一种文本挖掘支援方法及装置，当显示表示对应分析的结果的散布图时，显示包含散布图与表示散布图的看法的启示的支援画面。当显示与单词及变数相关的散布图时，从不含启示的基本画面、含有原点附近的单词的判断方法作为启示的第1支援画面、含有对变数赋予...

本发明提供一种与输入信号的偏差无关而高精度地输出点时钟的时钟产生装置、时钟产生方法及使用了此时钟产生装置、时钟产生方法的图像记录装置。首先，基于从编码器输出的连续脉冲信号来设定多个区域。按多个区域中的每个区域，对频率比点时钟更高的基准时...

本发明涉及一种对印刷版上的感光材料进行描绘的描绘装置、以及描绘装置的污染防止方法。本发明减少描绘装置所具备的光照射单元的遮罩构件的污垢。描绘装置对印刷版上的感光材料进行曝光而在印刷版上描绘图像。具体而言，描绘装置具备：印刷版保持部，保持...

本发明提供一种通过利用处理部中的现有搬送机构能够进行基材的偏移状态的检测和修正的技术。基材处理装置包括搬送机构(10)、力检测部(30)、偏移修正部(40)、处理部及控制部。搬送机构将长带状的基材(9)沿着由多个辊构成的搬送路径在长度方...

本发明提供一种一面在长度方向上搬送长尺寸带状的基材一面进行处理的基材处理装置及在所述基材处理装置中，可不依靠形成在基材的表面上的对位标记等图像，而检测基材的搬送方向的位置或搬送速度的偏离量的检测方法。所述基材处理装置具有第1边缘传感器、...

本发明提供根据印刷条件能够适当地抑制在重复区域中产生颜色不均匀的喷墨印刷装置及喷墨印刷方法。该喷墨印刷装置的喷头单元具有上游侧喷头(51)和下游侧喷头(52)。下游侧喷头(52)在记录介质的宽度方向上与上游侧喷头(51)邻接，且在搬送方...

本发明提供一种即便在层叠基材的左右的端缘部的长度存在差的情况下，在剥离辊的搬送方向上游侧的位置上，也可以抑制层叠基材中产生松弛的基材处理装置及基材处理方法。所述装置具有吸附辊、剥离辊及导入部。导入部将层叠有电解质膜与支撑膜的层叠基材导入...

本发明涉及一种在涂布机构的移动方向上隔开的涂布膜的形成，其目的在于提供一种可高水平地维持涂布处理的精度，并可缩短涂布处理时间的涂布装置以及涂布方法。与本发明有关的涂布装置通过进行使第2涂布机构(16)到达第2端部(16y)的时机晚于第1...

在向旋转的基板(9)的上表面(91)依次供给纯水、混合液和有机溶剂之后，借助基板(9)的旋转来去除上表面(91)上的有机溶剂。混合液通过将表面张力小于纯水的有机溶剂和纯水混合而生成且温度高于常温。通过向提供了纯水的上表面(91)供给溶解...

从低表面张力液体供给单元向基板的上表面供给低表面张力液体，从而在基板上形成低表面张力液体的液膜。通过在有机溶剂的液膜的中央区域形成开口并使开口扩展，从基板的上表面排除液膜。一边从低表面张力液体供给单元朝向设置于开口的外侧的着落点向液膜供...

基板处理装置的基板保持部将基板(9)保持为水平状态。基板旋转机构使基板保持部以沿着上下方向延伸的中心轴J1为中心旋转。顶板(5)与基板(9)的上表面相向，并且以中心轴(J1)为中心旋转。气体供给部向下方空间的径向中央部供给处理环境用气体...

在基板(W)的被处理面上形成有包含金属成分及感光性材料的抗蚀膜之后，由边缘曝光部(41)对基板的周缘部照射光。由此，对基板的周缘部上的抗蚀膜的部分进行曝光。接着，通过由显影液喷嘴(43)对基板的周缘部供给显影液，由此对被曝光后的抗蚀膜的...

本发明由旋转卡盘来保持已将含有金属的涂布液的膜曝光成规定图案的基板。利用狭缝喷嘴对由旋转卡盘所支承的基板的被处理面供给显影液。利用清洗喷嘴对被供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。

一边使基板旋转一边使刷体的下表面沿着基板的上表面移动。通过使刷体以及喷雾嘴向上方从离位位置移动至下侧非接触位置，来使刷体的下表面离开基板的上表面。通过在刷体以及喷雾嘴位于下侧非接触位置的状态下使喷雾嘴产生多个液滴，来使多个液滴与基板的上...

本发明提供一种能够更适当地降低在狭缝喷嘴的侧面上残留的附着物的量的喷嘴清洁装置。该喷嘴清洁装置具有接触构件、清洗液贮存槽和喷嘴升降单元。接触构件与喷嘴的外表面的下部区域接触，并沿该外表面一边在水平方向上移动一边刮除在下部区域上附着的附着...

本发明提供一种上浮量计算装置、涂覆装置以及涂覆方法。在使基板从载台上浮地进行搬运并向基板涂覆涂覆液的涂覆装置中，无论基板的种类，都能高精度地求出从载台上浮的上浮量。涂覆装置具有：板厚测定用传感器，检测吸附部件中的吸附基板的下表面的吸附面...

本发明提供涂覆装置及方法。抑制从涂覆载台的上方向基板的上表面喷出涂覆液进行涂覆后将基板搬运至出口载台时产生涂覆不均。具有：搬运部，保持并搬运基板；喷嘴，向搬运的基板的上表面喷出涂覆液进行涂覆；涂覆载台，配置于喷嘴的下方位置，通过向搬运的...

本发明提供曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法。通过吸引装置将收纳有基板的处理室内的环境气体排出。在处理室内的氧浓度下降至预先设定的曝光开始浓度的时刻，通过光源部开始向基板照射真空紫外线。在向基板照射真空紫外线的照射期间，由照...

本发明提供一种曝光装置、基板处理装置、基板的曝光方法及基板处理方法。光源部向作为处理对象的基板的被处理面照射真空紫外线。在光源部向基板照射真空紫外线的照射期间，由照度计接收一部分真空紫外线，并测量接收到的真空紫外线的照度。照度计的受光面...

本发明提供一种基板处理装置及基板保持装置。基板保持部的板状的基部具有与中心轴垂直的上表面。支承部在基部的中央部的周围呈周状地配置，并从基部的上表面向上方突出。支承部用于支承基板的下表面。具有挠性的密封部在支承部的周围以整周配置。密封部的...