基板处理方法、送液方法以及基板处理装置制造方法及图纸

一种基板处理方法，包含：药液供给步骤，将含有离子的药液供给至基板的表面；低纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤之后执行，并将含有杂质的低纯度冲洗液供给至所述基板的表面，所述杂质通过与所述药液所含有的所述离子相互作用而形成析出物；以及高纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤与所述低纯度冲洗液供给步骤之间执行，将所含有的所述杂质的量比所述低纯度冲洗液少的高纯度冲洗液供给至所述基板的表面。

Base plate processing method, liquid feeding method and base plate processing device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理方法、送液方法以及基板处理装置
本专利技术涉及一种用以处理基板的基板处理方法、基板处理装置以及对基板处理装置所使用的喷嘴送液的送液方法。成为处理对象的基板例如包括半导体晶圆、液晶显示设备用基板、有机EL(Electroluminescence；电致发光)显示设备等的FPD(FlatPanelDisplay；平板显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模(photomask)用基板、陶瓷基板、太阳电池用基板等的基板。
技术介绍
在下述专利文献1所记载的基板处理方法中，将药液供给至基板后，为了冲洗附着于基板的药液，对基板供给碳酸水。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2001-358109号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题当在基板处理后的基板上产生颗粒(particle)时，会有在基板处理后的工艺(半导体装置的制造)等中产生动作不良的可能。因此，以往以来通过避免酸性的药液与碱性的药液的混合或者以过滤器过滤药液或冲洗(rinse)液而对颗粒的产生实施预防对策。然而，会有在基板处理后的工艺(半导体装置的制造)等中产生动作不良的情形。本案专利技术人们寻找出以冲洗液冲洗附着于基板的表面的药液后在基板上所产生的析出物为基板处理后的工艺的动作不良的原因。由于此种析出物不会在供给至基板上之前的冲洗液中作为颗粒被检测出，因此至今为止未被作为基板处理后的工艺的动作不良的原因受到关注。此种析出物的产生不仅是在基板上，亦会在冲洗液和药液通过的流路内造成。为了避免析出物的产生，虽然能考虑使用较高纯度的冲洗液来执行基板处理，但此种冲洗液的使用频率越高则基板处理所需的成本越增大。因此，本专利技术目的之一在于提供一种能抑制成本的增大且能抑制或防止析出物的产生的基板处理方法、送液方法以及基板处理装置。用于解决课题的手段在基板处理中，冲洗液和药液以不会通过药液原本所含有的成分与冲洗液原本所含有的成分形成析出物的方式予以选择。尽管如此，仍会在以冲洗液冲洗基板上的药液时形成析出物。因此，本专利技术人们认为成为该析出物的原因的物为即使溶解至冲洗液或药液或者未溶解至冲洗液或药液该物的直径皆比颗粒计数器(particlecounter)的检测的界限(例如18nm)还小的物。并且，本案专利技术人们寻找出该析出物是因为冲洗液所含有的杂质与药液所含有的离子之间的相互作用所产生。本专利技术的实施方式提供一种基板处理方法，包含：药液供给步骤，将含有离子的药液供给至基板的表面；低纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤之后执行，并将含有杂质的低纯度冲洗液供给至所述基板的表面，所述杂质通过与所述药液所含有的所述离子相互作用而形成析出物；以及高纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤与所述低纯度冲洗液供给步骤之间执行，将所含有的所述杂质的量比所述低纯度冲洗液还少的高纯度冲洗液供给至所述基板的表面。依据此方法，在药液供给步骤与低纯度冲洗液供给步骤之间执行高纯度冲洗步骤。因此，在药液供给步骤中供给至基板上的药液被杂质的含有量比低纯度冲洗液还少的高纯度冲洗液与在高纯度冲洗液之后供给至基板上的低纯度冲洗液冲洗。因此，与仅以高纯度冲洗液冲洗药液的基板处理相比，降低基板处理所需的成本。此外，在低纯度冲洗液供给步骤之前所执行的高纯度冲洗液供给步骤中，基板上的药液的一部分或全部被高纯度冲洗液置换。由此，在执行低纯度冲洗液供给步骤之前，基板上的药液中的离子的浓度至少被高纯度冲洗液薄化。因此，至少降低药液所含有的离子与低纯度冲洗液所含有的杂质之间的相互作用。此外，在药液所含有的离子已经完全从基板上排除的情形中，不会产生该相互作用。因此，抑制或防止低纯度冲洗液供给步骤中的析出物的形成。因此，能抑制成本的增大且抑制或防止析出物的产生。在本专利技术的一个实施方式中，所述药液包含有酸性的水溶液，所述低纯度冲洗液含有作为所述杂质的有机物。当酸性的水溶液与含有作为杂质的有机物的冲洗液混合时，会有形成析出物的情形。认为该析出物的形成起因于盐析(saltingout)。盐析指处于已分散于水等溶媒中的状态的有机物利用盐的作用而凝集。详细而言，水分子被导引至酸性的水溶液中的阴离子且水分子成为该阴离子的水合水(hydratedwater)，从而去除水合于有机物的水分子。如此，由于有机物的水合所需的水分子不足，因此该有机物凝集。通过该凝集，产生析出物。作为成为盐析的产生的原因的阴离子，能例举例如盐酸所含有的氯化物离子等。作为成为盐析的产生的原因的有机物，能例举例如蛋白质以及分子量比蛋白质还小的有机化合物等。因此，在低纯度冲洗液供给步骤之前所执行的高纯度冲洗液供给步骤中，通过高纯度冲洗液置换基板上的酸性的水溶液的一部分或全部，由此在执行低纯度冲洗液供给步骤之前基板上的酸性的水溶液中的阴离子的浓度至少被高纯度冲洗液薄化。因此，至少降低该阴离子与低纯度冲洗液所含有的有机物之间的相互作用。此外，在成为盐析的原因的阴离子已经从基板上完全地排除的情形中，不会产生该相互作用。因此，抑制或防止低纯度冲洗液供给步骤中的析出物的形成。在本专利技术的一个实施方式中，所述低纯度冲洗液亦可包含含有二氧化碳的碳酸含有液。在本专利技术的一个实施方式中，所述基板处理方法还包含：第二低纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤之前执行，用以将所述低纯度冲洗液供给至所述基板的表面；以及第二高纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤与所述第二低纯度冲洗液供给步骤之间执行，用以将所述高纯度冲洗液供给至所述基板的表面。依据此方法，在药液供给步骤之前执行第二低纯度冲洗液供给步骤，并在药液供给步骤与第二低纯度冲洗液供给步骤之间执行第二高纯度冲洗液供给步骤。因此，在用以在药液供给步骤之前以冲洗液清洗基板的表面的基板处理中，基板的表面被杂质的含有量比低纯度冲洗液还少的高纯度冲洗液与在高纯度冲洗液之后所供给的低纯度冲洗液冲洗。因此，与仅以高纯度冲洗液洗净基板的表面的基板处理相比，降低基板处理所需的成本。此外，在药液供给步骤之前所执行的第二高纯度冲洗液供给步骤中，基板上的低纯度冲洗液的一部分或全部被高纯度冲洗液置换。由此，在执行药液供给步骤之前，至少降低基板上的冲洗液中的杂质的量。因此，至少降低药液所含有的离子与低纯度冲洗液所含有的杂质之间的相互作用。此外，在杂质已经完全从基板上排除的情形中，不会产生该相互作用。因此，抑制或防止药液供给步骤中的析出物的形成。因此，在用以在药液供给步骤之前以冲洗液洗净基板的表面的基板处理中，能抑制成本的增大且抑制或防止析出物的产生。本专利技术的一个实施方式提供一种送液方法，用以经由共通流路送液至喷嘴，该送液方法包含：流路药液供给步骤，将含有离子的药液供给至所述共通流路；流路低纯度冲洗液供给步骤，在所述流路药液供给步骤之后将含有杂质的低纯度冲洗液供给至所述共通流路，所述杂质通过与所述药液所含有的所述离子相互作用而形成析出物；以及流路高纯度冲洗液供给步骤，在所述流路药液供给步骤与所述流路低纯度冲洗液供给步骤之间将所含有的所述杂质的量比所述低纯度冲洗液还少的高纯度冲洗液供给至所述共通流路。依据此方法，在流路药液供给步骤与流路低纯度冲洗液供给步骤之间执行流路高纯度冲洗步骤。因此，在流路药液供给步骤中供给至共通流路的药液被杂质的含有量比低纯度本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理方法，包含：药液供给步骤，将含有离子的药液供给至基板的表面；低纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤之后执行，并将含有杂质的低纯度冲洗液供给至所述基板的表面，所述杂质通过与所述药液所含有的所述离子相互作用而形成析出物；以及高纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤与所述低纯度冲洗液供给步骤之间执行，将所含有的所述杂质的量比所述低纯度冲洗液少的高纯度冲洗液供给至所述基板的表面。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.12.19 JP 2016-2457851.一种基板处理方法，包含：药液供给步骤，将含有离子的药液供给至基板的表面；低纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤之后执行，并将含有杂质的低纯度冲洗液供给至所述基板的表面，所述杂质通过与所述药液所含有的所述离子相互作用而形成析出物；以及高纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤与所述低纯度冲洗液供给步骤之间执行，将所含有的所述杂质的量比所述低纯度冲洗液少的高纯度冲洗液供给至所述基板的表面。2.如权利要求1所记载的基板处理方法，其中，所述药液包含有酸性的水溶液；所述低纯度冲洗液含有作为所述杂质的有机物。3.如权利要求2所记载的基板处理方法，其中，所述酸性的水溶液含有盐酸。4.如权利要求1至3中任一项所记载的基板处理方法，其中，所述低纯度冲洗液包含含有二氧化碳的碳酸含有液。5.如权利要求1至4中任一项所记载的基板处理方法，其中，包含：第二低纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤之前执行，用以将所述低纯度冲洗液供给至所述基板的表面；以及第二高纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤与所述第二低纯度冲洗液供给步骤之间执行，用以将所述高纯度冲洗液供给至所述基板的表面。6.一种送液方法，用以经由共通流路送液至喷嘴，该送液方法包含：流路药液供给步骤，将含有离子的药液供给至所述共通流路；流路低纯度冲洗液供给步骤，在所述流路药液供给步骤之后，将含有杂质的低纯度冲洗液供给至所述共通流路，所述杂质通过与所述药液所含有的所述离子相互作用而形成析出物；以及流路高纯度冲洗液供给步骤，在所述流路药液供给步骤与所述流路低纯度冲洗液供给步骤之间，将所含有的所述杂质的量比所述低纯度冲洗液少的高纯度冲洗液供给至所述共通流路。7.如权利要求6所记载的送液方法，其中，所述药液包含有酸性的水溶液；所述低纯度冲洗液含有作为所述杂质的有机物。8.如权利要求7所记载的送液方法，其中，所述酸性的水溶液含有盐酸。9.如权利要求6至8中任一项所记载的送液方法，其中，所述低纯度冲洗液包含含有二氧化碳的碳酸含有液。10.如权利要求6至9中任一项所记载的送液方法，其中，包含：第二流路低纯度冲洗液供给步骤，在所述流路药液供给步骤之前执行，用以将所述低纯度冲洗液供给至所述共通流路；以及第二流路高纯度冲洗液供给步骤，在所述流路药液供给步骤与所述第二流路低纯度冲洗液供给步骤之间执行，用以将所述高纯度冲洗液供给至所述共通流路。11.一种基板处理装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：辻川裕贵，三浦淳靖，藤田和宏，土桥裕也，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP