基板处理系统及基板处理方法技术方案

本发明专利技术提供一种可提升基板处理的生产率的基板处理系统及基板处理方法。基板处理系统具备：平流处理部、同时处理部(40)及基板搬运部(TR1)。平流处理部沿着搬运方向依次搬运基板(W)并且对所述基板逐片进行处理。同时处理部(40)对N(2以上的整数)片基板(W)同时进行处理。基板搬运部(TR1)将由平流处理部处理的多个基板(W)中的N片基板(W)在水平的一个方向上并排保持，并且将所述N片基板(W)整批搬运至同时处理部(40)。

【技术实现步骤摘要】
基板处理系统及基板处理方法
本专利技术涉及一种基板处理系统及基板处理方法。
技术介绍
已知晓具有多个处理装置的涂布/显影(coater/developer)装置。例如，在专利文献1记载的涂布/显影装置中，从载置于分度器(indexer)部的匣盒(cassette)中取出的多个基板依次被投入清洗装置中，然后，按顺序经由脱水烘烤装置、抗蚀剂(resist)涂布装置、预烘烤装置、曝光装置、显影装置及后烘烤装置，并再次被收容至匣盒中。所述涂布/显影装置中混合存在以下两种类型的处理装置。即，混合存在平流处理装置与可变搬运型的处理装置。在所述平流处理装置中，基板是逐片地搬入。平流处理装置沿着一个方向依次搬运这些基板并对基板逐片进行处理。所述平流处理装置例示有清洗装置及显影装置。在可变搬运型的处理装置中，基板也是逐片地搬入。可变搬运型的处理装置具有：多个处理部、以及对所述多个处理部搬运基板的基板搬运部件。基板搬运部件具有：接收基板的手(hand)、以及使所述手向各处理部移动的移动机构。所述基板搬运部件从上游侧的装置逐片接收基板并将基板传递至处理部。另外，基板搬运部件还可以在处理部的相互之间搬运基板。所述可变搬运型的处理装置例如例示有脱水烘烤装置。在所述脱水烘烤装置中设置有加热部及冷却部作为多个处理部。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2015-156426号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题]然而，在这种可变搬运型的处理装置中，基板是从上游侧的装置逐片搬运至可变搬运型的处理装置中。另外，在所述可变搬运型的处理装置的内部，各处理部对基板逐片进行处理。因此，存在基板处理的生产率低这一问题。本专利技术是鉴于所述课题而完成的，目的在于提供一种可提升基板处理的生产率的基板处理系统及基板处理方法。[解决问题的技术手段]为了解决所述课题，基板处理系统的第一方式具备：平流处理部，沿着搬运方向依次搬运基板并且对所述基板逐片进行处理；同时处理部，对N片基板同时进行处理，其中N为2以上的整数；及第一基板搬运部，将由所述平流处理部处理的多个基板中的所述N片基板在水平的一个方向上并排保持，并且将所述N片基板整批搬运至所述同时处理部。基板处理系统的第二方式是根据第一方式所述的基板处理系统，其进而具备间隔调整部，所述间隔调整部将在所述平流处理部处理的所述N片基板的间隔调整为在所述同时处理部对所述N片基板进行同时处理时的基板的间隔，所述第一基板搬运部将在间隔调整部调整了间隔的所述N片基板在水平的一个方向上并排保持，并且将所述N片基板整批搬运至所述同时处理部。基板处理系统的第三方式是根据第二方式所述的基板处理系统，其中，所述间隔调整部具有搬运传送机，在所述搬运传送机上依次对所搬入的所述N片基板的停止位置分别进行控制并调整所述间隔。基板处理系统的第四方式是根据第二方式所述的基板处理系统，其中，所述间隔调整部具有：支撑部，将所述N片基板沿着水平的排列方向并排支撑；挡块，用于决定由所述支撑部支撑的所述N片基板的所述排列方向的各位置；及按压构件，将由所述支撑部支撑的所述N片基板中的每一个基板往所对应的所述挡块按压并抵接于所对应的所述挡块。基板处理系统的第五方式是根据第四方式所述的基板处理系统，其中，由所述支撑部支撑的所述N片基板包含在所述排列方向上彼此相邻的第一基板及第二基板，所述间隔调整部具备：一对端构件，以在所述排列方向上夹持所述第一基板及所述第二基板这一组的方式对向配置；一对中间构件，位于所述第一基板及所述第二基板之间，且在水平面上彼此隔开间隔而配置；连结构件，将所述一对中间构件连结；及旋转机构，以沿着铅垂方向的旋转轴为中心使所述连结构件旋转，通过由所述旋转机构引起的所述连结构件的旋转，所述一对中间构件将所述第一基板及所述第二基板分别往所述一对端构件按压而分别抵接于一对端构件，由此使所述一对中间构件及所述一对端构件分别作为所述按压构件及所述挡块发挥功能。基板处理系统的第六方式是根据第四方式所述的基板处理系统，其中，由所述支撑部支撑的所述N片基板包含在所述排列方向上彼此相邻的第一基板及第二基板，所述间隔调整部具备：一对端构件，以在所述排列方向上夹持所述第一基板及所述第二基板这一组的方式对向配置；进退机构，使所述一对端构件沿着所述排列方向进退；一对中间构件，位于所述第一基板及所述第二基板之间，且在水平面上彼此隔开间隔而配置；连结构件，将所述一对中间构件连结；及旋转机构，以沿着铅垂方向的旋转轴为中心使所述连结构件旋转，通过所述进退机构而沿着彼此靠近的方向移动的所述一对端构件将所述第一基板及所述第二基板往通过由所述旋转机构引起的所述连结构件的旋转而处于旋转位置的所述一对中间构件按压而分别抵接于所述一对中间构件，由此使所述一对端构件及所述一对中间构件分别作为所述按压构件及所述挡块发挥功能。基板处理系统的第七方式是根据第五方式或第六方式所述的基板处理系统，还包括第二基板搬运部，所述旋转机构在使所述一对中间构件从所述第一基板及所述第二基板离开的旋转位置下，所述第二基板搬运部使所述连结构件停止，且所述进退机构使所述一对端构件从所述第一基板及所述第二基板离开的状态下，所述第二基板搬运部将所述第一基板及所述第二基板从所述支撑部取出。基板处理系统的第八方式是根据第一方式至第六方式中任一方式所述的基板处理系统，其中，所述同时处理部具备：基板保持部，将所述N片基板并排保持；喷嘴，在与由所述基板保持部保持的所述N片基板对向的位置分别具有狭缝状的射出口，且从所述射出口射出涂布液；及移动部件，沿着与由所述基板保持部保持的所述N片基板并排的方向正交且水平的移动方向，使所述喷嘴及所述基板保持部相对移动。基板处理系统的第九方式是根据第一方式至第六方式中任一方式所述的基板处理系统，其中，所述同时处理部具备：基板保持部，将所述N片基板并排保持；及加热部件，对由所述基板保持部保持的所述N片基板同时进行加热处理。基板处理方法的第十方式是对基板进行处理的方法，其中，平流处理部沿着搬运方向依次搬运基板并且对所述基板逐片进行处理，基板搬运部件将由所述平流处理部处理的多个基板中的N片基板在水平的一个方向上并排保持，并且将所述N片基板整批搬运至同时处理部，N为2以上的整数，所述同时处理部对所述N片基板同时进行处理。[专利技术的效果]根据基板处理系统的第一方式及基板处理方法的第十方式，基板搬运部将来自平流处理部的N片基板整批搬运至同时处理部，同时处理部对N片基板同时进行处理。因此，与将基板逐片搬运且逐片处理的情况相比，可提升基板处理的生产率。根据基板处理系统的第二方式，第二基板搬运部能够以在第二处理部中合适的间隔将多个基板搬运至第二处理部。根据基板处理系统的第三方式及第四方式，可决定多个基板的排列方向的位置，因此可调整多个基板的间隔。根据基板处理系统的第五方式，可使用旋转机构扩大第一基板及第二基板的间隔。根据基板处理系统的第六方式，可使用一对端构件及一对中间构件缩小第一基板及第二基板的间隔。根据基板处理系统的第七方式，第一基板及第二基板与一对端构件及一对中间构件全部隔开，因此容易将第一基板及第二基板取出。根据基板处理系统的第八方式，通过使喷嘴相对于基板保持部沿着移动方向移动，可对多个本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理系统，其特征在于具备：平流处理部，沿着搬运方向依次搬运基板并且对所述基板逐片进行处理；同时处理部，对N片基板同时进行处理，其中N为2以上的整数；及第一基板搬运部，将由所述平流处理部处理的多个基板中的所述N片基板在水平的一个方向上并排保持，并且将所述N片基板整批搬运至所述同时处理部。

【技术特征摘要】
2017.03.23 JP 2017-0575621.一种基板处理系统，其特征在于具备：平流处理部，沿着搬运方向依次搬运基板并且对所述基板逐片进行处理；同时处理部，对N片基板同时进行处理，其中N为2以上的整数；及第一基板搬运部，将由所述平流处理部处理的多个基板中的所述N片基板在水平的一个方向上并排保持，并且将所述N片基板整批搬运至所述同时处理部。2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于进而具备：间隔调整部，将在所述平流处理部处理的所述N片基板的间隔调整为在所述同时处理部对所述N片基板进行同时处理时的基板的间隔，所述第一基板搬运部将在间隔调整部调整了间隔的所述N片基板在水平的一个方向上并排保持，并且将所述N片基板整批搬运至所述同时处理部。3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，所述间隔调整部具有搬运传送机，在所述搬运传送机上依次对所搬入的所述N片基板的停止位置分别进行控制并调整所述间隔。4.根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，所述间隔调整部具有：支撑部，将所述N片基板沿着水平的排列方向并排支撑；挡块，用于决定由所述支撑部支撑的所述N片基板的所述排列方向的各位置；及按压构件，将由所述支撑部支撑的所述N片基板中的每一个基板往所对应的所述挡块按压并抵接于所对应的所述挡块。5.根据权利要求4所述的基板处理系统，其特征在于，由所述支撑部支撑的所述N片基板包含在所述排列方向上彼此相邻的第一基板及第二基板，所述间隔调整部具备：一对端构件，以在所述排列方向上夹持所述第一基板及所述第二基板这一组的方式对向配置；一对中间构件，位于所述第一基板及所述第二基板之间，且在水平面上彼此隔开间隔而配置；连结构件，将所述一对中间构件连结；及旋转机构，以沿着铅垂方向的旋转轴为中心使所述连结构件旋转，通过由所述旋转机构引起的所述连结构件的旋转，所述一对中间构件将所述第一基板及所述第二基板分别往所述一对端构件按压而分别抵接于所述一对端构件，由此使所述一对中间构件及所述一对端构件分别作为所述按压构件及所述挡块发挥功能。6.根据权利要求4所述的基板处理系统，其特征在于，由所述支撑部...

【专利技术属性】
技术研发人员：谷口竹志，芳谷光明，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP