装置、基板处理装置及基板支撑装置以及其方法
本专利技术涉及基板反转装置、基板处理装置以及基板支撑装置和基板反转方法、基板处理方法以及基板支撑方法。
技术介绍
以往，在半导体基板(以下，简称为“基板”。)的制造工序中，对基板实施多种处理。例如，在日本特开2014－3080号公报(文献1)的基板处理装置中，在对基板的背面进行擦洗处理后，对基板的表面进行擦洗处理。在该基板处理装置中，将表面朝向上侧的基板搬入分度区，在反转交接部将基板的上下反转，在此基础上，进行背面的清洗处理。背面的清洗处理结束后的基板在配置于反转交接部的上方的反转单元将基板的上下反转，在此基础上，进行表面的清洗处理。清洗处理结束后的基板载置于配置在反转交接部与反转单元之间的载置单元，且被搬向分度区。在反转交接部的基板反转装置中，通过支撑机构以水平姿态支撑基板，通过夹持反转机构夹持并反转被支撑机构支撑着的基板。支撑机构通过使四个支撑部件的水平面抵接于基板的下表面来将基板以水平姿态支撑。另外，在文献1的基板处理装置中，反转未处理基板的反转交接部和反转清洗完毕的已处理基板的反转单元是独立设置的。因此，存在基板处理装置大型化的问题。另一方面，若不管基板的状态(例如，未处理或已处理)如何都通过同一基板反转装置进行基板的反转，则存在以下问题，即，未处理基板的污垢、颗粒等在基板反转装置中附着于支撑基板的支撑部件(即，导向部)而转移至已处理基板。
技术实现思路
本专利技术涉及基板反转装置，目的在于配合基板的状态来切换导向部上的与基板的接触区域。本专利技术的优选的一方案的基板反转装置具备：与水平姿态的基板的周缘部接触并从下方支撑上述基板的支撑机构；以及夹持被上述支撑机构支撑的上述基板并使上述基板反转的夹持反转机构。上述支撑机构具备：在上述基板的宽度方向的两侧与上述基板的周缘部接触的一对导向部；导向移动机构，其使上述一对导向部在与上述基板接触的接触位置与相比上述接触位置从上述基板离开了的退避位置之间进退；以及切换机构，其通过在第一接触位置与第二接触位置之间切换位于上述接触位置的上述一对导向部的位置，从而变更上述一对导向部与上述基板的接触状态。上述一对导向部的每一个具备：在上述第一接触位置与上述基板的周缘部接触的第一接触区域；以及在上下方向以及上述宽度方向上位于与上述第一接触区域不同的位置，且在上述第二接触位置与上述基板的周缘部接触的第二接触区域。根据该基板反转装置，能够配合基板的状态，切换导向部的与基板的接触区域。优选的是，在上述一对导向部的每一个中，上述第二接触区域位于比上述第一接触区域靠下侧且上述宽度方向内侧。上述切换机构通过变更上述一对导向部的上述宽度方向的距离，从而在上述第一接触位置与上述第二接触位置之间切换上述一对导向部的位置。优选的是，在上述一对导向部中的一方的导向部中，上述第二接触区域位于比上述第一接触区域靠下侧且上述宽度方向内侧。在上述一对导向部中的另一方的导向部中，上述第二接触区域位于比上述第一接触区域靠上侧且上述宽度方向外侧。上述切换机构通过以沿水平方向延伸的旋转轴为中心旋转上述一对导向部旋转，从而在上述一对导向部的上述第一接触区域位于上述上下方向的相同位置的上述第一接触位置与上述一对导向部的上述第二接触区域位于上述上下方向的相同位置的上述第二接触位置之间切换上述一对导向部的位置。优选的是，在上述一对导向部中的一方的导向部中，上述第二接触区域位于比上述第一接触区域靠下侧且上述宽度方向内侧。在上述一对导向部中的另一方的导向部中，上述第二接触区域位于比上述第一接触区域靠上侧且上述宽度方向外侧。上述切换机构通过相对于上述一方的导向部将上述另一方的导向部相对地沿上述上下方向移动，从而在上述一对导向部的上述第一接触区域位于上述上下方向的相同位置的上述第一接触位置与上述一对导向部的上述第二接触区域位于上述上下方向的相同位置的上述第二接触位置之间切换上述一对导向部的位置。优选的是，因上述导向移动机构而引起的各导向部的移动方向相对于上述上下方向以及上述宽度方向倾斜。优选的是，上述切换机构通过将上述一对导向部与上述导向移动机构一同移动，从而在上述第一接触位置与上述第二接触位置之间切换上述一对导向部的位置。优选的是，在上述一对导向部的每一个中，上述第一接触区域以及上述第二接触区域是朝向上方的接触面，上述第一接触区域和上述第二接触区域呈台阶状地连接。本专利技术也面向基板处理装置。本专利技术的优选的一方案的基板处理装置具备：上述基板反转装置；对通过上述基板反转装置反转后的基板的背面进行清洗的背面清洗处理部；以及在上述基板反转装置与上述背面清洗处理部之间搬送上述基板的基板搬送部。优选的是，基板处理装置还具备：配置有上述背面清洗处理部以及上述基板搬送部的清洗处理块；以及配置其它基板搬送部，将未处理基板交给上述清洗处理块，并且从上述清洗处理块接受已处理基板的分度块。上述基板反转装置配置于上述清洗处理块与上述分度块的连接部。在上述基板搬送部以及上述其它基板搬送部中的一方的搬送部将基板搬入到上述基板反转装置的情况下，通过上述基板反转装置反转后的上述基板被另一方的基板搬送部从上述基板反转装置搬出。本专利技术也面向基板支撑装置。本专利技术的优选的一方案的基板支撑装置具备：在基板的宽度方向的两侧与水平姿态的基板的周缘部接触并从下方支撑上述基板的一对导向部；以及切换机构，其通过在第一接触位置与第二接触位置之间切换上述一对导向部的位置，从而改变上述一对导向部与上述基板的接触状态。上述一对导向部的每一个具备：在上述第一接触位置与上述基板的周缘部接触的第一接触区域；以及在上下方向以及上述宽度方向上位于与上述第一接触区域不同的位置，且在上述第二接触位置与上述基板的周缘部接触的第二接触区域。本专利技术也面向基板反转方法，在基板反转装置中反转基板，上述基板反转装置具备：一对导向部，其具有与上述基板的周缘部接触的第一接触区域和在上下方向以及上述基板的宽度方向上位于与上述第一接触区域不同的位置且与上述基板的周缘部接触的第二接触区域；以及夹持反转机构，其夹持被上述一对导向部支撑的上述基板并使上述基板反转。本专利技术的优选的一方案的基板反转方法具备：a)将上述基板搬入上述基板反转装置的工序；b)在上述基板的上述宽度方向的两侧使位于第一接触位置的上述一对导向部的上述第一接触区域与水平姿态的上述基板的周缘部接触，并从下方支撑上述基板的工序；c)通过上述夹持反转机构夹持上述基板，且在使上述一对导向部退避至退避位置后，通过上述夹持反转机构反转上述基板的工序；d)从上述基板反转装置搬出上述基板的工序；e)将上述基板搬入上述基板反转装置的工序；f)使位于与上述第一接触位置不同的第二接触位置的上述一对导向部的第二接触区域与水平姿态的上述基板的周缘部接触，并从下方支撑上述基板的工序；g)通过上述夹持反转机构夹持上述基板，且在使上述一对导向部退避至退避位置后，通过上述夹持反转机构反转上述基板的工序；以及h)从上述基板反转装置搬出上述基板的工序。根据该基板反转方法，能够配合基板的状态，切换导向部的与基板的接触区域。本专利技术也面向基板处理方法。本专利技术的优选的一方案的基板处理方法具备：上述的基板反转方法；以及在上述d)工序与上述e)工序之间对上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板反转装置，其特征在于，具备：与水平姿态的基板的周缘部接触并从下方支撑所述基板的支撑机构；以及夹持被所述支撑机构支撑的所述基板并使所述基板反转的夹持反转机构，所述支撑机构具备：在所述基板的宽度方向的两侧与所述基板的周缘部接触的一对导向部；导向移动机构，其使所述一对导向部在与所述基板接触的接触位置与相比所述接触位置从所述基板离开了的退避位置之间进退；以及切换机构，其通过在第一接触位置与第二接触位置之间切换位于所述接触位置的所述一对导向部的位置，从而变更所述一对导向部与所述基板的接触状态，所述一对导向部的每一个具备：在所述第一接触位置与所述基板的周缘部接触的第一接触区域；以及在上下方向以及所述宽度方向上位于与所述第一接触区域不同的位置，且在所述第二接触位置与所述基板的周缘部接触的第二接触区域。

【技术特征摘要】
2017.08.30 JP 2017-1653171.一种基板反转装置，其特征在于，具备：与水平姿态的基板的周缘部接触并从下方支撑所述基板的支撑机构；以及夹持被所述支撑机构支撑的所述基板并使所述基板反转的夹持反转机构，所述支撑机构具备：在所述基板的宽度方向的两侧与所述基板的周缘部接触的一对导向部；导向移动机构，其使所述一对导向部在与所述基板接触的接触位置与相比所述接触位置从所述基板离开了的退避位置之间进退；以及切换机构，其通过在第一接触位置与第二接触位置之间切换位于所述接触位置的所述一对导向部的位置，从而变更所述一对导向部与所述基板的接触状态，所述一对导向部的每一个具备：在所述第一接触位置与所述基板的周缘部接触的第一接触区域；以及在上下方向以及所述宽度方向上位于与所述第一接触区域不同的位置，且在所述第二接触位置与所述基板的周缘部接触的第二接触区域。2.根据权利要求1所述的基板反转装置，其特征在于，在所述一对导向部的每一个中，所述第二接触区域位于比所述第一接触区域靠下侧且所述宽度方向内侧，所述切换机构通过变更所述一对导向部的所述宽度方向的距离，从而在所述第一接触位置与所述第二接触位置之间切换所述一对导向部的位置。3.根据权利要求1所述的基板反转装置，其特征在于，在所述一对导向部中的一方的导向部中，所述第二接触区域位于比所述第一接触区域靠下侧且所述宽度方向内侧，在所述一对导向部中的另一方的导向部中，所述第二接触区域位于比所述第一接触区域靠上侧且所述宽度方向外侧，所述切换机构通过以沿水平方向延伸的旋转轴为中心旋转所述一对导向部旋转，从而在所述一对导向部的所述第一接触区域位于所述上下方向的相同位置的所述第一接触位置与所述一对导向部的所述第二接触区域位于所述上下方向的相同位置的所述第二接触位置之间切换所述一对导向部的位置。4.根据权利要求1所述的基板反转装置，其特征在于，在所述一对导向部中的一方的导向部中，所述第二接触区域位于比所述第一接触区域靠下侧且所述宽度方向内侧，在所述一对导向部中的另一方的导向部中，所述第二接触区域位于比所述第一接触区域靠上侧且所述宽度方向外侧，所述切换机构通过相对于所述一方的导向部将所述另一方的导向部相对地沿所述上下方向移动，从而在所述一对导向部的所述第一接触区域位于所述上下方向的相同位置的所述第一接触位置与所述一对导向部的所述第二接触区域位于所述上下方向的相同位置的所述第二接触位置之间切换所述一对导向部的位置。5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板反转装置，其特征在于，因所述导向移动机构而引起的各导向部的移动方向相对于所述上下方向以及所述宽度方向倾斜。6.根据权利要求1至4中任一项所述的基板反转装置，其特征在于，所述切换机构通过将所述一对导向部与所述导向移动机构一同移动，从而在所述第一接触位置与所述第二接触位置之间切换所述一对导向部的位置。7.根据权利要求1至4中任一项所述的基板反转装置，其特征在于，在所述一对导向部的每一个中，所述第一接触区域以及所述第二接触区域是朝向上方的接触面，所述第一接触区域和所述第二接触区域呈台阶状地连接。8.一种基板处理装置，其特征在于，具备：权利要求1至7中任一项所述的基板反转装置；对通过所述基板反转装置反转后的基板的背面进行清洗的背面清洗处理部；以及在所述基板反转装置与所述背面清洗处理部之间搬送所述基板的基板搬送部。9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：配置有所述背面清洗处理部以及所述基板搬送部的清洗处理块；以及配置其它基板搬送部，将未处理基板交给所述清洗处理块，并且从所述清洗处理块接受已处理基板的分度块，所述基板反转装置配置于所述清洗处理块与所述分度块的连接部，在所述基板搬送部以及所述其它基板搬送部中的一方的搬送部将基板搬入到所述基板反转装置的情况下，通过所述基板反转装置反转后的所述基板被另一方的基板搬送部从所述基板反转装置搬出。10.一种基板支撑装置，其特征在于，具备：在基板的宽度方向的两侧与水平姿态的基板的周缘部接触并从下方支撑所述基板的一对导向部；以及切换机构，其通过在第一接触位置与第二接触位置之间切换所述一对导向部的位置，从而改变所述一对导向部与所述基板的接触状态，所述一对导向部的每一个具备：在所述第一接触位置与所述基板的周缘部接触的第一接触区域；以及在上下方向以及所述宽度方向上位于与所述第一接触区域不同的位置，且在所述第二接触位置与所述基板的周缘部接触的第二接触区域。11.一种基板反转方法，在基板反转装置中反转基板，所述基板反转装置具备：一对导向部，...

【专利技术属性】
技术研发人员：村元僚，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP