本发明目的是以简单的结构获得图像品质良好的断层图像，该断层图像不受在容器壁面的反射所引起的图像噪声的影响。在对具有透光性的壁部的容器内所容纳的被摄像物进行断层摄像的FD－OCT摄像装置中，当以从壁部表面的被摄像物侧的第一表面(Sa)到物...

本发明的曝光装置(100)具备投光部(160)、照度计(183)、遮光部(190)、投光控制部(12)。通过投光部向衬底(W)的被处理面照射真空紫外线。在从投光部向衬底照射真空紫外线的照射期间，通过照度计接收一部分真空紫外线，并计测所接...

本发明提供一种基板处理方法，基板处理方法包括：基板保持工序，利用基板保持用具将基板保持为水平；液膜形成工序，通过向基板的上表面供给处理液，在基板的上表面形成处理液的液膜；液密加热工序，通过向设置在基板与基座之间的加热器单元与基板之间的空...

本发明提供能够抑制医药品、食品等固体制剂表面上的印刷图像的褪色和变色的喷墨用水性油墨组合物、固体制剂的印刷图像褪色抑制方法和固体制剂。本发明涉及的喷墨用水性油墨组合物为用于向固体制剂印刷的喷墨用水性油墨组合物，其特征在于，含有可食性的染...

本发明涉及一种基板处理方法，能够降低基板污染的风险并在进行基板处理的过程中清洗相向部。该方法包括：基板液处理工序，在使相向部的下表面与基板的上表面相向且使它们以水平姿势旋转的状态下，对基板的上表面进行液处理；相向部清洗工序，在基板液处理...

本发明提供一种基板清洗刷以及基板清洗装置，能够有效地进行刷的外周部的颗粒去除。对晶片(2)进行清洗的基板清洗刷(20)包括刷本体(21)、刷保持部(23)以及主流路形成体(25)。刷本体(21)含有具有液体可渗透的结构且抵接于基板的下表...

一种基板处理方法，包含：药液供给步骤，将含有离子的药液供给至基板的表面；低纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤之后执行，并将含有杂质的低纯度冲洗液供给至所述基板的表面，所述杂质通过与所述药液所含有的所述离子相互作用而形成析出物；以及高...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。基板处理方法对基板(W)进行处理。基板处理方法包含：利用磷酸液(Lp)对基板(W)进行处理的步骤、利用淋洗液(Lr)对基板(W)进行处理的步骤及利用含有氨的药液(Lc)对基板(W)进行处理的步骤...

一种基板处理方法，用于基板处理装置，所述基板处理方法包括：a)工序，一边通过所述侧部开口开闭机构开闭所述侧部开口，一边通过所述侧部开口将基板搬入所述腔室内，在所述第一空间中由所述基板保持部保持所述基板，b)工序，通过所述基板移动机构，将...

本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置。基于所需蚀刻量来确定设定溶解氧浓度和设定气氛氧浓度中的一方。然后，基于所需蚀刻量以及所确定的设定溶解氧浓度和设定气氛氧浓度中的一方来确定设定溶解氧浓度和设定气氛氧浓度中的另一方。使具有与所确定的...

本发明提供一种处理液供给装置及其脱气方法，能够通过控制排出管的压力来提高脱气效率。在将稀释剂吸入腔室(15)后，在关闭开闭阀(V1)～(V3)的状态下，当通过三通阀(V4)使腔室(15)的容积变大时，腔室(15)内被减压。因此，能够将存...

以喷墨方式在粒状物的表面上印刷主图像(91)及副图像(92)。主图像(91)是设定为可在通常的环境光下进行辨识的图像。副图像(92)是设定为在通常的环境光下，辨识性比主图像(91)低的图像。在主图像(91)内含有需对消费者显示的信息，并...

该搬送装置沿着具有朝向斜下方呈圆弧状的搬送路径的搬送路径搬送片剂(9)。搬送装置具有搬送滚筒(31)、供给送料器(24)、片剂传感器(71)、掉落挡止机构(72)、及控制部(10)。在搬送滚筒(31)的外表面设置有沿着搬送路径等间隔地排...

本片剂印刷装置首先向输送的片剂(9)的表面照射紫外线或者红外线中的至少一者。在照射紫外线的情况下，片剂(9)的表面变得粗糙，油墨的接触角变小。另外，在照射红外线的情况下，片剂(9)的表面被蚀刻为凹状。然后，向该片剂(9)的表面喷出油墨(...

本发明中，在衬底的一面上形成含金属涂布膜，在含金属涂布膜上由感光性有机材料形成有机涂布膜，且有机涂布膜被曝光成指定图案。通过狭缝喷嘴向有机涂布膜供给显影液，由此在有机涂布膜形成指定图案。另外，通过置换喷嘴向有机涂布膜的图案及含金属涂布膜...

本发明提供从基板的上表面良好去除颗粒且使上表面良好干燥的基板处理方法和装置。该基板处理方法包括：第一处理液供给工序，向基板的上表面供给第一处理液；保持层形成工序，使所述第一处理液固化或硬化，在所述基板的上表面形成颗粒保持层；保持层去除工...

本发明提供一种可使氧化铟前驱物良好地活化的光照射装置及薄膜形成装置。所述光照射装置从多个准分子灯(51)对形成有包含氧化铟前驱物的涂布膜的基板(W)照射紫外线。多个准分子灯(51)与基板(W)的照射间隔(d)明显比多个准分子灯(51)的...

本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括：第一处理液供给工序，向上述基板的上表面供给第一处理液；保持层形成工序，使上述第一处理液固化或硬化，在上述基板的上表面形成颗粒保持层；保持层去除工序，将上述颗粒保持层从上述基板...

本发明提供一种能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常的烟雾判定方法、基板处理方法及基板处理装置。在一边在腔室的内部水平地保持基板、一边对基板的上表面供给处理液的装置中，判定烟雾的产生状况。具体来说，首先，对腔室内的规定的拍摄区域进...

本发明提供一种能够定量地判定干燥区域的状态是否正常的判定方法及基板处理装置。在执行干燥处理的装置中，判定干燥处理是否合格，所述干燥处理是在水平地保持着的基板(W)的上表面形成液膜，使被去除液膜的干燥区域逐渐扩大的处理。具体来说，首先，在...