显影单元、基板处理装置、显影方法及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术由旋转卡盘来保持已将含有金属的涂布液的膜曝光成规定图案的基板。利用狭缝喷嘴对由旋转卡盘所支承的基板的被处理面供给显影液。利用清洗喷嘴对被供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显影单元、基板处理装置、显影方法及基板处理方法
本专利技术关于一种对基板进行显影处理的显影单元、基板处理装置、显影方法及基板处理方法。
技术介绍
于半导体器件等的制造中的光刻中，通过向基板表面的基底层上供给抗蚀剂液等涂布液而形成涂布膜。在涂布膜经曝光的后，对涂布膜供给显影液，由此在涂布膜中形成规定图案(例如参照专利文献1)。专利文献1：日本专利特开2014-75575号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题近年来，为了形成更微细的图案，正研究应用含有金属成分的涂布膜(以下称为含金属涂布膜)。然而，根据专利技术者的实验，判明存在如下可能性：即便使用冲洗液将显影后的基板清洗，金属成分也不能被完全地去除而产生残存。若金属成分残存于基板表面的基底层上，则存在由蚀刻而形成的基底层的图案中产生缺陷的情况。因此，基板处理的精度降低。此外，若金属成分附着于基板的端部或背面，则存在具备搬送机构的基板处理装置及邻接的曝光装置产生污染的情况。本专利技术的目的在于提供一种可防止金属污染的产生并且使基板处理的精度提升的显影单元、基板处理装置、显影方法及基板处理方法。用于解决问题的手段(1)本专利技术的一方面的显影单元，对在被处理面形成有含金属涂布膜的基板进行显影处理，含金属涂布膜是含有金属的涂布液的膜，其中，具备：基板保持部，保持已将含金属涂布膜曝光成规定图案的基板；显影液供给部，对由基板保持部所支承的基板的被处理面供给显影液；以及清洗液供给部，对由显影液供给部供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。在该显影单元中，由基板保持部保持已将含金属涂布膜曝光成规定图案的基板。对由基板保持部所支承的基板的被处理面供给显影液。对供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。根据该构成，即便在供给显影液后的基板的被处理面上附着有溶解于显影液中的含金属涂布膜的金属的情况下，也能够利用清洗液去除该金属或使金属溶解。由此，在供给清洗液之后的基板表面的基底层上不残存金属，故而通过蚀刻而形成的基底层的图案中不会产生由金属引起的缺陷。这样的结果是，可防止金属污染的产生并且使基板处理的精度提升。(2)也可使基板保持部保持应接受正色调(PositiveTone)显影处理的基板，且显影液包含碱性水溶液，清洗液包含添加有螯合剂的水溶液、碱性水溶液或酸性水溶液。此时，可将附着于基板的金属容易地去除或容易地使附着于基板的金属溶解。又，无需将显影液及清洗液分离进行回收。由此，可降低显影液及清洗液的废弃成本。(3)也可使显影单元进一步具备冲洗液供给部，该冲洗液供给部对由清洗液供给部供给清洗液后的基板的被处理面供给冲洗液，且冲洗液包含水溶液。此时，通过冲洗液将附着于基板的清洗液去除，由此可维持基板更清洁。又，无需将显影液、清洗液及冲洗液分离进行回收。由此，可降低显影液、清洗液及冲洗液的废弃成本。(4)螯合剂也可包含选自由有机酸、有机酸盐、氨基酸、氨基酸衍生物、无机碱、无机碱盐、烷基胺、烷基胺衍生物、烷醇胺及烷醇胺衍生物所组成的群中的一种或多种。此时，可在不对含金属涂布膜的图案造成损伤的情况下，将附着于基板的金属充分地去除或使其充分地溶解。由此，可使基板处理的精度进一步提升。(5)也可使基板保持部保持应接受负色调(NegativeTone)显影处理的基板，且显影液包含有机溶剂，清洗液包含添加有螯合剂的有机溶剂。此时，可将附着于基板的金属容易地去除或使其容易地溶解。又，无需将显影液与清洗液分离进行回收。由此，可降低显影液及清洗液的废弃成本。(6)也可使显影单元进一步具备冲洗液供给部，该冲洗液供给部对由清洗液供给部供给清洗液后的基板的被处理面供给冲洗液，且冲洗液包含有机溶剂。此时，通过冲洗液将附着于基板的清洗液去除，故而可维持基板更清洁。又，无需将显影液、清洗液及冲洗液分离进行回收。由此，可降低显影液、清洗液及冲洗液的废弃成本。(7)也可使基板保持部保持应接受负色调显影处理的基板，且显影液包含有机溶剂，清洗液含有添加有螯合剂的水溶液。此时，可将附着于基板的金属容易地去除或使其容易地溶解。(8)也可使显影单元进一步具备冲洗液供给部，该冲洗液供给部对由清洗液供给部供给清洗液后的基板的被处理面供给冲洗液，且冲洗液含有水溶液。此时，通过冲洗液将附着于基板的清洗液去除，故而可维持基板更清洁。(9)螯合剂也可包含有机酸或有机酸盐。此时，可在不对含金属涂布膜的图案造成损伤的情况下，将附着于基板的金属充分地去除或使其充分地溶解。由此，可使基板处理的精度进一步提升。(10)也可在清洗液中进一步添加界面活性剂。此时，可抑制含金属涂布膜的图案坍塌。又，可改善含金属涂布膜的图案的粗糙度(roughness)。其结果为，可使基板处理的精度进一步提升。(11)也可使显影单元进一步具备背面清洗部，该背面清洗部对由显影液供给部供给显影液后的基板的与被处理面为相反侧的背面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。根据该构成，即便在供给显影液后的基板的背面上附着有含金属涂布膜的金属的情况下，也能通过清洗液去除该金属或使金属溶解。由此，可更充分地防止由金属引起的显影单元的污染。(12)本专利技术的另一方面的基板处理装置以与对基板的被处理面进行曝光的曝光装置邻接的方式配置，其中，具备：膜形成单元，将含有金属的涂布液作为含金属涂布液供给至基板的被处理面，由此，在被处理面形成含金属涂布膜；周缘部去除单元，在由膜形成单元形成含金属涂布膜后，以含金属涂布膜残存于基板的被处理面的除周缘部以外的区域的方式，将使金属溶解的去除液供给至基板的周缘部；本专利技术的一方面的显影单元，对已由曝光装置将被处理面的含金属涂布膜曝光后的基板进行显影处理；及搬送机构，其将由周缘部去除单元供给去除液后的基板搬送至曝光装置，并且将经曝光装置曝光后的基板搬送至显影单元。在该基板处理装置中，将含有金属的涂布液作为含金属涂布液供给至基板的被处理面，由此在被处理面形成含金属涂布膜。在形成含金属涂布膜的后，以含金属涂布膜残存于基板的被处理面的除周缘部以外的区域的方式，将使金属溶解的去除液供给至基板的周缘部。通过搬送机构将被供给去除液后的基板搬入至曝光装置，并且通过搬送机构将经曝光装置曝光后的基板自曝光装置中搬出。对已通过曝光装置将被处理面的含金属涂布膜曝光的基板进行利用上述显影单元的显影处理。根据该构成，在除周缘部以外的基板的被处理面形成含金属涂布膜，防止金属残存于基板的周缘部。因此，即便在搬送机构保持基板的周缘部的情形时，金属也不会附着于搬送机构。由此，可在基板上形成含金属涂布膜并且防止金属污染的产生。又，即便在被供给显影液后的基板的被处理面上附着有溶解于显影液中的含金属涂布膜的金属的情况下，也能通过清洗液去除该金属或使金属溶解。由此，在于供给清洗液后的基板表面的基底层上不残存金属，故而通过蚀刻而形成的基底层的图案中不会产生由金属引起的缺陷。这样的结果是，可防止金属污染的产生并且使基板处理的精度提升。(13)本专利技术的进而又一方面的显影方法对在被处理面形成有含金属涂布膜的基板进行显影处理，含金属涂布膜是含有金属的涂布液的膜，其中，包含：由基板保持部保持已将含金属涂布膜曝光成规定图案的基板的步骤；对由基板保持部所支承的基板的被处理面供给显影液的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显影单元，对在被处理面形成有含金属涂布膜的基板进行显影处理，上述含金属涂布膜是含有金属的涂布液的膜，其中，具备：基板保持部，保持已将含金属涂布膜曝光成规定图案的基板；显影液供给部，对由上述基板保持部所支承的基板的被处理面供给显影液；以及清洗液供给部，对由上述显影液供给部供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.17 JP 2016-0280111.一种显影单元，对在被处理面形成有含金属涂布膜的基板进行显影处理，上述含金属涂布膜是含有金属的涂布液的膜，其中，具备：基板保持部，保持已将含金属涂布膜曝光成规定图案的基板；显影液供给部，对由上述基板保持部所支承的基板的被处理面供给显影液；以及清洗液供给部，对由上述显影液供给部供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。2.如权利要求1所述的显影单元，其中，上述基板保持部保持应接受正色调显影处理的基板，上述显影液包含碱性水溶液，上述清洗液包含碱性水溶液、酸性水溶液或添加有螯合剂的水溶液。3.如权利要求2所述的显影单元，其中，上述显影单元进一步具备冲洗液供给部，上述冲洗液供给部对由上述清洗液供给部供给清洗液后的基板的被处理面供给冲洗液，上述冲洗液包含水溶液。4.如权利要求2或3所述的显影单元，其中，螯合剂包含选自由有机酸、有机酸盐、氨基酸、氨基酸衍生物、无机碱、无机碱盐、烷基胺、烷基胺衍生物、烷醇胺及烷醇胺衍生物所组成的群中的一种或多种。5.如权利要求1所述的显影单元，其中，上述基板保持部保持应接受负色调显影处理的基板，上述显影液包含有机溶剂，上述清洗液包含添加有螯合剂的有机溶剂。6.如权利要求5所述的显影单元，其中，上述显影单元进一步具备冲洗液供给部，上述冲洗液供给部对由上述清洗液供给部供给清洗液后的基板的被处理面供给冲洗液，上述冲洗液包含有机溶剂。7.如权利要求1所述的显影单元，其中，上述基板保持部保持应接受负色调显影处理的基板，上述显影液包含有机溶剂，上述清洗液包含添加有螯合剂的水溶液。8.如权利要求7所述的显影单元，其中，上述显影单元进一步具备冲洗液供给部，上述冲洗液供给部对由上述清洗液供给部供给清洗液后的基板的被处理面供给冲洗液，上述冲洗液包含水溶液。9.如权利要求5至8中任一项所述的显影单元，其中，上述螯合剂包含有机酸或有机酸盐。10.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：田中裕二，浅井正也，春本将彦，金山幸司，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP