基板处理方法和基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种基板处理方法和基板处理装置，一边防止气泡卷入在基板的表面形成的图案的凹部，一边将填充剂良好地填充于凹部。基板处理方法包括：液膜形成工序，在基板中的形成有图案的图案形成面形成冲洗液的液膜；积液形成工序，在基板的旋转中心附近，向液膜供给有机溶剂来形成有机溶剂的积液；置换工序，一边使基板以与积液形成工序相比更大的转速旋转，一边向积液供给有机溶剂，从而将构成液膜的冲洗液置换为有机溶剂；涂敷工序，在被有机溶剂覆盖的图案形成面涂敷填充剂溶液；以及，填充工序，使在图案形成面涂敷的填充剂溶液所包含的填充剂，向图案的凹部下沉来进行填充。

Substrate treatment method and substrate treatment device

The invention relates to a substrate processing method and a substrate processing device, while preventing bubbles from being involved in the concave part formed on the surface of the substrate, and filling the filling agent well on the side of the concave part. A substrate processing method includes: liquid film formation process, a pattern is formed in the substrate to form a pattern of surface formation fluid effusion film; forming process, in the vicinity of the center of rotation of the substrate to the liquid supply of organic solvent to form liquid organic solvent; replacement process, one side of the substrate with effusion formation process compared to the larger the speed of rotation, while the fluid supply of organic solvent, which will constitute a liquid flushing fluid replacement for organic solvent; coating process, coating filler formed by organic solvents in solution covering pattern; and filling process, the filler filler solution formed in the pattern of the surface coating contains the concave pattern to sink to fill.

【技术实现步骤摘要】
基板处理方法和基板处理装置
本专利技术涉及一种对表面形成有图案的基板进行处理的基板处理技术。另外，作为基板，包括液晶显示装置用玻璃基板、半导体基板、等离子显示器用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、彩色滤光片用基板、存储盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用柔性基板或有机电致发光用基板等各种基板。
技术介绍
在半导体装置或液晶显示装置等电子部件的制造工序中，包括在基板的表面反复实施成膜、蚀刻等处理来形成细微图案的工序。此处，为了对基板表面良好地进行细微加工，有必要将基板表面保持为清洁的状态，根据情况对基板表面进行清洗处理。然后，在清洗处理结束后，有必要去除附着于基板表面的去离子水(DIW：DeIonizedWater，以下记载为“DIW”)等冲洗液，来使基板干燥。该干燥处理中一个重要的问题是，在不使形成于基板表面的图案倒塌的情况下，使基板干燥。作为解决该问题的方法，正在关注升华干燥技术。例如，在日本特开2007-19161号公报中，通过向受到了曝光处理的光致抗蚀剂膜供给显影液，溶解在基板的表面涂敷的光致抗蚀剂膜，从而形成图案。虽然向该基板的表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理方法，其特征在于，包括：液膜形成工序，在基板中的形成有图案的图案形成面形成冲洗液的液膜；积液形成工序，在所述基板的旋转中心附近，向所述液膜供给有机溶剂来形成所述有机溶剂的积液；置换工序，一边使所述基板以与所述积液形成工序相比更高的转速旋转，一边向所述积液供给所述有机溶剂，从而将构成所述液膜的所述冲洗液置换为所述有机溶剂；涂敷工序，在被所述有机溶剂覆盖的所述图案形成面涂敷填充剂溶液；以及，填充工序，使在所述图案形成面涂敷的所述填充剂溶液所包含的填充剂，向所述图案的凹部下沉来进行填充。

【技术特征摘要】
2016.09.27 JP 2016-188638;2017.08.08 JP 2017-153161.一种基板处理方法，其特征在于，包括：液膜形成工序，在基板中的形成有图案的图案形成面形成冲洗液的液膜；积液形成工序，在所述基板的旋转中心附近，向所述液膜供给有机溶剂来形成所述有机溶剂的积液；置换工序，一边使所述基板以与所述积液形成工序相比更高的转速旋转，一边向所述积液供给所述有机溶剂，从而将构成所述液膜的所述冲洗液置换为所述有机溶剂；涂敷工序，在被所述有机溶剂覆盖的所述图案形成面涂敷填充剂溶液；以及，填充工序，使在所述图案形成面涂敷的所述填充剂溶液所包含的填充剂，向所述图案的凹部下沉来进行填充。2.根据权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，还具备冲洗工序，在该冲洗工序中，一边使所述基板以第一转速旋转，一边向所述图案形成面供给所述冲洗液，从而冲洗所述图案形成面；所述液膜形成工序紧接着所述冲洗工序执行，该液膜形成工序包括：将所述基板的转速减小至小于所述第一转速的第二转速的工序，所述积液形成工序包括：将所述基板的转速设定为所述第二转速以下的工序。3.根据权利要求2所述的基板处理方法，其特征在于，在所述积液形成工序中，使所述基板停止旋转来供给所述有机溶剂。4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板处理方法，其特征在于，还具备完成工序，该完成工序紧接着所述填充工序执行，通过使所述基板旋转，一边在所述图案的所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：金松泰范，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP