基材处理装置以及基材处理方法制造方法及图纸

技术编号:19112386 阅读:28 留言:0更新日期:2018-10-10 00:50
本发明专利技术提供一种通过利用处理部中的现有搬送机构能够进行基材的偏移状态的检测和修正的技术。基材处理装置包括搬送机构(10)、力检测部(30)、偏移修正部(40)、处理部及控制部。搬送机构将长带状的基材(9)沿着由多个辊构成的搬送路径在长度方向上搬送。力检测部测量施加在多个辊中的至少一个检测辊(31)的在旋转轴方向上的力。控制部基于施加于检测辊的在旋转轴方向上的力,预测基材的偏移状态,并输出偏移预测信息。偏移修正部(40)基于偏移预测信息,修正基材相对处理部在宽度方向上的相对位置。因此,通过使用处理部中的现有搬送机构(10)的辊,能够检测基材(9)的偏移状态,且修正基材(9)相对处理部在宽度方向上的相对位置。

Substrate processing device and substrate processing method

The invention provides a technique for detecting and correcting the offset state of a substrate by utilizing an existing conveying mechanism in a processing unit. The substrate processing device comprises a moving mechanism (10), a force detecting unit (30), a deviation correction unit (40), a processing unit and a control unit. The conveying mechanism conveys a long strip-shaped substrate (9) along a conveying path composed of a plurality of rollers in a long direction. The force detection part measures the force in the rotating shaft direction of at least one detection roller (31) applied to a plurality of rollers. The control unit predicts the offset state of the substrate and outputs the offset prediction information based on the force applied to the detection roll in the direction of the rotation axis. The offset correction unit (40) corrects the relative position of the substrate relative to the processing unit in the width direction based on the offset prediction information. Therefore, the offset state of the substrate (9) can be detected by using the rolls of the existing conveying mechanism (10) in the processing unit, and the relative position of the substrate (9) relative to the processing unit in the width direction can be corrected.

【技术实现步骤摘要】
基材处理装置以及基材处理方法
本专利技术涉及一种将长带状的基材在长度方向上搬送并处理基材,而且进一步对基材的偏移进行修正的基材处理装置以及基材处理方法。
技术介绍
以往,已知有利用多个辊将长带状的基材在长度方向上搬送,并且对基材进行各种处理的基材处理装置。在这种基材处理装置中,有时由于基材的位置在宽度方向上从理想的位置错位,从而基材偏移地搬送。若基材产生偏移,则存在导致处理品质下降的担忧。因此,在基材处理装置中,搭载用于抑制这种偏移的偏移修正装置。例如,在专利文献1中记载了以往的偏移修正装置。专利文献1的系统利用边缘位置传感器来高精度地测量薄条(Web)在横向上的位置,进一步确定横向移动的频率。并且,在将薄条搬送到印刷处理机之前,基于所确定的频率操作薄条的朝向,来补偿横向移动。专利文献1:日本特开2015-013753号公报
技术实现思路
然而,当在搬送基材的过程中在处理部的上游侧进行偏移修正时,存在在将基材搬送到处理部之前再次产生偏移的担忧。另外,如单程印刷方式的处理装置那样,当在基材的搬送方向上设置多个处理喷头时,存在通过各个处理喷头时的基材的偏移状态进一步产生变化的担忧。另外,当在靠近处理部的位置上进行偏移修正时,由于在处理部附近配置有现有的处理装置,因此,难以确保用于配置新的偏移修正装置的空间。本专利技术是鉴于这种情况而提出的,其目的在于,提供一种能够通过利用处理部中的现有的搬送机构来进行基材的偏移状态的检测和修正的技术。为了解决上述课题,本申请的第一专利技术的基材处理装置,包括:搬送机构,其将长带状的基材沿着由多个辊构成的搬送路径在长度方向上搬送;处理部,其在所述搬送路径上的处理位置处理基材;力检测部,检测作为所述多个辊中的至少一个的检测辊的在旋转轴方向上的力;偏移预测部,基于所述检测辊的在旋转轴方向上的力,预测所述基材的偏移并输出偏移预测信息;偏移修正部,基于所述偏移预测信息,修正所述基材相对所述处理部在宽度方向上的相对位置。本申请的第二专利技术的基材处理方法,将长带状的基材沿着由多个辊构成的搬送路径在长度方向上搬送,并且在所述搬送路径上的处理位置处理基材,该基材处理方法包括:步骤a),其检测作为所述多个辊中的至少一个所述检测辊的在旋转轴方向上的力,步骤b),其基于所述检测辊的在旋转轴方向上的力,预测所述基材的偏移并输出偏移预测信息,步骤c),其基于所述偏移预测信息,修正所述基材在宽度方向上的位置。根据本申请的第一专利技术和第二专利技术,能够使用位于处理部的下方的现有辊来检测基材的偏移状态,还能够修正基材相对处理部在宽度方向上的相对位置。由此,在已修正基材的偏移的状态下,能够对基材进行处理。附图说明图1是表示印刷装置的结构的图。图2是表示力检测部和偏移修正部的例子的图。图3是表示控制部与印刷装置内的各个部的连接的框图。图4是概念性地表示施加在基材的轴向上的张力与从检测辊受到的摩擦力之间的关系的图。图5是表示偏移的检测处理和修正处理的流程的流程图。图6是表示根据变形例的力检测部的结构的图。图7是表示根据变形例的力检测部和偏移修正部的结构的图。附图标记说明1:印刷装置9、9B、9C:基材10、10B:搬送机构11:卷出部12:卷取部13:驱动辊(搬送辊)14:从动辊(搬送辊)15B:主体框架16B:轴承部30、30B、30C:力检测部31、31B、31C:检测辊32、32B:测力传感器33、33C:布线34C:位移传感器35C:轴向力算出部40、40C:偏移修正部41、41C:修正辊50:图像记录部51:记录喷头60:控制部61:搬送控制部62:喷头控制部63:频率算出部64:偏移预测部65:偏移控制部90、90C:中心轴310、310C:旋转轴311:辊部601:运算处理部602:存储器603:存储部D:数据Fx:摩擦力P:计算机程序Sa:驱动指令信号Sb:喷出指令信号Sc:力信息Sd:频率信息Se:偏移预测信息Sf:修正指令信号Sw:箭头T:张力Tx:张力具体实施方式以下,参照附图说明本专利技术的实施方式。需要说明的是,以下,将搬送基材9的方向称作“搬送方向”,将垂直于搬送方向的水平方向称作“宽度方向”。<1.印刷装置的结构>图1是表示本专利技术的基材处理装置的一实施方式的印刷装置1的结构的图。该印刷装置1是在长度方向上搬送长带状的基材9,并且以喷墨的方式在基材9的表面上记录多色图像的装置。在本实施方式中,作为基材9可使用例如由合成树脂形成的薄膜。如图1所示,印刷装置1包括搬送机构10、力检测部30、偏移修正部40、图像记录部50以及控制部60。搬送机构10是用于沿着规定的搬送路径搬送基材9的机构。本实施方式的搬送机构10具有卷出部11、卷取部12以及多个搬送辊13、14。卷出部11和卷取部12与成为动力源的马达相连结。多个搬送辊13、14包括:驱动辊13,其借助马达的动力而主动进行旋转;从动辊14,其不与马达连结而随着基材9的移动进行旋转。多个搬送辊13、14构成基材9的搬送路径。各个搬送辊13、14分别以水平轴(沿宽度方向延伸的中心轴90)为中心进行旋转,由此,向搬送路径的下游侧引导基材9。另外,通过使基材9与多个搬送辊13、14接触来向基材9施加搬送方向的张力T。若控制部60使与卷出部11、卷取部12以及驱动辊13连结的马达驱动,则卷出部11、卷取部12以及驱动辊13分别进行旋转。因此,能够从卷出部11抽出基材9,基材9经由多个搬送辊13、14搬送至卷取部12。力检测部30检测作为施加于多个搬送辊13、14中的至少一个的后述检测辊31的在旋转轴方向上的力。其是,当因基材9偏移而在宽度方向上向基材9施加张力Tx时,检测辊31受到的来自基材9的摩擦力(反作用力)。在图1的例子中,在后述的图像记录部50的四个记录喷头51的每个的下方附近且后述的各个偏移修正部40的紧邻上游侧,分别配置一个力检测部30,合计配置有四个。但是,印刷装置1所具有的力检测部30的数量可以是一个~三个,也可以是五个以上。作为力检测部30例如可使用如下机构:利用测力传感器来检测施加在作为从动辊14的后述的检测辊31的旋转轴的负荷。详细内容将在后面进行详述。需要说明的是,力检测部30将作为测量结果的力信息Sc向后述的控制部60的频率算出部63和偏移预测部64输出。偏移修正部40具有用于修正基材9在宽度方向上的位置的机构。在图1的例子中,偏移修正部40配置在各个力检测部30的下游侧,即在后述的图像记录部50的四个记录喷头51的每个的下方配置一个偏移修正部40,合计配置有四个。但是,印刷装置1所具有的偏移修正部40的数量可以是一个~三个,也可以是五个以上。图2是表示力检测部30和偏移修正部40的例子的图。图2的偏移修正部40具有修正辊41。修正辊41和上述的检测辊31均为搬送机构10的多个搬送辊13、14中的至少一个。另外,通过使修正辊41与上述的检测辊31分别与基材9接触地进行旋转来向下游侧引导基材9。另外,在修正辊41连接有省略图示的移动机构。若使移动机构动作,则修正辊41如图2中的箭头Sw那样在宽度方向上进行摆动。如上所述,通过改变修正辊41在中心轴90方向上的位置或者修正辊41相对中心轴90的倾斜,来修正基材9相对图像记录部50在宽度方向本文档来自技高网...
基材处理装置以及基材处理方法

【技术保护点】
1.一种基材处理装置,其中,包括:搬送机构,将长带状的基材沿着由多个辊构成的搬送路径在长度方向上搬送;处理部,在所述搬送路径上的处理位置处理所述基材;力检测部,检测作为所述多个辊中的至少一个的检测辊的在旋转轴方向上的力;偏移预测部,基于所述检测辊的在旋转轴方向上的力,预测所述基材的偏移并输出偏移预测信息;以及偏移修正部,基于所述偏移预测信息,修正所述基材相对所述处理部在宽度方向上的相对位置。

【技术特征摘要】
2017.03.26 JP 2017-0602601.一种基材处理装置,其中,包括:搬送机构,将长带状的基材沿着由多个辊构成的搬送路径在长度方向上搬送;处理部,在所述搬送路径上的处理位置处理所述基材;力检测部,检测作为所述多个辊中的至少一个的检测辊的在旋转轴方向上的力;偏移预测部,基于所述检测辊的在旋转轴方向上的力,预测所述基材的偏移并输出偏移预测信息;以及偏移修正部,基于所述偏移预测信息,修正所述基材相对所述处理部在宽度方向上的相对位置。2.根据权利要求1所述的基材处理装置,其中,所述检测辊位于所述处理部的下方。3.根据权利要求1或2所述的基材处理装置,其中,所述偏移修正部通过改变作为所述多个辊中的至少一个的修正辊的位置或者朝向,来修正所述基材相对所述处理部在宽度方向上的相对位置。4.根据权利要求3所述的基材处理装置,其中,所述修正辊位于所述处理部的下方。5.根据权利要求1或2所述的基材处理装置,其中,还包括:频率算出部,基于所述检测辊的在旋转轴方向上的力,算出所述检测辊的在旋转轴方向上的力的增减的频率,所述偏移预测部基于所述频率,预测所述基材的偏移并输出所述偏移预测信息。6.根据权利要求1或2所述的基材处理装置,其中,所述力检测部具有测力传感器,所述测力传感器固定于所述检测辊。7.根据权利要求1或2所述的基材处理装置,其中,所述力检测部具有测力传感器,所述搬送机构具有:主体;所述多个辊;以及一个或多个轴承部,直接或间接地固定于所述主体,将所述多个辊分别支撑为能够旋转,所述测力传感器固定于所述轴承部。8.根据权利要求3所述的基...

【专利技术属性】
技术研发人员:林真司
申请(专利权)人:株式会社斯库林集团
类型:发明
国别省市:日本,JP

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