株式会社斯库林集团专利技术

株式会社斯库林集团共有1565项专利

  • 干燥方法、干燥装置、电极制造方法以及电极制造装置
    本发明提供一种能够以更短时间使含有电极材料和溶媒的涂敷膜干燥的技术。本发明的干燥方法具有:一次干燥工序(步骤S104),加热含有电极材料和溶媒的涂敷膜,使溶媒挥发;第二溶媒供给工序(步骤S105),向在一次干燥工序中溶媒部分挥发的涂敷膜...
  • 基板清洗装置及具备该基板清洗装置的基板处理装置
    本发明涉及一种基板清洗装置及具备该基板清洗装置的基板处理装置,所述基板清洗装置包括具有圆形的上端面的清洗刷,通过使清洗刷的上端面与利用旋转夹具旋转的基板的下表面接触,来清洗基板的下表面。为了清洗清洗刷,设置空间形成构件。空间形成构件具有...
  • 基板处理方法
    本发明提供一种能缩短形成低表面张力液体的液膜所需的时间并良好地排除液膜的基板处理方法。该方法包括:基板保持工序,将基板保持为水平;处理液供给工序,向基板供给包含水的处理液;基板旋转工序,使基板旋转;液膜形成工序,使基板以第一旋转速度旋转...
  • 基板处理方法
    一种基板处理方法,包括:将基板保持为水平的基板保持工序;将比水的表面张力更低的低表面张力液体供给至被保持为水平的基板的上表面,形成低表面张力液体的液膜的液膜形成工序;在液膜的中央区域形成开口的开口形成工序;通过将开口扩大而将液膜从被保持...
  • 基板处理装置和喷嘴清洗方法
    本发明涉及一种基板处理装置和喷嘴清洗方法,该基板处理装置的控制装置执行:液柱形成工序,在旋转夹具没有保持基板时,通过使下面喷嘴喷出清洗液,形成从下面喷嘴向上方延伸的液柱;以及,第一下垂部清洗工序,与液柱形成工序并行地执行,通过使上面喷嘴...
  • 基板处理方法
    一种基板处理方法,其包括:将基板水平保持的基板保持工序;在前述被保持为水平的基板的上表面相向配置相向部件的相向配置工序;由前述被保持为水平的基板、前述相向部件、以及在俯视下包围前述被保持为水平的基板及前述相向部件的挡板形成与外部的环境气...
  • 减压干燥装置、减压干燥系统、减压干燥方法
    本发明提供减压干燥装置、减压干燥系统、减压干燥方法。减压干燥装置包括:支撑部,对涂布有膜的基板进行支撑;基板收容部,包含可连接分离的第1覆盖部及第2覆盖部,将支撑于支撑部的基板收容于第1覆盖部与第2覆盖部之间的处理空间;连接分离驱动部,...
  • 周缘部处理装置及周缘部处理方法
    本发明提供一种周缘部处理装置及周缘部处理方法。由旋转夹具保持基板,来使该基板旋转。从喷出部向由旋转夹具旋转的基板喷出处理液。喷出部具有沿着一方向排列的多个喷出口,能够从多个喷出口分别选择性地喷出处理液。在喷出部的多个喷出口的排列横穿由旋...
  • 基板处理装置和基板处理方法
    本发明的目的是提供一种基板处理装置和基板处理方法,可以根据曝光装置的状态来抑制基板的处理效率的下降并将适当状态的基板搬入曝光装置中。曝光处理前的基板被搬入到载置兼冷却部并被冷却。利用搬送装置对冷却了的基板进行保持并将其搬出载置兼冷却部。...
  • 泵装置及基板处理装置
    本发明提供泵装置及基板处理装置。该泵装置包括驱动机构,该驱动机构通过使两个隔膜变形,来交替地增加及减小供给室的容积。此时,针对单个供给室设置有两个隔膜。由此,即使各个隔膜的变形量受到限制,也能够吸引并送出所希望的体积量的液体。另外,由于...
  • 基板处理方法
    本发明涉及一种基板处理方法,所述基板处理方法具有溶剂供给工序,在该溶剂供给工序中,向基板的中央部供给溶剂,且使基板的转速增加,在溶剂供给工序中,直到溶剂到达基板的周缘的时刻为止,持续向基板供给溶剂。根据这样的基板处理方法,既能够有效地抑...
  • 吸附辊、涂敷装置及膜电极接合体的制造装置
    本发明提供一种能够抑制因从吸附辊的外周面的开放区域进入的气体,而导致封闭区域的吸引力下降的问题,并且能够抑制因滑动而劣化的结构。在辊主体和侧板之间,插入具有节流孔的孔板。在辊主体的外周面中的被基底材料覆盖的封闭区域,由多个吸附孔产生的负...
  • 热处理装置、基板处理装置、热处理方法及基板处理方法
    本发明公开热处理装置、基板处理装置、热处理方法及基板处理方法。在该处理装置的室内容纳有加热板。在该室内存在含溶剂气体的状态下,在加热板的上方位置保持形成有DSA膜的基板。由此,以不产生微相分离的温度对环境气体进行中性化。然后,在该室内存...
  • 位移检测装置、位移检测方法及基板处理装置
    本发明提供一种能够以优异的精度检测定位对象物相对基准位置在实际空间中的位移的技术。位移检测装置包括:拍摄机构,其将定位对象物或与定位对象物一体地位移的物体作为拍摄对象物,拍摄包括该拍摄对象物的图像;位移检测机构,其从由拍摄机构拍摄到的图...
  • 印刷方法及印刷装置
    缩短使用平板状的凹版对平板状的基材进行印刷所需的时间也即生产节拍时间。包括:填充工序,将印刷材料填充至平板状的凹版的表面所形成的凹部;接受工序,使转印部接受凹部中所填充的印刷材料;及转印工序,将转印部所接受的印刷材料转印至平板状的基材,...
  • 基板处理系统
    本发明提供一种能够抑制基板的污染且布局的自由度较高的基板处理系统。本发明的FOUP搬送部300是由能够调整长度的轨道32及能够自行推进的FOUP保持部30构成。因此,可通过单位轨道320的装卸及基板处理装置20的追加、去除这样的容易的作...
  • 本发明提供颜料的平均分散粒径小、分散性优异且能够以喷墨方式对药品、食品等片剂等直接印刷的可食性的颜料组合物及喷墨用水性墨组合物。本发明的颜料组合物包括由氧化铁组成的有色颜料以及质均分子量为1500~10000的聚丙烯酸钠,所述由氧化铁组...
  • 基板处理装置
    本发明提供一种基板处理装置,包括:多个夹具构件(13),其通过将基板夹持为水平而将上述基板保持为水平的姿势;处理液供给单元,向基板(W)供给处理液;以及热源,配置于基板的上方。夹具构件(13)包括:导电性构件(41),至少一部分由含有碳...
  • 基板处理方法以及基板处理装置
    本发明涉及基板处理方法及装置,基板处理方法由基板处理装置执行,装置包括:回收杯,划分出引导使用过的药液的回收空间,回收配管,回收引导至回收空间的药液,排液配管,排出液体,切换单元,将液体在回收配管和排液配管间切换,方法包括:药液供给工序...
  • 热处理装置、基板处理装置和热处理方法
    本发明提供可提高基板的面内温度均匀性的热处理装置、具备该热处理装置的基板处理装置以及热处理方法。热处理装置含有待机部、加热部和搬送机构。待机部含有多个支承销。搬送机构含有对基板进行保持的搬送臂,通过移动搬送臂在待机部与加热部之间搬送基板...