本发明提供一种高速高精度地检测在拍摄装置中载置的试料容器的位置偏移而不增加处理所需的数据量的方法。选择两个加样孔(步骤S10)，并计算这两个加样孔的上下左右的逻辑边缘坐标(步骤S20)。进行各逻辑边缘坐标附近的拍摄(步骤S30)，对于各...

该搬运装置包括搬运部(31)、供给部(24)和引导部(25)。搬运部(31)在宽度方向上排列的多个搬运列中的每一个搬运列上配置的多个保持部(310)保持粒状物(9)。供给部(24)向各保持部(310)供给粒状物(9)。引导部(25)在供...

本发明的涂敷装置包括：支撑辊(10)，用于保持基材；驱动部，使支撑辊(10)旋转；喷嘴(41)，用于向保持在支撑辊(10)上的基材的表面喷出涂敷液；加热部，对涂敷在基材的表面的塗工液进行加热。另外，该涂敷装置还包括用于向喷嘴(41)的喷...

本发明的基板处理方法包括：基板保持工序，将基板保持为水平；疏水剂供给工序，向所述基板的上表面供给疏水剂，所述疏水剂用于对所述基板的上表面进行疏水化；低表面张力液体供给工序，向所述基板的上表面供给低表面张力液体，以便将所述基板上的所述疏水...

一种描画装置及描画方法。描画数据生成部根据整体图案数据依次生成多个分割描画数据并传送给描画控制部，多个分割描画数据分别对应于将基板上的一个带区域在移动方向上进行分割而得到的多个分割区域。描画控制部通过与载物台沿着移动方向进行连续移动并行...

本发明的载物台驱动装置(5)包括：设置有载物台的底板(51)、一对导轨、与一对导轨分别卡合的一对导轨卡合部(53)、使动子(546)向移动方向移动的线性马达、以及能够将动子(546)固定于底板(51)的动子固定部(55)。在底板(51)...

提供一种非破坏地且有效地测定金属催化剂的催化剂担载量的技术。电磁波振荡器52朝向基材90的表面输出在X轴方向上扇状地扩展的电磁波。多个检测元件540在X轴方向上排列，分别检测电磁波的电场强度。支撑辊240、242支撑在+Y方向上被搬运的...

本发明的目的在于使衬底处理装置中的金属离子的除去性能迅速恢复。为了实现该目的，衬底处理装置1具备处理部11、供给罐12和回收罐13。在处理部11中，利用来自第1循环路径211的处理液91对衬底9实施蚀刻处理。使用完毕的处理液91被导入回...

向基板处理装置的处理液系统有效地供给用于清洗清洗处理液系统的清洗液。包括：盒本体，具有贮存清洗液的贮存空间和与贮存空间连通的开口部；气体导入部，具有与贮存空间连通的供气路径，经由供气路径向贮存有清洗液的贮存空间导入从盒本体的外部供给的气...

基板处理装置包含：旋转单元，使被收容在腔室内的基板保持单元保持的基板绕铅垂的旋转轴线旋转；喷嘴，具有喷出口，用于从所述喷出口朝被所述旋转单元保持的基板的主表面喷出液体；第一药液供给单元，用于对所述喷嘴供给第一药液；处理杯，用于收容所述基...

基板处理方法包括：基板保持工序，保持在一侧主面形成有图案的基板；电荷供给工序，将一种极性的电荷供给至所述基板；第一电压施加工序，与所述电荷供给工序并行，将另一种极性的电压施加至经由电介体配置于所述基板的另一侧主面的第一电极；第二电压施加...

本发明提供一种牺牲膜形成方法，通过从基板侧对覆盖形成有图案P的基板W的表面的牺牲聚合物溶液25的液膜26进行加热，使与基板的表面接触的溶液蒸发，从而使液膜在保持于图案中的除了基部以外的至少顶端部的状态下干燥，由此形成牺牲膜。本发明还提供...

本发明由旋转保持部以使基板能够旋转的方式保持该基板。在进行第一拍摄时，由拍摄部对由旋转保持部保持的基板进行拍摄，由此生成用于表示基板的图像的第一图像数据。在进行第一拍摄后，由旋转保持部使基板仅旋转预先规定的角度。在使基板旋转后进行第二拍...

提供一种高精度地检查对象物的表面形态的技术。由第一拍摄部拍摄对象物的表面的被检查区域中的作为镜面处理对象的第一区域。此外，由第二拍摄部拍摄对象物的表面的被检查区域中的不作为镜面处理对象的第二区域。检查部根据由第一拍摄部获得的第一拍摄图像...

不论靶的消耗状态，都能够进行成膜速度以及膜质的变动较小的稳定的成膜。成膜装置(1)具有：真空腔室(10)；磁控阴极(51)，设在真空腔内并能够设置有靶；高频天线(52、53)；基板保持部(31)，在真空腔内保持基板(S)以使基板(S)与...

本发明提供一种技术，在一边沿长度方向搬运长带状的基材一边对该基材进行处理的基材处理装置中，不依赖于形成在基材的表面的规矩线等图像，能够检测基材的搬运方向的位置偏移量。该基材处理装置具有第一边缘传感器(31)、第二边缘传感器(32)、偏移...

本发明提供一种可通过使用分辨率比喷头中的喷嘴的排列密度更低的拍摄部，来计算各个喷嘴的浓淡修正量的技术。首先，在记录介质的表面印刷明暗图表。接着，对印刷在记录介质的明暗图表的同一浓度区域，获取拍摄图像。此时，还检测记录介质在作为喷嘴的排列...

本发明提供一种基板反转装置、基板处理装置以及基板夹持装置。在基板反转装置中，多个下导向件使随着向基板的宽度方向内侧而向下方的下倾斜面与水平状态的基板的周缘部接触，并从下方支撑基板。多个上导向件使随着向宽度方向内侧而向上方的上倾斜面与基板...

本发明涉及一种基板处理方法、基板处理液以及基板处理装置，所述基板处理方法为进行基板的图案形成面的干燥处理的基板处理方法，包括：供给工序，向所述基板的图案形成面供给包含熔融状态的柔粘性结晶材料的基板处理液；柔粘性结晶层形成工序，在所述图案...

本发明提供能够掌握衬底的被处理面的中央侧及外周侧的处理结束时间点的衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置具备：衬底旋转部，所述衬底旋转部将衬底保持为水平并使其旋转；喷嘴，所述喷嘴向通过衬底旋转部进行旋转的衬底的被处理面供给处理液；拍摄...