本实用新型是即使是大型的基板也能够充分抑制其带电的基板处理装置。基板处理装置(100)具备：载置部(42)，供载置基板(5)；腔室(41)，将载置在加热板(42)上的基板(5)的周围覆盖，并且形成有用于搬入基板(5)的搬入口(7)；搬运...

本发明将于基板(9)的膜(8)上彼此邻接而形成的光罩要素对(710)间的宽度作为光罩间隙宽度(G)，对于多个光罩间隙宽度中的每一个光罩间隙宽度，准备参照信息，该参照信息表示上表面间隙宽度(GT)与下表面间隙宽度(GB)的关系，该上表面间...

一种基板处理方法，使用处理液处理被保持为水平姿势的基板，所述基板处理方法包括置换工序，在该置换工序中，将附着于所述基板的上表面的处理液置换为表面张力低于该处理液的表面张力的低表面张力液体，所述置换工序执行如下工序：中央部喷出工序，从配置...

进行中央侧喷洗工序，该中央侧喷洗工序与使刷子接触基板的下表面倾斜部的下侧刷洗工序并行进行，在中央侧喷洗工序中，一边使多个液滴撞击基板的上表面，一边使多个液滴对基板的上表面的撞击位置在基板的中央与基板的中间之间移动。之后，进行外周侧喷洗工...

提供一种在锂离子电池的制造工序中，以非接触的方式进行膜的膜厚检查的技术，该膜包括形成于集电体的活性物质材料。膜厚测量装置(1)具有：太赫兹波照射部(10)，向样品(9)照射太赫兹波(LT1)；反射波检测部(30A)，具有用于检测被样品(...

在本发明的印刷装置中，版保持部和基材保持部中的一个是具有照相机校准用图案的校准图案保持部，并且控制机构具有：校准信息算出部，其基于由多个版拍摄照相机和多个基材拍摄照相机拍摄图案而获得的多个图像，求出与多个版拍摄照相机和多个基材拍摄照相机...

处理液供给装置包括：处理液罐，贮存处理液；第一处理液配管，使所述处理单元和所述处理液罐连接；开闭单元，用于开闭所述第一处理液配管；加压单元，为了使所述处理液罐的内部的处理液向所述第一处理液配管的内部送出，利用气体对该处理液进行加压；压力...

本发明提供在将印刷版安装于鼓的外周面时，能够避免印刷版的端缘被配置在特定的位置的图像记录装置以及图像记录方法。该图像记录装置判断是否处于印刷版(9)在副扫描方向上的端缘与特定的位置重叠的特定状态。然后，在处于特定状态的情况下，使印刷版(...

本发明的基板处理方法包括：包括：基板保持工序，将基板保持为水平；液膜形成工序，向所述基板的上表面供给处理液，来形成用于覆盖该基板的上表面的处理液的液膜；蒸气环境气体充满工序，使所述处理液的液膜的周围被蒸气环境气体充满，所述蒸气环境气体包...

本基板处理方法是使用处理液对基板的表面进行处理的基板处理方法，包括：混合液置换步骤，以第一液体与第二液体的混合液来置换附着在上述基板的表面的处理液，该第二液体的沸点比上述第一液体的沸点高且该第二液体具有比上述第一液体的表面张力低的表面张...

本发明提供喷出稳定性优异且能够以喷墨方式对药品、食品等片剂等直接印刷的可食性的喷墨用水性墨组合物。本发明的喷墨用水性墨组合物是用于喷墨记录的喷墨用水性墨组合物，其特征在于，至少包含着色剂以及以聚甘油辛酸酯为主要成分的喷出稳定剂，所述喷出...

本发明提供一种姿势变更装置，其将基板的姿势从水平姿势和垂直姿势中的一种姿势变更为另一种姿势。在姿势变更装置中，在垂直保持部和推动器之间进行基板的交接前，控制部基于基板的翘曲状态来控制保持部移动机构，从而使厚度方向上的水平保持部的位置相对...

本发明提供基板搬送装置及基板搬送方法。该基板搬运装置的搬入搬出机构搬运以水平姿势载置的基板。切口对准器将载置在搬入搬出机构上的予定的基板沿周向旋转，变更设置于基板周缘部的切口在周向上的位置。搬入搬出机构具备四个与基板周缘部的下表面相对的...

基板排列装置的基板对准机构，将第一基板组和第二基板组沿周向旋转并确定周向的朝向。保持部升降机构将第一基板组的多个第一基板，以与多个第二基板正面背面相反的朝向，分别配置在第二基板组的多个第二基板之间。第一基板组和第二基板组的各基板在第一径...

本发明提供基板对齐装置及方法、基板处理装置及方法、基板排列装置及方法。所述基板对齐装置的马达将下缘部以垂直姿势被基板保持部保持的预定的多张基板依次沿周向旋转。控制部基于就多张基板的翘曲状态输入的输入信息和翘曲‑切口位置信息控制马达，确定...

本发明提供能防止或抑制清洗液进入到药液回收配管，并能降低清洗用药液的消耗量的回收配管清洗方法及基板处理装置。该方法为清洗回收配管的方法，在基板处理中使用过的药液经由处理杯引导至回收配管，回收配管将引导至该回收配管的药液向预先设定的药液回...

本发明提供能由有机溶剂良好地处理基板，并使基板良好地干燥的基板处理方法和装置。该方法包括：基板保持工序，将基板保持为水平；基板旋转工序，使基板以沿着铅垂方向的旋转轴线为中心旋转；液膜形成工序，向基板的上表面供给处理上表面的第一有机溶剂，...

一种基板处理装置和基板处理方法，该技术在基板处理装置或基板处理方法中，能够将处理槽中的处理液的浓度更可靠地保持为适合在该处理槽中进行的处理的浓度。一种基板处理装置，其是将基板浸渍在混合酸水溶液中而对该基板进行蚀刻处理的基板处理装置，包括...

本发明提供基板处理装置及基板处理方法。即使在一次蚀刻处理中溶解的蚀刻对象物的量多的情况下也能使处理槽内的处理液浓度稳定。基板处理装置以向包括规定的药液以及纯水的处理液浸渍基板的方式对该基板进行规定的处理。此外，其具备：处理槽，用于进行规...

本发明涉及一种基板处理装置，其包括：烘烤腔室，在其内部对基板进行加热处理，并且在规定方向上层叠有多个；处理单元，其具有与所述烘烤腔室不同的液体处理腔室，并且用处理液对基板进行液体处理；包围隔离空间，其用于包围所述多个烘烤腔室的侧方，并且...