一种基板处理方法，包含：含臭氧氢氟酸溶液喷出步骤，从喷嘴对保持在基板保持单元的基板的一个主面，喷出在氢氟酸溶液中溶解有臭氧而成的含臭氧氢氟酸溶液；以及刷清洗步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液喷出步骤后、或与上述含臭氧氢氟酸溶液喷出步骤并行，使...

基板处理装置(1)，其中，包含：基板保持旋转机构(41)，其将基板(W)保持为水平姿势，且使上述基板(W)围绕通过上述基板(W)的主面的铅垂的旋转轴线(AX)旋转；刷子(30)，其抵接于由上述基板保持旋转机构保持的上述基板(W)的上述主...

本发明的基板处理方法，包含：基板保持步骤，使基板保持于基板保持单元；含臭氧氢氟酸溶液供给步骤，对保持于上述基板保持单元的上述基板的一个主面，供给在氢氟酸溶液中溶解有臭氧的含臭氧氢氟酸溶液；刷清洗步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液供给步骤之后，...

在上表面(91)形成有结构体的基板(9)的处理中，在上表面(91)上保持有机溶剂的液膜以使有机溶剂填满结构体中的间隙之后，进行通过填充剂的供给而用填充剂取代该有机溶剂的处理、及除去附着于基板(9)的外缘部的填充剂的处理。将形成于防溅部(...

在将内侧杯部(24)的上端配置于较外侧杯部(25)的上端靠下方的位置的外侧杯相对状态下，一面以通过外侧杯部(25)的内侧面接收从上表面(91)飞散的液体的方式使基板(9)以较高的转速旋转，一面朝上表面(91)上依次供给纯水、混合液及有机...

基板处理装置具备：旋转基座，设置有保持基板的周缘的夹具构件；马达，使上述旋转基座旋转；加热器单元，位于被上述夹具构件保持的基板与上述旋转基座的上表面之间；处理液供给单元，朝向被上述夹具构件保持的基板的表面供给处理液；以及微波产生单元，从...

基板处理装置将具有由外壁所包围的内部区域，其内部区域通过第一隔壁划分为第一及第二基板搬送区域。基板处理装置具备：第一及第二基板搬送机械手，分别配置于上述第一及第二基板搬送区域；处理单元，与上述第二基板搬送区域邻接设置；控制部，控制上述第...

在覆盖基板的整个上表面的低表面张力液体的液膜上形成孔，基板的上表面中央部露出。低表面张力液体的液膜的孔扩展到基板的外周。在低表面张力液体的液膜上形成孔前停止喷出温水。在从基板的上表面排出低表面张力液体的液膜后，再次向基板的下表面供给温水...

本发明涉及一种基板处理装置、基板处理方法以及紫外线照射单元的选择方法，基板处理装置能够在形成于基板的表面的微细结构物的间隙中使紫外线在更大的范围内产生作用，来分解有机物。基板处理装置(10)具有基板保持单元(1)、多个紫外线照射单元(2...

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。目的在于即使在伴随基板处理的处理液中的成分浓度的变化较大的情况下，也能够对处理基板的期间的处理液的浓度进行控制。基板处理装置具备：用于利用处理液(30)对基板(12)进行处理的处理槽(14)；...

本发明提供一种防止腔室内的气体对外部的其他步骤带来影响的涂布装置及涂布方法。膜·催化剂层接合体的制造装置(1)包括：涂布部(30)，将含有可燃性材料的催化剂材料涂布在被搬送的电解质膜(92)上；干燥炉(40)，配置在比涂布部(30)更位...

本发明涉及一种过滤器连接装置以及具有该过滤器连接装置的基板处理装置，过滤器连接装置具有接头构件、基座板、过滤器支撑部、旋转轴部以及脚部。基座板支撑接头构件。过滤器支撑部能够支撑第一过滤器以及第二过滤器。旋转轴部与过滤器支撑部连接。脚部支...

本发提供一种抑制或防止基板间的处理产生偏差的基板处理装置和方法。该装置包括：基板保持单元，保持基板；处理液流通构件，由内壁面划分出与喷出口连通的处理液流通路的至少一部分；处理液供给单元，向处理液流通路供给比常温高的处理液；温度变化单元，...

本发明提供一种基板处理装置，能够从开始供给处理液时，向基板供给温度被高精度地调整为期望的高温的处理液，由此，尤其能够提高基板间的处理的均匀性。喷出口(31)配置在腔室(9)内。循环流路(50)一边将处理液维持为规定的温度一边使其循环。喷...

本发明提供一种处理液供给装置，用于对多个处理部供给处理液。该处理液供给装置具有：处理液槽，用于积存处理液；多个循环配管，分别与所述多个处理部对应设置，并分别使所述处理液槽内的处理液进行循环；供给配管，分支连接到各所述循环配管，并对对应的...

本发明的目的在于，在加热器与附着有处理液的基板的下表面接触加热时防止基板弯曲，从而能够均匀地加热基板的整个面。基板处理装置(1)的旋转基座(21)具备把持基板W的周缘的多个卡盘销(20)。加热器主体(60)配置在旋转基座(21)与由卡盘...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明提供一种基板处理装置的控制装置，其包括信息获取部、加热执行部、存储装置、开度决定部、开度设定部以及处理液供给部。

本发明涉及一种基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置包括：压力控制单元，通过根据压力传感器的检测值使作为压力控制阀的一例的释放阀变更个别配管内的处理液的压力，而使连接位置上的处理液的压力维持在压力设定值；以及控制装置，通过于未处理的基...

基板保持旋转装置中，第一销组所含的各可动销的支撑部设为，能够在保持位置所含的第一和第二保持位置之间移动，且能够在第一和第二保持位置与远离旋转轴线的开放位置之间移动，第一保持位置是接近旋转轴线的规定的位置，第二保持位置在周方向的一方与第一...

本发明提供一种可提升基板处理的生产率的基板处理系统及基板处理方法。基板处理系统具备：平流处理部、同时处理部(40)及基板搬运部(TR1)。平流处理部沿着搬运方向依次搬运基板(W)并且对所述基板逐片进行处理。同时处理部(40)对N(2以上...