基板保持装置及基板处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种基板保持装置及基板处理装置。所述基板保持装置包括：平台(4)，具有载置基板(3)的保持面(41)；多个吸附孔(42)，设置于平台(4)；多根升降销(7)，相对于保持面(41)升降；以及销孔(43)，供升降销(7)插通；且经由第1排气配管(82)进行排气而使所述销孔(43)内成为负压，并且使多个吸附孔(42)内也成为负压，由此利用吸附孔(42)及销孔(43)将基板(3)吸附保持于保持面(41)。本实用新型专利技术可以均匀的状态吸附保持基板。

【技术实现步骤摘要】
基板保持装置及基板处理装置
本技术涉及一种保持液晶显示装置用玻璃基板、半导体芯片、等离子体显示屏(PlasmaDisplayPanel，PDP)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、彩色滤光片用基板、记录磁盘用基板、太阳电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板(以下简称为“基板”)的基板保持装置及包括所述基板保持装置的基板处理装置。
技术介绍
通常，已知有如下技术：在狭缝涂布机中，使对基板保持装置所包括的吸附平台所保持的方形玻璃基板等喷出涂布液的狭缝喷嘴移动，从而在基板上形成涂膜。所述吸附平台例如在专利文献1中有记载，包括多个吸附孔及多根升降销。多根升降销经由形成于吸附平台的保持面的多个销孔而相对于保持面升降，并将支撑的基板载置于保持面。利用因对多个吸附孔进行排气而在基板与保持面之间产生的负压，使载置于保持面的基板吸附保持于保持面。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2006-73931号公报(例如图5、图6)
技术实现思路
[技术要解决的课题]伴随基板的大型化或薄型化，在由多根升降销支撑基板并使基板升降时为了防止基板挠曲、或破裂，需要增加升降销的根数。若升降销的根数增加，则在保持面内多个销孔所占的区域增加。如上所述，若多个销孔所占的区域增加，则在所述区域内，无法使保持面与基板之间充分地产生负压。其结果，无法自保持面与基板的背面之间的空间经由吸附孔充分地抽吸环境气体(空气)，而在保持面与基板之间产生空气积存。如此，以产生空气积存的状态保持于保持面的基板的表面成为自保持面局部浮起的状态，从而基板以基板的表面的高度位置不均匀的状态保持于保持面。若利用狭缝涂布机对以不均匀的状态保持于保持面的基板实施涂布处理，则产生形成于基板的表面的涂布膜的膜厚分布变得不均匀的问题。鉴于所述方面，本技术的目的在于提供一种可以均匀的状态吸附保持基板的基板保持装置、及包括所述基板保持装置的基板处理装置。[解决课题的技术手段]技术方案1是第1实施方式(基板保持装置)包括：保持部，具有载置基板的保持面；多个吸附孔，设置于保持部；多根升降销，相对于保持面升降；多个销孔，设置于保持部且分别供多根升降销插通；第1负压产生部，使多个吸附孔中产生负压；以及第2负压产生部，使多个销孔中的一个以上的销孔中产生负压。技术方案2是第2实施方式根据第1实施方式，还包括：密封构件，供升降销插通并且在销孔内将上方空间与下方空间之间密封；以及切口部，设置于密封构件；且由所述切口部形成排气流路。技术方案3是第3实施方式根据第1实施方式或第2实施方式，第1负压产生部具有：第1排气配管，使多个吸附孔与负压源流路连接；压缩空气配管，使第1排气配管与压缩空气源流路连接；以及第1切换阀门，选择性地切换为第1排气配管流路连接于负压源的吸附状态、或第1排气配管流路连接于压缩空气配管的吸附解除状态，第2负压产生部具有：第2排气配管，使销孔与负压源流路连接；开放配管，使第2排气配管对大气开放；以及第2切换阀门，选择性地切换为第2排气配管流路连接于负压源的吸附状态、或第2排气配管流路连接于开放配管的吸附解除状态。技术方案4是第4实施方式根据第1实施方式至第3实施方式的任一实施方式，第2负压产生部仅使多个销孔中的一部分销孔中产生负压。技术方案5是第5实施方式根据第4实施方式，第2负压产生部仅使多个销孔中的与载置于保持面的基板的中央部相向的销孔中产生负压。技术方案6是第6实施方式(基板处理装置)包括：根据第1实施方式至第5实施方式的任一实施方式的基板保持装置；以及处理部，对基板保持装置的保持部所保持的基板实施规定处理。技术方案7是第7实施方式根据第6实施方式，处理部为对基板保持装置的保持部所保持的基板的表面涂布涂布液的涂布处理部。技术方案8是第8实施方式根据第7实施方式，涂布处理部具有：狭缝喷嘴，自狭缝状的喷出口喷出涂布液；以及狭缝喷嘴移动部，使狭缝喷嘴在与喷出口的长边方向正交的方向上移动。[技术的效果]根据技术方案1至技术方案8的任一实施方式，可以均匀的状态吸附保持基板。附图说明图1是表示本技术的一实施方式的基板处理装置的概略立体图。图2是表示保持面的平面图。图3是表示升降部的侧面图。图4是用以说明配管系统的图。图5是用以说明销孔的剖面图。图6是表示各部对于控制部的电性连接关系的框图。图7是表示基板处理的动作的流程图。附图标号说明：1：涂布装置(基板处理装置)2：狭缝喷嘴3：基板4：平台(保持部)5：涂布处理部(处理部)6：控制部7：升降销9：基板保持装置31：基板的表面40：升降部41：保持面42：吸附孔43：销孔43a：流路44：升降台45：升降驱动部46：驱动轴51：喷嘴支撑体5la：固定构件51b：升降机构51c：线性编码器52：狭缝喷嘴移动部53：导轨54：线性马达54a：定子54b：动子55：线性编码器55a：刻度部55b：检测部59：泵71：密封构件71a：切口部72：筒状构件73：盖构件73a：开口74：接口80：配管系统81：第1排气配管82：第2排气配管83：第1切换阀门84：第2切换阀门85：负压源86：压缩空气源87：压缩空气配管88：开放配管S10～S70：步骤X、Y、Z：方向具体实施方式以下，参照随附附图对本技术的实施方式进行说明。图1是示意性地表示本技术的基板处理装置之一的涂布装置的一例的立体图。此外，在图1及以后的各图中，为了明确这些的方向关系而适宜标注将Z方向设为垂直方向并将XY平面设为水平面的XYZ正交坐标系。另外，出于容易理解的目的，视需要将各部的尺寸或数量夸张或简略化地加以描述。涂布装置1为使用狭缝喷嘴2对基板3的表面31涂布涂布液的、被称为狭缝涂布机的涂布装置。所述涂布装置1包括可以水平姿势吸附保持基板3的平台4、使用狭缝喷嘴2对平台4所保持的基板3实施涂布处理的涂布处理部5、以及对这些各部进行控制的控制部6。涂布装置1可使用抗蚀液、彩色滤光片用液、包含聚酰亚胺、硅、纳米金属油墨、导电性材料的浆料等各种涂布液。另外，关于成为涂布对象的基板3，也可使用矩形玻璃基板、半导体基板、膜液晶用柔性基板、光掩模用基板、彩色滤光片用基板、太阳电池用基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)用基板等各种基板。此外，在本说明书中，所谓“基板3的表面31”是指基板3的两主表面中的涂布涂布液的一侧的主表面。狭缝喷嘴2具有在X方向上延伸的长条状的开口部即喷出口，可自喷出口向平台4所保持的基板3的表面31喷出涂布液。平台4包含具有大致长方体的形状的花岗岩等石材，且为在其上表面(+Z侧)中的-Y侧具有加工成大致水平的平坦面且保持基板3的保持面41的保持部。在涂布装置1中，在涂布处理部5设置有使狭缝喷嘴2在与所述喷出口正交的方向(Y方向)上移动的移动机构，可使狭缝喷嘴2在保持面41的上方沿Y方向往返移动。而且，自在保持面41的上方沿Y方向移动的狭缝喷嘴2喷出的涂布液被涂布于保持面41上的基板3的表面31。如此，在涂布装置1中，Y方向成为涂布涂布液的涂布方向。涂布处理部5的移动机构具有在X方向上横贯平台4的上方且支撑狭缝喷嘴2的桥架结构的喷嘴支撑体51、以及使喷嘴支撑体51在Y方向上水平移动的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板保持装置，其特征在于包括：保持部，具有载置基板的保持面；多个吸附孔，设置于保持部；多根升降销，相对于保持面升降；多个销孔，设置于保持部且分别供多根升降销插通；第1负压产生部，使多个吸附孔中产生负压；以及第2负压产生部，使多个销孔中的一个以上的销孔中产生负压。

【技术特征摘要】
2016.03.18 JP 2016-0560071.一种基板保持装置，其特征在于包括：保持部，具有载置基板的保持面；多个吸附孔，设置于保持部；多根升降销，相对于保持面升降；多个销孔，设置于保持部且分别供多根升降销插通；第1负压产生部，使多个吸附孔中产生负压；以及第2负压产生部，使多个销孔中的一个以上的销孔中产生负压。2.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于还包括：密封构件，供升降销插通并且在销孔内将上方空间与下方空间之间密封；以及切口部，设置于密封构件；且由所述切口部形成排气流路。3.根据权利要求1或2所述的基板保持装置，其特征在于：第1负压产生部具有：第1排气配管，使多个吸附孔与负压源流路连接；压缩空气配管，使第1排气配管与压缩空气源流路连接；以及第1切换阀门，选择性地切换为第1排气配管流路连接于负压源的吸附状态、或第1排气配管流路连接于压缩空气配管的吸附解除状态，第2负压产生部具有：第...

【专利技术属性】
技术研发人员：池田文彦，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：新型
国别省市：日本,JP