基板处理装置及基板处理方法制造方法及图纸

基板处理装置包括：基板保持单元，用于保持基板；旋转单元，使被所述基板保持单元保持的基板绕规定的第一旋转轴线旋转，所述第一旋转轴线通过该基板的主面的中央部；喷嘴，所述喷嘴被设置为能够绕规定的第二旋转轴线自转，并向所述基板的主面喷出处理流体，并且所述喷嘴具有多个喷出口，所述多个喷出口配置在与所述第二旋转轴线分离的位置上；喷嘴臂，用于支承所述喷嘴；喷嘴自转单元，使所述喷嘴绕所述第二旋转轴线自转；处理流体供给单元，向所述多个喷出口供给处理流体；喷嘴移动单元，通过使所述喷嘴臂移动，从而使所述喷嘴在中央部处理位置与周缘部处理位置之间移动，所述中央部处理位置是向基板的主面的中央部供给从所述喷嘴喷出的处理流体的位置，所述周缘部处理位置是向所述基板的主面的周缘部供给从所述喷嘴喷出的处理流体的位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置及基板处理方法
在半导体装置或液晶显示装置的制造工序中，为了利用处理液对半导体晶片或液晶显示面板用玻璃基板等基板的主面进行处理，有时使用逐张处理基板的单张式基板处理装置。该单张式基板处理装置例如包括：旋转卡盘，用于将基板保持为近似水平姿势并使该基板旋转；喷嘴，用于向被旋转卡盘保持的基板的主面喷出处理液；喷嘴臂，用于支承喷嘴；喷嘴移动单元，使喷嘴臂移动，从而使从喷嘴喷出的处理液的着落位置沿着通过基板的旋转中心的规定轨迹移动。在将多种处理液用于基板处理的情况下，设置与各处理液对应的喷嘴。为了提高生产率，期望减少喷嘴臂的数量，因此，以往，如下述的专利文献1、2所述，提出了一种将互不相同的处理液用的喷出口由一个喷嘴臂保持的结构。现有技术文献专利文献1：日本特开2014-072234号公报专利文献2：日本特开2014-072439号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题如专利文献1及专利文献2所述，在将具有多个喷出口的喷嘴由一个喷嘴臂保持的情况下，在喷嘴配置在与基板的主面周缘部相向的周缘部处理位置上的状态下，多个喷出口与旋转轴线的距离互不相同。该情况下，当以向基板的周缘区域(周本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其中，包括：基板保持单元，用于保持基板；旋转单元，使被所述基板保持单元保持的基板绕规定的第一旋转轴线旋转，所述第一旋转轴线通过该基板的主面的中央部；喷嘴，所述喷嘴被设置为能够绕规定的第二旋转轴线自转，并向所述基板的主面喷出处理流体，并且所述喷嘴具有多个喷出口，所述多个喷出口配置在与所述第二旋转轴线分离的位置上；喷嘴臂，用于支承所述喷嘴；喷嘴自转单元，使所述喷嘴绕所述第二旋转轴线自转；处理流体供给单元，向所述多个喷出口供给处理流体；喷嘴移动单元，通过使所述喷嘴臂移动，从而使所述喷嘴在中央部处理位置与周缘部处理位置之间移动，所述中央部处理位置是向基板的主面的中央部供给从所述喷...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.01.25 JP 2016-0118851.一种基板处理装置，其中，包括：基板保持单元，用于保持基板；旋转单元，使被所述基板保持单元保持的基板绕规定的第一旋转轴线旋转，所述第一旋转轴线通过该基板的主面的中央部；喷嘴，所述喷嘴被设置为能够绕规定的第二旋转轴线自转，并向所述基板的主面喷出处理流体，并且所述喷嘴具有多个喷出口，所述多个喷出口配置在与所述第二旋转轴线分离的位置上；喷嘴臂，用于支承所述喷嘴；喷嘴自转单元，使所述喷嘴绕所述第二旋转轴线自转；处理流体供给单元，向所述多个喷出口供给处理流体；喷嘴移动单元，通过使所述喷嘴臂移动，从而使所述喷嘴在中央部处理位置与周缘部处理位置之间移动，所述中央部处理位置是向基板的主面的中央部供给从所述喷嘴喷出的处理流体的位置，所述周缘部处理位置是向所述基板的主面的周缘部供给从所述喷嘴喷出的处理流体的位置。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述处理流体供给单元向所述多个喷出口供给种类互不相同的处理流体。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述基板处理装置还包括第一姿势控制装置，所述第一姿势控制装置根据应从所述喷嘴喷出的处理流体的种类，通过所述喷嘴自转单元来控制所述喷嘴的旋转方向姿势。4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，所述基板处理装置还包括第二姿势控制装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：桥诘彰夫，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP