显影装置、衬底处理装置、显影方法及衬底处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术中，在衬底的一面上形成含金属涂布膜，在含金属涂布膜上由感光性有机材料形成有机涂布膜，且有机涂布膜被曝光成指定图案。通过狭缝喷嘴向有机涂布膜供给显影液，由此在有机涂布膜形成指定图案。另外，通过置换喷嘴向有机涂布膜的图案及含金属涂布膜供给置换液，由此将含金属涂布膜的部分去除，在含金属涂布膜形成指定图案。通过冲洗喷嘴向具有有机涂布膜的图案及含金属涂布膜的图案的衬底供给冲洗液。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显影装置、衬底处理装置、显影方法及衬底处理方法
本专利技术涉及一种进行衬底显影的显影装置、衬底处理装置、显影方法及衬底处理方法。
技术介绍
在制造半导体组件等的光刻工序中，通过向衬底上供给阻剂等涂布液而形成涂布膜。在涂布膜被曝光后，通过使涂布膜显影而在涂布膜上形成指定图案。对涂布膜上形成有图案后的衬底进行冲洗处理。这里，在涂布膜的图案的厚度较大且宽度较小的情况下，存在由于冲洗处理中的冲洗液的表面张力而发生图案崩塌的情况(例如，参照专利文献1、2)。专利文献1中记载有，通过在冲洗液中混入异丙醇，使冲洗液的表面张力降低，从而防止图案崩塌。引用文献2中记载有，通过在冲洗处理后，以比重为1.5以上且表面张力为dyns/cm以下的氟系惰性液体置换冲洗液，从而防止图案崩塌。专利文献1：日本专利特开平7-122485号公报专利文献2：日本专利特开平9-82629号公报
技术实现思路
[专利技术要解决的问题]近年来，形成于衬底的芯片的高集成化不断进步。在这种情况下，随着涂布膜的图案宽度的微细化，会发生图案崩塌，从而导致良率容易降低。因此，追求更确实地防止图案崩塌。本专利技术的目的在于，提供一种能防止涂布本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显影装置，对衬底进行显影处理，在所述衬底的一面上，形成含有金属的涂布液的膜作为含金属涂布膜，在所述含金属涂布膜上形成第1有机涂布膜，所述第1有机涂布膜由感光性有机材料形成且被曝光成指定图案，所述显影装置具备：显影液供给部，将显影液供给至所述第1有机涂布膜，由此形成具有所述指定图案的第1有机涂布膜图案；第1去除液供给部，将用来去除金属的第1去除液供给至所述第1有机涂布膜图案及所述含金属涂布膜，由此形成具有所述指定图案的含金属涂布膜图案；及冲洗液供给部，向具有所述第1有机涂布膜图案及所述含金属涂布膜图案的衬底供给冲洗液。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.11.11 JP 2016-2202391.一种显影装置，对衬底进行显影处理，在所述衬底的一面上，形成含有金属的涂布液的膜作为含金属涂布膜，在所述含金属涂布膜上形成第1有机涂布膜，所述第1有机涂布膜由感光性有机材料形成且被曝光成指定图案，所述显影装置具备：显影液供给部，将显影液供给至所述第1有机涂布膜，由此形成具有所述指定图案的第1有机涂布膜图案；第1去除液供给部，将用来去除金属的第1去除液供给至所述第1有机涂布膜图案及所述含金属涂布膜，由此形成具有所述指定图案的含金属涂布膜图案；及冲洗液供给部，向具有所述第1有机涂布膜图案及所述含金属涂布膜图案的衬底供给冲洗液。2.根据权利要求1所述的显影装置，其中所述第1去除液包含添加有鳌合剂的水溶液、碱性水溶液或酸性水溶液。3.根据权利要求2所述的显影装置，其中所述鳌合剂包含选自由有机酸、有机酸盐、氨基酸、氨基酸衍生物、无机碱、无机碱盐、烷基胺、烷基胺衍生物、链烷醇胺及链烷醇胺衍生物所组成的群中的一种或多种。4.一种显影装置，对衬底进行显影处理，在所述衬底的一面上，形成含有金属的涂布液的膜作为含金属涂布膜，在所述含金属涂布膜上，形成第1有机涂布膜，所述第1有机涂布膜由感光性有机材料形成且被曝光成指定图案，且所述显影装置具备：第1去除液供给部，将用来去除金属的第1去除液供给至所述第1有机涂布膜及所述含金属涂布膜，由此形成具有所述指定图案的第1有机涂布膜图案、及具有所述指定图案的含金属涂布膜图案；及冲洗液供给部，向具有所述第1有机涂布膜图案及所述含金属涂布膜图案的衬底供给冲洗液。5.根据权利要求4所述的显影装置，其中所述第1去除液包含碱性水溶液。6.根据权利要求1至5中任一项所述的显影装置，还具备旋转保持部，所述旋转保持部保持衬底，并且使被所述冲洗液供给部供给所述冲洗液后的衬底旋转。7.根据权利要求1至6中任一项所述的显影装置，还具备第2去除液供给部，所述第2去除液供给部向被所述第1去除液供给部供给所述第1去除液后且被所述冲洗液供给部供给所述冲洗液前的衬底，供给用来将所述第1有机涂布膜图案去除的第2去除液。8.根据权利要求1至7中任一项所述的显影装置，其中在衬底的所述一面与所述含金属涂布膜之间，进而形成第2有机涂布膜。9.根据权利要求8所述的显影装置，还具备第3去除液供给部，所述第3去除液供给部向被所述第1去除液供给部供给所述第1去除液后且被所述冲洗液供给部供给所述冲洗液前的衬底，供给用来将所述第2有机涂布膜去除的第3去除液，由此形成具有所述指定图案的第2有机涂布膜图案。10.一种衬底处理装置，以邻接于将衬底曝光的曝光装置的方式配置，且具备：含金属涂布膜形成部，将含有金属的涂布液作为含金属涂布液供给至衬底的一面，由此在所述一面上形成含金属涂布膜；第1有机涂布膜形成部，...

【专利技术属性】
技术研发人员：春本将彦，浅井正也，田中裕二，金山幸司，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP