基板处理装置及基板处理方法制造方法及图纸

在基板(W)的被处理面上形成有包含金属成分及感光性材料的抗蚀膜之后，由边缘曝光部(41)对基板的周缘部照射光。由此，对基板的周缘部上的抗蚀膜的部分进行曝光。接着，通过由显影液喷嘴(43)对基板的周缘部供给显影液，由此对被曝光后的抗蚀膜的部分进行显影处理。由此，除去在基板的周缘部上形成的抗蚀膜的部分。然后，将基板搬送至曝光装置(15)。通过在曝光装置中对基板进行曝光处理，由此在抗蚀膜上形成曝光图案，接着通过在显影处理单元(139)中对曝光处理后的基板供给显影液，由此进行抗蚀膜的显影处理。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置及基板处理方法
本专利技术涉及一种对基板进行处理的基板处理装置及基板处理方法。
技术介绍
在制造半导体设备等的光刻工序中，通过对基板上供给抗蚀液等涂布液而形成涂布膜。例如，能通过旋转卡盘使基板一边保持于水平一边旋转。在该状态下，通过从抗蚀喷嘴向基板的上表面的大致中央部喷出抗蚀液，就能在基板的整个上表面上形成作为涂布膜的抗蚀膜。此处，若在基板的周缘部存在有抗蚀膜，就会在用于搬送基板的搬送机构把持基板的周缘部时，使抗蚀膜的一部分剥离并成为颗粒。于是，通过从边缘冲洗喷嘴对基板的周缘部喷出有机溶剂来溶解基板的周缘部的抗蚀膜。由此，除去基板的周缘部的抗蚀膜(例如，参照专利文献1)。现有技术文献专利文献1：日本特开平6-124887号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题近年来，为了形成更微细的图案，已有研究应用含有金属成分的涂布膜(以下，称为含金属涂布膜)的技术。然而，通过专利技术人的实验，可明白即便是在通过对形成于基板上的含金属涂布膜的周缘部喷出有机溶剂来除去基板的周缘部的涂布膜的情况下，含有金属成分的涂布膜成分仍无法被除去而残留于基板的周缘部上。因此，残留于基板的周缘部的金属成分会导致基板处理装置以及邻接的曝光装置被污染。本专利技术的目的在于提供一种能够防止因在基板的周缘部上残留的金属成分引起的金属污染的发生的基板处理装置及基板处理方法。解决问题的技术方案(1)本专利技术的一个实施方式的基板处理装置，被配置为与对基板进行曝光处理的曝光装置邻接，该基板处理装置具有：膜形成单元，用于在基板的被处理面上形成含金属感光性膜，该含金属感光性膜包含金属成分及感光性材料；边缘曝光部，用于对形成含金属感光性膜后的基板的周缘部照射光；边缘显影处理部，通过对基板的周缘部供给显影液，由此对已经被边缘曝光部照射光的含金属感光性膜的部分进行显影处理；搬送机构，用于将由边缘显影处理部进行显影处理后的基板搬送至曝光装置；以及显影处理单元，通过对曝光装置中的曝光处理后的基板供给显影液，由此进行含金属感光性膜的显影处理。以下，将由边缘曝光处理部进行的含金属感光性膜的曝光处理称为边缘曝光处理，将由边缘显影处理部进行的含金属感光性膜的显影处理称为边缘显影处理。在该基板处理装置中，在基板的被处理面上形成有含金属感光性膜的后，对基板的周缘部照射光。由此，对基板的周缘部上的含金属感光性膜的部分进行曝光，作为边缘曝光处理。接着，通过对基板的周缘部供给显影液，由此对被曝光后的含金属感光性膜的部分进行显影处理，作为边缘显影处理。然后，将基板搬送至曝光装置。通过在曝光装置中对基板进行曝光处理，由此在含金属感光性膜上形成曝光图案，接着通过在显影处理单元中对曝光处理后的基板供给显影液，由此进行含金属感光性膜的显影处理。如此，在基板上形成有含金属感光性膜之后、且在基板被搬送至曝光装置之前，对基板的周缘部上的含金属感光性膜的部分进行边缘曝光处理及边缘显影处理。由此，可以从基板的周缘部上适当地除去含金属感光性膜。因此，能防止基板的周缘部上残留金属成分，并且能充分地防止在基板处理装置及曝光装置中发生金属污染。(2)膜形成单元，也可以包含：旋转保持部，用于保持基板并使该基板旋转；以及液体供给部，用于对由旋转保持部旋转的基板的被处理面供给含金属感光性膜用的涂布液。边缘曝光部可以构成为在由液体供给部供给涂布液后，对由旋转保持部旋转的基板的周缘部照射光。在该情况下，一边由共用的旋转保持部使基板旋转，一边由液体供给部对基板的被处理面供给含金属感光性膜用的涂布液，并且由边缘曝光部对基板的周缘部上的含金属感光性膜的部分照射光。由此，可以在共用的空间中进行含金属感光性膜的形成及边缘曝光处理。因此，可以抑制装置成本的增加及基板处理装置的大型化。(3)膜形成单元还可以包括：第一除去液供给部，用于在由液体供给部供给涂布液后，对由旋转保持部旋转的基板的周缘部供给使涂布液溶解的第一除去液。在该情况下，通过对基板的周缘部供给第一除去液，从基板的周缘部上更充分地除去含金属感光性膜。因此，更充分地防止在基板的周缘部上残留金属成分。(4)边缘显影处理部可以构成为在由边缘曝光部进行光照射后，对由旋转保持部旋转的基板的周缘部喷出显影液。在该情况下，除了含金属感光性膜的形成及边缘曝光处理以外，还可以在共用的空间中进行边缘显影处理。由此，可以进一步抑制装置成本的增加及基板处理装置的大型化。此外，在形成含金属感光性膜后，不用从旋转保持部中搬送基板，就可以除去基板的周缘部上的含金属感光性膜的部分。因此，防止基板搬送时的金属成分的扩散，并且更充分地防止金属污染的发生。(5)基板处理装置还可以具有：加热部，构成为在由边缘曝光部进行光照射后、且在由边缘显影处理部进行显影处理前，对由旋转保持部旋转的基板的周缘部进行加热。在该情况下，通过对边缘曝光处理后的基板的周缘部进行加热，可以促进由边缘曝光处理产生的生成物(酸)的催化作用，并且提高显影液对含金属感光性膜的溶解性。由此，能够减少边缘曝光处理的光照射量，并且可以改善边缘曝光处理的产能。(6)边缘显影处理部可以设置在显影处理单元中。在该情况下，可以在共用的显影处理单元中，分别进行含金属感光性膜的边缘显影处理及普通显影处理。由此，可以抑制装置成本的增加及基板处理装置的大型化。(7)边缘显影处理部及显影处理单元可以具有能够喷出显影液的共用的显影液喷嘴。在该情况下，可以使用共用的显影处理喷嘴分别进行边缘显影处理及普通的显影处理。由此，能够进一步削减装置成本。(8)基板处理装置还可以具有：热处理单元，用于对由边缘曝光部进行光照射后、且由边缘显影处理部进行的显影处理前的基板进行加热处理。在该情况下，可以在热处理单元中，同时进行由曝光装置进行的曝光处理前的基板的加热处理、以及边缘曝光处理后的基板的周缘部的加热处理。由此，可以缩短基板的处理时间。(9)基板处理装置还可以具有：第二除去液供给部，用于在由边缘显影处理部进行显影处理后，对基板的周缘部供给使金属成分溶解的第二除去液。在该情况下，可以更充分地防止在基板的周缘部上残留金属成分。(10)依照本专利技术的另一实施方式的基板处理方法包括：由膜形成单元在基板的被处理面上形成含金属感光性膜，该含金属感光性膜的步骤；由边缘曝光部对形成含金属感光性膜后的基板的周缘部照射光的步骤；由边缘显影处理部通过对基板的周缘部供给显影液，由此对已经被边缘曝光部照射光的含金属感光性膜的部分进行显影处理的步骤；将由边缘显影处理部进行显影处理后的基板搬送至曝光装置的步骤；以及在显影处理单元中通过对曝光装置中的曝光处理后的基板供给显影液，由此进行含金属感光性膜的显影处理的步骤。依据该基板处理方法，在基板的被处理面上形成有含金属感光性膜之后，对基板的周缘部照射光。由此，对基板的周缘部上的含金属感光性膜的部分进行曝光。接着，通过对基板的周缘部供给显影液，由此对被曝光后的含金属感光性膜的部分进行显影处理。然后，将基板搬送至曝光装置。通过在曝光装置中对基板进行曝光处理，由此在含金属感光性膜上形成曝光图案，接着通过在显影处理单元中对曝光处理后的基板供给显影液，由此进行含金属感光性膜的显影处理。如此，在基板上形成有含金属感光性膜之后、并且在基板被搬送至曝光装置之前，对基板的周缘部本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，被配置为与对基板进行曝光处理的曝光装置邻接，所述基板处理装置具有：膜形成单元，用于在基板的被处理面上形成含金属感光性膜，所述含金属感光性膜包含金属成分及感光性材料；边缘曝光部，用于对形成含金属感光性膜后的基板的周缘部照射光；边缘显影处理部，通过对基板的周缘部供给显影液，由此对已经被所述边缘曝光部照射光的含金属感光性膜的部分进行显影处理；搬送机构，用于将由所述边缘显影处理部进行显影处理后的基板搬送至所述曝光装置；以及显影处理单元，通过对在所述曝光装置中进行曝光处理后的基板供给显影液，由此进行含金属感光性膜的显影处理。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.17 JP 2016-0280121.一种基板处理装置，被配置为与对基板进行曝光处理的曝光装置邻接，所述基板处理装置具有：膜形成单元，用于在基板的被处理面上形成含金属感光性膜，所述含金属感光性膜包含金属成分及感光性材料；边缘曝光部，用于对形成含金属感光性膜后的基板的周缘部照射光；边缘显影处理部，通过对基板的周缘部供给显影液，由此对已经被所述边缘曝光部照射光的含金属感光性膜的部分进行显影处理；搬送机构，用于将由所述边缘显影处理部进行显影处理后的基板搬送至所述曝光装置；以及显影处理单元，通过对在所述曝光装置中进行曝光处理后的基板供给显影液，由此进行含金属感光性膜的显影处理。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述膜形成单元包括：旋转保持部，用于保持基板并使所述基板旋转；以及液体供给部，用于对由所述旋转保持部旋转的基板的所述被处理面供给含金属感光性膜用的涂布液，所述边缘曝光部构成为，在由所述液体供给部供给涂布液后，对由所述旋转保持部旋转的基板的周缘部照射光。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述膜形成单元还包括：第一除去液供给部，用于在由所述液体供给部供给涂布液后，对由所述旋转保持部旋转的基板的周缘部供给使所述涂布液溶解的第一除去液。4.根据权利要求2或3所述的基板处理装置，其中，所述边缘显影处理部构成为，在由所述边缘曝光部照射光后，对由所述旋转保持部旋转的基板的周缘部喷出显影液。5.根据权利要求2～4中任一项所述的基板处理装置，其中，所述基板处理装置还具有：加热部，所述加热部构成为，在由所述边缘曝光部照射光后、且在由所述边缘显影...

【专利技术属性】
技术研发人员：春本将彦，浅井正也，田中裕二，金山幸司，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP