基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种基板处理装置，抑制清洗刷的刷主体中的用于与基板抵接的基板抵接部的大小的变动。基板处理装置具备基板的旋转保持机构、用于使安装有清洗刷的轴移动的刷移动机构，刷主体包括用于形成柱状部分的顶端面的基板抵接部，基板处理装置还具备矫正构件、用于使矫正构件相对地定位于目标位置的相对定位机构。在矫正构件定位于目标位置时，矫正构件的接触部与对象部分彼此重叠，所述对象部分为，将设计刷的设计主体的设计柱状部分的外周面中的设计抵接部、带状的环状部分合起来的部分，接触部形成为将设计刷的对象部分的形状反转的形状，并且接触部中的与带状的环状部分对应的部分，是与轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术涉及使刷接触各种基板的表面来实施清洗处理的基板处理装置。各种基板包括半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板、等离子显示器用玻璃基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用玻璃基板、太阳能电池用基板等。
技术介绍
专利文献1中公开了对基板的上表面进行清洗处理的基板处理装置。该基板处理装置具备臂，该臂能够上下移动，并且能够在水平面内以规定的旋转轴为中心旋转。在臂的顶端设置有向下方延伸的轴，该轴能够以其中心轴为中心旋转。在轴的下端连结有清洗刷，该清洗刷具备安装于刷保持件的刷主体。在该基板处理装置中，在使清洗刷按压于旋转的基板的上表面的状态下，向基板的上表面供给清洗用的处理液并且使臂旋转，从而使得清洗刷在基板的上表面中央部和上表面周缘部之间移动。由此，清洗刷的刷主体与基板的整个上表面接触，对基板的上表面进行清洗处理。当基板的清洗处理结束时，该基板处理装置通过使臂移动，来使清洗刷移动到设置于待机位置的筒状的待机容器(pod)。在待机容器，设置有喷出用于清洗清洗刷的清洗液的筒状的清洗棒。在该基板处理装置中，能够在使清洗刷的刷主体接触清洗棒的状态下，通过使轴和清洗刷以中心轴为中心一体地旋转来清洗刷主体。专利文献1：日本特开2015-19024号公报但是，在专利文献1的基板处理装置中，当重复进行基板的清洗处理时，因清洗刷的刷主体变形而导致刷主体中的与基板抵接的基板抵接部的大小变动，因此刷主体与基板的接触方式产生变动。由此，不能进行预想的清洗方式，因此存在清洗效率变差或者污染基板的问题。
技术实现思路
本专利技术是为了解决这样的问题而提出的，其目的在于提供一种技术，能够抑制清洗刷的刷主体中的用于与基板抵接的基板抵接部的大小的变动。为了解决所述的问题，第一方式的基板处理装置具备：旋转保持机构，保持基板，使该基板以规定的旋转轴为中心旋转，清洗刷，包括能够弹性变形的刷主体，以及，刷移动机构，包括安装有所述清洗刷的轴，所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动，所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸；所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分，并且包括用于与所述基板抵接的基板抵接部，该基板抵接部形成所述柱状部分的顶端面；所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的主面接触；在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷，用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体，用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时，所述基板处理装置还具备：矫正构件，在该矫正构件的外周面包括接触部，该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触，以及，相对定位机构，通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动，使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷规定的目标位置；在所述矫正构件定位于所述目标位置时，所述接触部与对象部分彼此重叠，所述对象部分为，将所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的外周面中的所述设计抵接部、该外周面中的从所述设计抵接部的周缘沿着所述轴的延伸方向延伸的带状的环状部分合起来的部分；所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状，并且所述接触部中的与所述带状的环状部分对应的部分，是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。第八方式的基板处理装置具备：具备：旋转保持机构，保持基板，使该基板以规定的旋转轴为中心旋转，清洗刷，包括能够弹性变形的刷主体，以及，刷移动机构，包括安装有所述清洗刷的轴，所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动，所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸；所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分，并且包括用于与所述基板抵接的基板抵接部，该基板抵接部形成所述柱状部分的顶端面；所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的主面接触；在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷，用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体，用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时，所述基板处理装置还具备：矫正构件，在该矫正构件的外周面包括接触部，该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触，相对定位机构，通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动，使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷规定的目标位置，以及，相对旋转机构，使所述清洗刷以所述轴的中心轴线为中心，相对于所述矫正构件相对地旋转；将所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的外周面中的所述设计抵接部、该外周面中的从所述设计抵接部的周缘沿着所述轴的延伸方向延伸的带状的环状部分合起来的部分，是以所述中心轴线为中心的旋转体；在所述矫正构件定位于所述目标位置时，所述接触部与对象部分彼此重叠，所述对象部分为，将所述旋转体的旋转轨迹中的与所述带状的环状部分对应的部分的周向的至少一部分、该旋转轨迹中的与所述设计抵接部对应的部分合起来的部分，所述旋转体利用所述相对旋转机构相对于所述矫正构件相对地旋转；所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状，并且所述接触部中的与所述带状的环状部分对应的部分，是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。第十五方式的基板处理装置具备：旋转保持机构，保持基板，使该基板以规定的旋转轴为中心旋转，清洗刷，包括能够弹性变形的刷主体，以及，刷移动机构，包括安装有所述清洗刷的轴，所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动，所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸；所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分，并且在所述柱状部分的侧面包括用于与所述基板抵接的基板抵接部；所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的周缘部接触；在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷，用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体，用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时，所述基板处理装置还具备：矫正构件，在该矫正构件的外周面包括接触部，该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触，以及，相对定位机构，通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动，使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷规定的目标位置；在所述矫正构件定位于所述目标位置时，所述接触部与对象部分彼此重叠，所述对象部分为，所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的侧面中的、包括所述设计抵接部的部分；所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状，并且所述接触部是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。第二十二方式的基板处理装置具备：旋转保持机构，保持基板，使该基板以规定的旋转轴为中心旋转，清洗刷，包括能够弹性变形的刷主体，以及，刷移动机构，包括安装有所述清洗刷的轴，所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动，所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸；所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分，并且在所述柱状部分的侧面包括用于与所述基板抵接的基板抵接部；所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的周缘部接触；在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其中，具备：旋转保持机构，保持基板，使该基板以规定的旋转轴为中心旋转，清洗刷，包括能够弹性变形的刷主体，以及，刷移动机构，包括安装有所述清洗刷的轴，所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动，所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸；所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分，并且包括用于与所述基板抵接的基板抵接部，该基板抵接部形成所述柱状部分的顶端面，所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的主面接触，在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷，用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体，用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时，所述基板处理装置还具备：矫正构件，在该矫正构件的外周面包括接触部，该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触，以及，相对定位机构，通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动，使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷被规定的目标位置；在所述矫正构件定位于所述目标位置时，所述接触部与对象部分彼此重叠，所述对象部分为，将所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的外周面中的所述设计抵接部、该外周面中的从所述设计抵接部的周缘沿着所述轴的延伸方向延伸的带状的环状部分合起来的部分，所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状，并且所述接触部中的与所述带状的环状部分对应的部分，是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。...

【技术特征摘要】
2016.09.21 JP 2016-1839191.一种基板处理装置，其中，具备：旋转保持机构，保持基板，使该基板以规定的旋转轴为中心旋转，清洗刷，包括能够弹性变形的刷主体，以及，刷移动机构，包括安装有所述清洗刷的轴，所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动，所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸；所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分，并且包括用于与所述基板抵接的基板抵接部，该基板抵接部形成所述柱状部分的顶端面，所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的主面接触，在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷，用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体，用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时，所述基板处理装置还具备：矫正构件，在该矫正构件的外周面包括接触部，该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触，以及，相对定位机构，通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动，使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷被规定的目标位置；在所述矫正构件定位于所述目标位置时，所述接触部与对象部分彼此重叠，所述对象部分为，将所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的外周面中的所述设计抵接部、该外周面中的从所述设计抵接部的周缘沿着所述轴的延伸方向延伸的带状的环状部分合起来的部分，所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状，并且所述接触部中的与所述带状的环状部分对应的部分，是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述刷主体具有海绵状的结构；所述基板处理装置还具备流体供给机构，在所述矫正构件相对于所述设计刷定位于所述目标位置的状态下，所述流体供给机构向所述清洗刷的所述刷主体供给规定的流体，形成经过所述刷主体的内部朝向所述矫正构件的所述接触部的所述流体的流体流。3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，在所述矫正构件形成有在所述接触部开口的吸引用流路，所述基板处理装置还具备减压机构，所述减压机构与所述吸引用流路连通，来对所述吸引用流路内进行减压。4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，还具备矫正构件清洗机构，在所述矫正构件从所述目标位置离开的状态下，所述矫正构件清洗机构向所述矫正构件的所述接触部供给清洗液来清洗所述接触部。5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，还具备刷清洗机构，在所述矫正构件定位于所述目标位置的状态下，所述刷清洗机构能够向所述清洗刷的所述刷主体供给清洗液来清洗所述刷主体。6.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，在所述矫正构件定位于所述目标位置的状态下，所述矫正构件清洗机构能够向所述清洗刷的所述刷主体供给清洗液来清洗所述刷主体。7.根据权利要求1至6中任一项权利要求所述的基板处理装置，其中，还具备测量器，所述测量器测量所述清洗刷的所述刷主体的变形量。8.一种基板处理装置，其中，具备：旋转保持机构，保持基板，使该基板以规定的旋转轴为中心旋转，清洗刷，包括能够弹性变形的刷主体，以及，刷移动机构，包括安装有所述清洗刷的轴，所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动，所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸；所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分，并且包括用于与所述基板抵接的基板抵接部，该基板抵接部形成所述柱状部分的顶端面，所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的主面接触，在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷，用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体，用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时，所述基板处理装置还具备：矫正构件，在该矫正构件的外周面包括接触部，该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触，相对定位机构，通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动，使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷被规定的目标位置，以及，相对旋转机构，使所述清洗刷以所述轴的中心轴线为中心，相对于所述矫正构件相对地旋转；将所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的外周面中的所述设计抵接部、该外周面中的从所述设计抵接部的周缘沿着所述轴的延伸方向延伸的带状的环状部分合起来的部分，是以所述中心轴线为中心的旋转体，在所述矫正构件定位于所述目标位置时，所述接触部与对象部分彼此重叠，所述对象部分为，将所述旋转体的旋转轨迹中的与所述带状的环状部分对应的部分的周向的至少一部分、该旋转轨迹中的与所述设计抵接部对应的部分合起来的部分，所述旋转体利用所述相对旋转机构相对于所述矫正构件相对地旋转，所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状，并且所述接触部中的与所述带状的环状部分对应的部分，是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，所述刷主体具有海绵状的结构；所述基板处理装置还具备流体供给机构，在所述矫正构件相对于所述设计刷定位于所述目标位置的状态下，所述流体供给机构向所述清洗刷的所述刷主体供给规定的流体，形成经过所述刷主体的内部朝向所述矫正构件的所述接触部的所述流体的流体流。10.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，在所述矫正构件形成有在所述接触部开口的吸引用流路，所述基板处理装置还具备减压机构，所述减压机构与所述吸引用流路连通，来对所述吸引用流路内进行减压。11.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，还具备矫正构件清洗机构，在所述矫正构件从所述目标位置离开的状态下，所述矫正构件清洗机构向所述矫正构件的所述接触部供给清洗液来清洗所述接触部。12.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，还具备刷清洗机构，在所述矫正构件定位于所述目标位置的状态下，所述刷清洗机构能够向所述清洗刷的所述刷主体供给清洗液来清洗所述刷主体。13.根据权利要求11所述的基板处理装置，其中，在所述矫正构件定位于所述目标位置的状态下，...

【专利技术属性】
技术研发人员：矢野航，桥诘彰夫，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP