处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法制造方法及图纸

处理液供给装置对处理基板的处理单元供给处理液。处理液供给装置包含：贮存槽，贮存处理液；循环流路，使所述贮存槽内的处理液循环；供给流路，自所述循环流路对所述处理单元供给处理液；返回流路，使已供给至所述处理单元的处理液返回至所述循环流路；以及温度调节单元，对在所述循环流路循环的处理液的温度进行调节。

Treatment liquid supply device, substrate treatment device and treatment liquid supply method

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法
本专利技术涉及一种对处理基板的处理单元供给处理液的处理液供给装置、具备该处理液供给装置的基板处理装置、以及使用该处理液供给装置及该基板处理装置的处理液供给方法。成为处理对象的基板，例如包含半导体晶片、液晶显示设备用基板、有机EL(Electroluminescence；场致发光)显示设备等的FPD(FlatPanelDisplay；平板显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳电池用基板等基板。
技术介绍
在逐片地处理基板的单张式基板处理装置的基板处理中，例如将贮存于槽的药液等处理液供给至处理基板的处理单元。为了减少每个基板的处理的不均，需要对供给至处理单元的处理液的温度进行调节。因此，下述专利文献1中提出如下的基板处理装置，即，具备将自药液槽送出的药液供给至处理单元的药液供给路及安装于药液供给路的加热器。在利用该基板处理装置进行的基板处理中，可将经加热器调节了温度后的处理液供给至基板。而且，该基板处理装置构成为自药液供给路供给至处理单元的药液经由药液回收路而回收至药液槽。[现有技术文献]专利文献专利文献1：日本特开2006-269668号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题要另外说明的是，基板处理在经过长时间的情况下，有时要将已对处理单元供给了处理液的处理液槽更换为其他处理液槽。此时，处理液对处理单元的供给被中断。专利文献1的基板处理装置中设置有药液循环路，该药液循环路连接于药液供给路且供药液槽内的药液循环。因此，可在药液槽的更换后且药液对基板的供给的停止中的情况下，使药液供给路、药液循环路及药液槽内的药液循环。通过利用加热器对循环的药液进行加热，而可调节药液供给路、药液循环路及药液槽内的药液的温度。另一方面，在处理液对处理单元的供给被中断的期间，不对药液回收路供给药液。因此，药液回收路内的药液不会回到药液槽而是积存于药液回收路内。已积存于药液回收路内的处理液在药液回收路内冷却。当药液对处理单元的供给重新开始时，已在药液回收路内冷却的药液被新进入至药液回收路的药液挤出而回到药液槽。由于药液回收路内温度已降低的药液回到药液槽，故药液槽内的药液会被冷却。因此，供给至处理单元的药液的温度降低。接着，已冷却的药液通过药液供给路被供给至基板。此时，可能发生药液被加热器充分加热前便被供给至基板的情况。因此，本专利技术的一个目的在于提供一种即便在处理液对处理单元的供给已中断情形时，亦可抑制处理液对处理单元的供给重新开始时供给至处理单元的处理液的温度的变化的处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法。用以解决课题的手段本专利技术的一实施方式提供一种处理液供给装置，对处理基板的处理单元供给处理液，该处理液供给装置包含：贮存槽，贮存处理液；循环流路，使所述贮存槽内的处理液循环；供给流路，自所述循环流路对所述处理单元供给处理液；返回流路，使已供给至所述处理单元的处理液返回至所述循环流路；以及温度调节单元，对在所述循环流路循环的处理液的温度进行调节。根据该构成，贮存槽内的处理液通过循环流路而循环。在循环流路循环的处理液的温度通过温度调节单元而调节。因此，供给流路可将温度已得到适当调节的处理液供给至处理单元。已供给至处理单元的处理液经由返回流路而返回至循环流路。循环流路例如包含连接有返回流路的分支部、自循环流路的上游侧连接至分支部的上游流路、及自循环流路的下游侧连接至分支部的下游流路。循环流路的上游侧指处理液流经循环流路的方向的上游侧。循环流路的下游侧指处理液流经循环流路的方向的下游侧。已供给至处理单元的处理液通过返回流路、分支部及下游流路而返回至贮存槽。因此，与返回流路内的处理液直接返回至贮存槽的构成相比，可将处理液流经返回流路内的距离设定得较短。因此，在已中断处理液对处理单元的供给的情形时，可减少残存于返回流路内的处理液的量。由此，可抑制因返回流路内已被冷却的处理液在处理液对处理单元的供给重新开始时回到贮存槽而将贮存槽内的处理液冷却。其结果，即便在已中断处理液对处理单元的供给的情形时，亦可抑制在处理液对处理单元的供给重新开始时供给至处理单元的处理液的温度的变化。本专利技术的一实施方式中，处理液流经所述返回流路内的距离比处理液流经所述下游流路内的距离短。因此，在已中断处理液对处理单元的供给的情形时，可进一步减少残存于返回流路内的处理液的量。由此，可进一步抑制在处理液对处理单元的供给重新开始时供给至处理单元的处理液的温度的变化。本专利技术的一实施方式中，所述循环流路包含设置于所述分支部的循环槽，所述循环槽包含连接有所述上游流路及所述返回流路的顶部、及连接有所述下游流路的底部。根据该构成，在设置于分支部的循环槽的顶部连接有上游流路及返回流路。因此，自上游流路及返回流路供给至循环槽的处理液容易移动到循环槽内的底部。因此，自上游流路及返回流路供给至循环槽的处理液容易流动到连接于底部的下游流路。由此，循环流路可使处理液顺畅地循环。在对循环槽内供给处理液时，循环槽内的处理液积存于底部。因此，循环槽内的处理液的液面与顶部之间容易设置有间隔。因此，可防止因循环槽内的处理液到达顶部而循环槽内的处理液向返回流路逆流的情况。本专利技术的一实施方式中，所述处理液供给装置还包含：下游阀，用以开闭所述下游流路；以及阀开闭单元，维持关闭所述下游阀的状态直至所述循环槽内的处理液的量达到基准量为止，在所述循环槽内的处理液的量达到基准量时打开所述下游阀。根据该构成，下游阀维持关闭状态直至循环槽内的处理液的量达到基准量为止。下游阀在循环槽内的处理液的量达到基准量时便被打开。因此，可防止循环槽内的处理液到达循环槽的顶部。因此，可有效地防止循环槽内的处理液向返回流路逆流。本专利技术的一实施方式中，设置有多个所述处理单元，已自所述供给流路供给至多个所述处理单元中的各个处理单元的处理液经由所述返回流路而共通地供给至所述循环槽。根据该构成，已自供给流路供给至多个处理单元中的各个处理单元的处理液经由返回流路而共通地供给至循环槽。详细而言，供给流路对处理单元中的各处理单元供给处理液，返回流路将处理液自各个处理单元向循环槽导引。因此，无须针对每个处理单元设置循环槽。本专利技术的一实施方式中，所述分支部比所述处理单元所具有的用以收容所述基板的处理腔室更靠下方。因此，返回流路内的处理液容易朝向循环流路流动。因此，在已中断处理液对处理单元的供给的情形时，可进一步减少残存于返回流路内的处理液的量。由此，可进一步抑制在处理液对处理单元的供给重新开始时供给至处理单元的处理液的温度的变化。本专利技术的一实施方式中，所述分支部与所述返回流路一起收容于与所述处理腔室邻接配置的流路盒。因此，可减小处理腔室与循环槽的距离。进而，可将返回流路设定得更短。本专利技术的一实施方式中，设置有多个所述贮存槽；上述处理液供给装置还包含：上游切换单元，将对所述分支部或所述处理单元供给处理液的作为供给源的所述贮存槽在所述多个贮存槽中进行切换；以及下游切换单元，以使自所述分支部被供给处理液的作为供给目标的所述贮存槽与作为所述供给源的所述贮存槽为同一槽的方式，将作为所述供给目标的贮存槽在所述多个贮存槽中进行切换。根据该构成，作为供给目标的贮存槽被在多个贮本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种处理液供给装置，对处理基板的处理单元供给处理液，包含：贮存槽，贮存处理液；循环流路，使所述贮存槽内的处理液循环；供给流路，自所述循环流路对所述处理单元供给处理液；返回流路，使已供给至所述处理单元的处理液返回至所述循环流路；以及温度调节单元，对在所述循环流路循环的处理液的温度进行调节。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.01.31 JP 2017-0161031.一种处理液供给装置，对处理基板的处理单元供给处理液，包含：贮存槽，贮存处理液；循环流路，使所述贮存槽内的处理液循环；供给流路，自所述循环流路对所述处理单元供给处理液；返回流路，使已供给至所述处理单元的处理液返回至所述循环流路；以及温度调节单元，对在所述循环流路循环的处理液的温度进行调节。2.如权利要求1所记载的处理液供给装置，其中，所述循环流路包含连接有所述返回流路的分支部、自所述循环流路的上游侧连接至所述分支部的上游流路、及自所述循环流路的下游侧连接至所述分支部的下游流路。3.如权利要求2所记载的处理液供给装置，其中，处理液流经所述返回流路内的距离比处理液流经所述下游流路内的距离短。4.如权利要求2或3所记载的处理液供给装置，其中，所述循环流路包含设置于所述分支部的循环槽；所述循环槽包含连接有所述上游流路及所述返回流路的顶部、及连接有所述下游流路的底部。5.如权利要求4所记载的处理液供给装置，其中，还包含：下游阀，用以开闭所述下游流路；以及阀开闭单元，用以维持关闭所述下游阀的状态直至所述循环槽内的处理液的量达到基准量为止，在所述循环槽内的处理液的量达到基准量时打开所述下游阀。6.如权利要求4或5所记载的处理液供给装置，其中，设置有多个所述处理单元；自所述供给流路供给至多个所述处理单元中的各个处理单元的处理液经由所述返回流路而共通地供给至所述循环槽。7.如权利要求2至5中任一项所记载的处理液供给装置，其中，所述分支部比所述处理单元所具有的用以收容所述基板的处理腔室的靠下方。8.如权利要求7所记载的处理液供给装置，其中，所述分支部与所述返回流路一起收容于与所述处理腔室邻接配置的流路盒。9.如权利要求2至8中任一项所记载的处理液供给装置，其中，设置有多个所述贮存槽；上述处理液供给装置还包含：上游切换单元，将对所述分支部或所述处理单元供给处理液的作为供给源的所述贮存槽在所述多个贮存槽中进行切换；以及下游切换单元，以使自所述分支部被供给处理液的作为供给目标的所述贮存槽与作为所述供给源的所述贮存槽为同一槽的方式，将作为所述供给目标的所述贮存槽在所述多个贮存槽中进行切换。10.一种基板处理装置，包含：权利要求1至9中任一项所记载的处理液供给装...

【专利技术属性】
技术研发人员：太田乔，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP