基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置，其包括：腔体、基板保持单元、升降部件和升降驱动单元。腔体具有底板，该底板具有隔开收纳空间的上表面。基板保持单元被收纳于收纳空间并且载放于底板的上表面，并且用于保持基板。升降部件在收纳空间内升降。升降驱动单元驱动升降部件的升降。升降驱动单元包括：驱动源，该驱动源配置在底板的下表面的上方；升降头，该升降头连接保护件，并在整体位于底板的下表面的上方的可移动范围内，所述驱动源使该升降头上下移动。

Substrate processing device

The invention provides a substrate processing device, which comprises a cavity, a substrate holding unit, a lifting component and a lifting and driving unit. The chamber has a base plate with an upper surface separating the storage space. The substrate holding unit is accommodated in the storage space and is mounted on the upper surface of the base plate and is used to maintain the substrate. The lifting parts move up and down in the accommodation space. The lifting and driving unit drives the lifting component to move up and down. The lifting driving unit comprises a driving source, the driving source configuration at the bottom of the lower surface of the top of the head; lifting, lifting head connecting protection pieces, and the movable range of the whole is positioned on the bottom plate of the lower surface of the above, the driving source of the lifting head moves up and down.

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术涉及用液体处理基板的基板处理装置。作为处理对象的基板，例如包括半导体晶片、液晶显示装置用基板、等离子体显示器用基板、FED(FieldEmissionDisplay：场致发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板、光掩膜用基板、陶瓷基板和太阳能电池用基板等的基板。
技术介绍
对于逐片处理基板的枚叶式基板处理装置，使用药液或冲洗液等的处理液在腔体内进行基板的处理。在腔体内部设置有保持基板的旋转卡盘、驱动旋转卡盘转动的马达。在腔体内部还设置有多个包围旋转卡盘的保护件、与旋转卡盘保持的基板相对的遮挡板。保护件能按照处理液的种类分别收集用处理液处理基板时从基板飞散出的处理液。保护件按照处理液的种类分别收集处理液，为了切换保护件，必须使多个保护件升降。再者，不需要保护件的时候，必须使保护件降至基板下方。从基板除去处理液时，遮挡板把基板上表面附近的环境与周边隔离开。给基板供给处理液时，必须要使遮挡板上升，从而使遮挡板从基板的上表面附近退避开。干燥基板时，必须使遮挡板下降，从而使遮挡板靠近基板的上表面附近。如上所述，在基板处理装置中设置了用于升降遮挡板或保护件本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其包括：腔体，该腔体具有底板，该底板具有隔开收纳空间的下方的上表面；基板保持单元，该基板保持单元被收纳于所述腔体的收纳空间，并载放于所述底板的上表面，并且用于保持基板；升降部件，该升降部件在所述腔体的收纳空间内升降；升降驱动单元，该升降驱动单元驱动所述升降部件的升降，并且，所述升降驱动单元包括：驱动源，该驱动源配置在所述底板的下表面的上方；升降头，该升降头与所述升降部件连接，并且在整体位于所述底板的下表面的上方的可移动范围内，所述驱动源使该升降头上下移动。

【技术特征摘要】
2016.02.12 JP 2016-0249551.一种基板处理装置，其包括：腔体，该腔体具有底板，该底板具有隔开收纳空间的下方的上表面；基板保持单元，该基板保持单元被收纳于所述腔体的收纳空间，并载放于所述底板的上表面，并且用于保持基板；升降部件，该升降部件在所述腔体的收纳空间内升降；升降驱动单元，该升降驱动单元驱动所述升降部件的升降，并且，所述升降驱动单元包括：驱动源，该驱动源配置在所述底板的下表面的上方；升降头，该升降头与所述升降部件连接，并且在整体位于所述底板的下表面的上方的可移动范围内，所述驱动源使该升降头上下移动。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述驱动源被收纳于所述腔体的收纳空间内。3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，所述驱动源的整体配置于所述升降头的可移动范围的侧方。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，所述驱动源包括旋转驱动源，该旋转驱动源使沿水平方向延伸的旋转轴旋转；所述升降驱动单元包括旋转传递单元，该旋转传递单元通过将所述旋转轴的旋转传递给所述升降头，从而使所述升降头上下移动。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，所述旋转传递单元包括：多个齿条，该多个齿条固定于所述升降头并且上下排列；齿轮，该齿轮被传递所述旋转轴的旋转并且与所述齿条相啮合。6.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，所述驱动源包括旋转驱动源，该旋转驱动源使沿上下方向延伸的旋转轴旋转；所述升降驱动单元包括旋转传递单元，该旋转传递单元通过将所述旋转轴的旋转传递给所述升降头，从而使所述升降头上下移动。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：桥本光治，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP