The invention provides a technique for detecting and correcting the offset state of a substrate by utilizing an existing conveying mechanism in a processing unit. The substrate processing device comprises a moving mechanism (10), a force detecting unit (30), a deviation correction unit (40), a processing unit and a control unit. The conveying mechanism conveys a long strip-shaped substrate (9) along a conveying path composed of a plurality of rollers in a long direction. The force detection part measures the force in the rotating shaft direction of at least one detection roller (31) applied to a plurality of rollers. The control unit predicts the offset state of the substrate and outputs the offset prediction information based on the force applied to the detection roll in the direction of the rotation axis. The offset correction unit (40) corrects the relative position of the substrate relative to the processing unit in the width direction based on the offset prediction information. Therefore, the offset state of the substrate (9) can be detected by using the rolls of the existing conveying mechanism (10) in the processing unit, and the relative position of the substrate (9) relative to the processing unit in the width direction can be corrected.
【技术实现步骤摘要】
基材处理装置以及基材处理方法
本专利技术涉及一种将长带状的基材在长度方向上搬送并处理基材,而且进一步对基材的偏移进行修正的基材处理装置以及基材处理方法。
技术介绍
以往,已知有利用多个辊将长带状的基材在长度方向上搬送,并且对基材进行各种处理的基材处理装置。在这种基材处理装置中,有时由于基材的位置在宽度方向上从理想的位置错位,从而基材偏移地搬送。若基材产生偏移,则存在导致处理品质下降的担忧。因此,在基材处理装置中,搭载用于抑制这种偏移的偏移修正装置。例如,在专利文献1中记载了以往的偏移修正装置。专利文献1的系统利用边缘位置传感器来高精度地测量薄条(Web)在横向上的位置,进一步确定横向移动的频率。并且,在将薄条搬送到印刷处理机之前,基于所确定的频率操作薄条的朝向,来补偿横向移动。专利文献1:日本特开2015-013753号公报
技术实现思路
然而,当在搬送基材的过程中在处理部的上游侧进行偏移修正时,存在在将基材搬送到处理部之前再次产生偏移的担忧。另外,如单程印刷方式的处理装置那样,当在基材的搬送方向上设置多个处理喷头时,存在通过各个处理喷头时的基材的偏移状态进一步产生变化的担忧。另外,当在靠近处理部的位置上进行偏移修正时,由于在处理部附近配置有现有的处理装置,因此,难以确保用于配置新的偏移修正装置的空间。本专利技术是鉴于这种情况而提出的,其目的在于,提供一种能够通过利用处理部中的现有的搬送机构来进行基材的偏移状态的检测和修正的技术。为了解决上述课题,本申请的第一专利技术的基材处理装置,包括:搬送机构,其将长带状的基材沿着由多个辊构成的搬送路径在长度方向上搬送;处 ...
【技术保护点】
1.一种基材处理装置,其中,包括:搬送机构,将长带状的基材沿着由多个辊构成的搬送路径在长度方向上搬送;处理部,在所述搬送路径上的处理位置处理所述基材;力检测部,检测作为所述多个辊中的至少一个的检测辊的在旋转轴方向上的力;偏移预测部,基于所述检测辊的在旋转轴方向上的力,预测所述基材的偏移并输出偏移预测信息;以及偏移修正部,基于所述偏移预测信息,修正所述基材相对所述处理部在宽度方向上的相对位置。
【技术特征摘要】
2017.03.26 JP 2017-0602601.一种基材处理装置,其中,包括:搬送机构,将长带状的基材沿着由多个辊构成的搬送路径在长度方向上搬送;处理部,在所述搬送路径上的处理位置处理所述基材;力检测部,检测作为所述多个辊中的至少一个的检测辊的在旋转轴方向上的力;偏移预测部,基于所述检测辊的在旋转轴方向上的力,预测所述基材的偏移并输出偏移预测信息;以及偏移修正部,基于所述偏移预测信息,修正所述基材相对所述处理部在宽度方向上的相对位置。2.根据权利要求1所述的基材处理装置,其中,所述检测辊位于所述处理部的下方。3.根据权利要求1或2所述的基材处理装置,其中,所述偏移修正部通过改变作为所述多个辊中的至少一个的修正辊的位置或者朝向,来修正所述基材相对所述处理部在宽度方向上的相对位置。4.根据权利要求3所述的基材处理装置,其中,所述修正辊位于所述处理部的下方。5.根据权利要求1或2所述的基材处理装置,其中,还包括:频率算出部,基于所述检测辊的在旋转轴方向上的力,算出所述检测辊的在旋转轴方向上的力的增减的频率,所述偏移预测部基于所述频率,预测所述基材的偏移并输出所述偏移预测信息。6.根据权利要求1或2所述的基材处理装置,其中,所述力检测部具有测力传感器,所述测力传感器固定于所述检测辊。7.根据权利要求1或2所述的基材处理装置,其中,所述力检测部具有测力传感器,所述搬送机构具有:主体;所述多个辊;以及一个或多个轴承部,直接或间接地固定于所述主体,将所述多个辊分别支撑为能够旋转,所述测力传感器固定于所述轴承部。8.根据权利要求3所述的基...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。