在位置偏移检测动作时，搬送机构的手部移动到基板支撑部的真目标位置。由基板支撑部在预先设定的基准位置支撑的基板由搬送机构的手部接受。由手部接受的基板和手部的位置关系由位置检测部检测。基于所检测的位置关系，获取基板支撑部的基准位置和真目标位...

提供一种能够高精度地检查工件的检查技术，该工件具有为绕对称轴旋转对称的形状且周期性反复地设置有凸部和凹部的外周部。具备：保持台，其一边保持工件一边在使对称轴与旋转轴一致的状态下使工件绕旋转轴旋转；顶端拍摄机构，其拍摄旋转着的工件的凸部的...

本发明提供一种减轻基板的下表面的污染的基板处理装置。保护盘(10)配置在旋转底座(21)与基板(W)之间，能够在与基板(W)朝向下方分离的分离位置与比分离位置更接近基板(W)的接近位置之间进行升降。保护盘(10)的上表面包括：内方面(1...

本发明提供一种能够加热基板而不会在基板产生翘曲的热处理方法。因来自经加热的半导体晶片(W)的导热及热辐射，石英基座(74)也升温。在处理过的半导体晶片(W)被搬出的时间点，产生与基座(74)的端缘部相比中央部成为高温这样的不均匀的温度分...

一种基板处理装置，包含：基板保持单元，用以将基板保持为水平姿势；处理液喷嘴，具有下部开口及内壁，且从所述下部开口吐出处理液，该下部开口与由所述基板保持单元保持的基板的上表面相向，该内壁划分出筒状空间，该筒状空间是上下方向的筒状空间且从所...

本发明提供一种能够以高于以往的精度利用时序数据进行异常检测的数据处理方法。处理多个单位处理数据的数据处理方法包括：基准数据变更步骤(S300)，变更基准数据(是对每个单位要素从多个单位处理数据中选择出的数据并且是作为各单位处理数据的比较...

本发明提供一种减轻供给至旋转的基板的上表面的处理液绕入至基板的下表面侧的基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(1)包括保持基板(W)的基板保持部(3)。基板保持部(3)包括夹持基板(W)的各两个活动保持销(30)及固定保持销(35)...

本发明提供一种能够以高于以往的精度利用时序数据进行异常检测的数据处理方法。处理多个单位处理数据(各单位处理数据包括多个时序数据)的数据处理方法包括：单位处理数据评价步骤(S10～S90)，将所述多个单位处理数据中的预先设定的单位处理数据...

本发明提供一种能够容易地掌握基板处理装置的状态的数据处理方法。为了处理由具有多个处理单元(25)的基板处理装置(20)得到的时序数据(7)，数据处理方法包括：评价值计算步骤(S102)，通过将时序数据(7)与基准数据(8)进行比较，来求...

本发明提供一种能够以高于以往的精度利用时序数据进行异常检测的数据处理方法。处理多个单位处理数据(各单位处理数据包括多个时序数据)的数据处理方法包括：变更时机设定步骤(S100)，进行基准数据的变更时机的设定，该基准数据是从多个单位处理数...

本发明提供一种能够准确地判别在基板处理装置中基板是否被正常处理的数据处理方法。数据处理方法包括：期间设定步骤(S102)，对由基板处理装置(20)得到的时序数据(7)求取上升期间、稳定期间及下降期间；以及评价值计算步骤(S103)，求取...

本发明提供一种能够在异常发生前获取详细的数据的数据处理方法。数据处理方法包括：采样步骤(S103)，基于基板处理装置(20)的物理量的测定结果来求取时序数据7；评价值计算步骤(S105)，将时序数据(7)与基准数据(8)进行来求取时序数...

向基板(9)供给含有溶剂及溶质在内的处理液。通过使溶剂的至少一部分从处理液中挥发而使处理液固化或硬化，由此使处理液成为微粒保持层。向基板(9)上供给去除液并将微粒保持层从基板(9)去除。微粒保持层含有的溶质成分相对于去除液为不溶性或难溶...

一种参数管理装置，其管理包含成为产业用装置的控制基础的多个参数的参数群。参数管理装置包含：登记单元，其登记上述参数群；参数编辑单元，其变更上述参数的值；变更履历存储单元，其存储上述参数的变更履历信息；取得单元，其取得存储于上述变更履历存...

本发明提供一种即使在将溶解氧浓度被调整的处理液进行再利用的情况下，也能够以极其稳定的品质处理基板的基板处理方法和基板处理装置。在供给容器中贮存处理液。测量处理液的溶解氧浓度。通过向供给容器内供给非活性气体的浓度高于空气的浓度调整气体，根...

本发明提供一种即使是形成着自然氧化膜的半导体衬底也能够将掺杂剂较浅地导入的热处理方法。进行将成膜着包含掺杂剂的薄膜的半导体晶圆在包含氢气的气氛中加热至退火温度(T1)的氢气退火。在包含掺杂剂的薄膜与半导体晶圆之间不可避免地形成着自然氧化...

在供第一供给液及第二供给液分别流动的第一以及第二供给液管路(412、422)设置有第一以及第二浓度测定部(415、425)。第二供给液中的气体的溶解浓度比第一供给液低。第一以及第二分支管路(51、52)的一端分别连接于第一以及第二供给液...

处理液供给装置对处理基板的处理单元供给处理液。处理液供给装置包含：贮存槽，贮存处理液；循环流路，使所述贮存槽内的处理液循环；供给流路，自所述循环流路对所述处理单元供给处理液；返回流路，使已供给至所述处理单元的处理液返回至所述循环流路；以...

对具有绕对称轴旋转对称的外周部的工件高精度地进行检查，并且缩短该检查的周期时间。各工件的检查中，基于执行第1工序(在预对准位置将工件保持于保持台，并使工件绕旋转轴旋转的同时对工件进行拍摄)所取得的图像，进行保持台处的工件的位置校正，以消...

使工件的对称轴与保持该工件并使其旋转的工件保持装置的旋转轴高精度地一致。包括：保持台，其具有：保持工件的卡盘机构、支承卡盘机构并使卡盘机构在与旋转轴正交的方向移动而对工件进行定位的定位机构、和通过使定位机构绕旋转轴旋转而使保持于卡盘机构...