基板处理装置及基板处理装置的控制方法制造方法及图纸

在涂敷装置(1)中，喷嘴移动机构(5)选择性地把持多个涂敷液喷嘴(3)中的一个，并且使把持的涂敷液喷嘴(3)及溶剂喷嘴(4)一体地移动，至少使溶剂喷嘴(4)向溶剂吸引部(35)移动。然后，使移动后的溶剂喷嘴(4)向溶剂吸引部(35)喷出溶剂，使滞留于被喷出有溶剂的同一溶剂吸引部(35)的溶剂，被吸引至把持的涂敷液喷嘴(3)。因此，用同一溶剂吸引部(35)进行溶剂的喷出和吸引，所以能够抑制溶剂的使用量。另外，溶剂吸引部(35)也可以不设置有用于供给溶剂的供给系统。因此，能够使溶剂吸引部(35)的结构变得简单，从而能够抑制成本。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置及基板处理装置的控制方法
本专利技术涉及一种基板处理装置及基板处理装置的控制方法，针对用于向半导体基板、液晶显示用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板等基板喷出光致抗蚀剂液等的喷嘴，使该喷嘴吸引溶剂等。
技术介绍
以往，作为基板处理装置，存在用于向基板涂敷光致抗蚀剂等涂敷液的涂敷装置。涂敷装置具备：保持旋转部，其保持基板并使其旋转；多个涂敷液喷嘴，其喷出涂敷液；以及，喷嘴移动机构，其使涂敷液喷嘴移动到任意的位置。多个涂敷液喷嘴分别保持于待机容器，该待机容器在保持旋转部的侧方，而且该待机容器的数量与涂敷液喷嘴的数量相同(例如，参照专利文献1～3)。喷嘴移动机构把持在待机容器中待机的多个涂敷液喷嘴中的一个。如图10所示，待机容器能够进行空分配，具备：喷嘴待机部131，其使涂敷液喷嘴待机；以及，溶剂吸引部135，其用于向涂敷液喷嘴的顶端内部吸引溶剂。另外，如图11所示，在涂敷装置具备十个涂敷液喷嘴103的情况下，待机容器构成为，一个喷嘴待机部131和一个溶剂吸引部135排列了十组的结构。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特许第5442232号公报专利文献2：日本特许第2923044号公报专利文献3：日本特许第4606234号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题但是，以往的涂敷装置存在如下问题。在图11中，在向涂敷液喷嘴103A吸引溶剂的情况下，就向待机容器供给溶剂的动作而言，不仅在溶剂吸引部135A进行，还在不进行吸引动作的其他所有的溶剂吸引部135进行。因此，存在溶剂使用量变多的问题。另外，由于待机容器的结构复杂，存在溶剂吸引部135的清扫和溶剂吸引部135的部件更换困难的问题。即，涂敷液喷嘴103是最靠近基板的部分，希望处于清洁的状态。吸引动作与涂敷液喷嘴的清洗同时进行，涂敷液喷嘴与溶剂接触。但是，当长期间使用且多次进行吸引动作时，产生很难分辨是否已清洗的状况。因此，希望定期地清扫溶剂吸引部135。但是，如图10、图11所示，待机容器具有复杂的结构，溶剂吸引部135位于喷嘴待机部131的附近的复杂的部分。因此，很难清扫该位置的溶剂吸引部135。另外，由于喷嘴待机部131和溶剂吸引部135是一体的结构，因此很难仅卸下溶剂吸引部135来更换部件。而且，由于待机容器的结构复杂，因此存在成本变高的问题。另外，在专利文献2中公开了如下结构，即，用于使清洗液流过喷嘴顶端部来清洗喷嘴顶端部的专用的清洗液用管，与喷嘴连接。另外，专利文献3中公开了如下结构，即，将多个处理液供给喷嘴和一个溶剂供给喷嘴一体地固定于共用的支撑部。针对用于向各个处理液供给喷嘴的顶端内部吸引的各个溶剂贮存部，溶剂供给喷嘴依次移动来喷出溶剂。因此，在溶剂的喷出和溶剂的吸引之间，需要进行用于使处理液供给喷嘴水平移动的动作。本专利技术是鉴于这样的情况而提出的，其目的在于提供一种基板处理装置及基板处理装置的控制方法，能够减少溶剂等的使用量，能够容易进行清扫和更换部件。用于解决问题的手段本专利技术是为了实现这样的目的，采用如下的结构。即，本专利技术的一种基板处理装置，其特征在于，具备：多个第一喷嘴，向基板喷出第一处理液；第二喷嘴，向基板喷出第二处理液；喷嘴移动机构，把持多个上述第一喷嘴中的一个，使把持的上述第一喷嘴及上述第二喷嘴一体地移动；吸引部，用于使把持的上述第一喷嘴吸引上述第二处理液；以及，控制部，利用上述喷嘴移动机构，至少使上述第二喷嘴向上述吸引部移动，使移动后的上述第二喷嘴向上述吸引部喷出上述第二处理液，使滞留于被喷出有上述第二处理液的上述吸引部的上述第二处理液，被吸引至把持的上述第一喷嘴。根据本专利技术的基板处理装置，喷嘴移动机构选择性地把持多个第一喷嘴中的一个，使把持的第一喷嘴及第二喷嘴一体地移动，至少使第二喷嘴向吸引部移动。然后，使移动后的第二喷嘴向吸引部喷出第二处理液，使滞留于被喷出有第二处理液的同一吸引部的第二处理液，被吸引到把持的第一喷嘴。因此，由于用同一吸引部进行第二处理液的喷出和吸引，因此能够抑制第二处理液的使用量。另外，吸引部也可以不设置供给第二处理液的供给系统。因此，能够使吸引部的结构变得简单，从而能够抑制成本。另外，在上述的基板处理装置中，优选上述吸引部设置有比多个上述第一喷嘴的数量少的数量，上述控制部利用上述喷嘴移动机构，至少使上述第二喷嘴向一个上述吸引部移动。即，吸引部构成为，由多个第一喷嘴共用的结构。由于不设置与多个第一喷嘴相同数量的吸引部，因此使吸引部的结构变得更简单。因此，能够抑制成本。另外，由于不设置与多个第一喷嘴相同数量的吸引部，因此能够容易清扫吸引部。另外，在上述的基板处理装置中，优选还具备喷嘴待机部，该喷嘴待机部用于使上述第一喷嘴待机；上述吸引部与上述喷嘴待机部分离设置。由于吸引部与复杂的喷嘴待机部分离设置，因此能够容易地清扫吸引部。另外，能够在安装喷嘴待机部的状态下，为了清扫等而卸下吸引部，因此容易地更换部件。另外，如上所述，从第二喷嘴向吸引部供给第二处理液，因此吸引部可以不设置用于供给第二处理液的供给系统。因此，能够省略在更换部件时卸下供给系统的配管的作业，因此能够容易地更换部件。另外，相对于一体的复杂的结构，能够使喷嘴待机部及吸引部的各个结构变得更简单，从而能够抑制成本。另外，在上述的基板处理装置的一例中，还具备多个保持旋转部，上述保持旋转部保持基板，来使该基板旋转；上述吸引部设置于多个上述保持旋转部中的相邻的两个上述保持旋转部之间。具有容易接近吸引部的效果。例如，利用喷嘴移动机构，使基板处理中使用中的第一喷嘴从一方的基板(保持旋转部)向另一方的基板(保持旋转部)移动。此时，能够高效地进行待机中的其他第一喷嘴的吸引动作。另外，在上述的基板处理装置的一例中，上述控制部利用上述喷嘴移动机构，使上述第一喷嘴及上述第二喷嘴向上述吸引部移动，在进行该移动之后，在固定了把持的上述第一喷嘴、上述第二喷嘴及上述吸引部的位置的状态下，使上述第二喷嘴向上述吸引部喷出上述第二处理液，使滞留于被喷出有上述第二处理液的上述吸引部的上述第二处理液，被吸引至把持的上述第一喷嘴。由此，在固定了把持的第一喷嘴、第二喷嘴及吸引部的位置的状态下，进行第二处理液的喷出和吸引，因此能够高效地进行吸引动作。另外，在上述的基板处理装置中，优选上述吸引部具有：接收容器，接收从上述第二喷嘴喷出的第二处理液，以及，滞留容器，与上述接收容器分开单独地设置，与上述接收容器连通；上述控制部使上述第二喷嘴向上述接收容器喷出上述第二处理液，使滞留于上述滞留容器的上述第二处理液，被吸引至把持的上述第一喷嘴。将从第二喷嘴接收第二处理液的接收容器、和向第一喷嘴吸引第二处理液的滞留容器设置成不同的独立的容器。由此，能够防止：在从第二喷嘴喷出第二处理液时，溅起的第二处理液附着于第一喷嘴的情况。另外，能够缩短滞留容器中蓄积充足量的第二处理液的时间，从而能够抑制第二处理液的使用量。另外，若溅起的第二处理液附着于第一喷嘴，则存在附着的第二处理液的液滴落至基板上的担忧。另外，在上述的基板处理装置的一例中，上述控制部利用上述喷嘴移动机构，使上述第二喷嘴向上述吸引部移动，使移动后的上述第二喷嘴向上述吸引部喷出上述第二处理液；上述控制部利用上述喷嘴移动机构，使把持的上述第一喷嘴本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，具备：多个第一喷嘴，向基板喷出第一处理液；第二喷嘴，向基板喷出第二处理液；喷嘴移动机构，把持多个上述第一喷嘴中的一个，使把持的上述第一喷嘴及上述第二喷嘴一体地移动；吸引部，用于使把持的上述第一喷嘴吸引上述第二处理液；以及，控制部，利用上述喷嘴移动机构，至少使上述第二喷嘴向上述吸引部移动，使移动后的上述第二喷嘴向上述吸引部喷出上述第二处理液，使滞留于被喷出有上述第二处理液的上述吸引部的上述第二处理液，被吸引至把持的上述第一喷嘴。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.27 JP 2015-0395261.一种基板处理装置，其特征在于，具备：多个第一喷嘴，向基板喷出第一处理液；第二喷嘴，向基板喷出第二处理液；喷嘴移动机构，把持多个上述第一喷嘴中的一个，使把持的上述第一喷嘴及上述第二喷嘴一体地移动；吸引部，用于使把持的上述第一喷嘴吸引上述第二处理液；以及，控制部，利用上述喷嘴移动机构，至少使上述第二喷嘴向上述吸引部移动，使移动后的上述第二喷嘴向上述吸引部喷出上述第二处理液，使滞留于被喷出有上述第二处理液的上述吸引部的上述第二处理液，被吸引至把持的上述第一喷嘴。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述吸引部设置有比多个上述第一喷嘴的数量少的数量，上述控制部利用上述喷嘴移动机构，至少使上述第二喷嘴向一个上述吸引部移动。3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，还具备喷嘴待机部，该喷嘴待机部用于使上述第一喷嘴待机；上述吸引部与上述喷嘴待机部分离设置。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，还具备多个保持旋转部，上述保持旋转部保持基板，来使该基板旋转；上述吸引部设置于多个上述保持旋转部中的相邻的两个上述保持旋转部之间。5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，上述控制部利用上述喷嘴移动机构，使上述第一喷嘴及上述第二喷嘴向上述吸引部移动，在进行该移动之后，在固定了把持的上述第一喷嘴、上述第二喷嘴及上述吸引部的位置的状态下，使上述第二喷嘴向上述吸引部喷出上述第二处理液，使滞留于被喷出有上述第二处理液的上述吸引部的上述第二处理液，...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥保夫，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP