基板处理装置制造方法及图纸

一种基板处理装置(1)，包括：基板保持部(31)；基板旋转机构(32)，使基板保持部(31)与基板(9)一同旋转；处理液供给部(5)，向基板(9)供给处理液；杯部(4)，其内周面(412)接受从旋转的基板(9)飞散的处理液；顶板(22)，配置在基板(9)的上方，且比基板(9)的外周缘还要扩展至以中心轴(J1)为中心的径向外侧；液膜形成部(24)，与使用处理液处理基板(9)并行，向与基板(9)的旋转方向相同的方向进行旋转的顶板(22)的上表面(224)供给液体，在杯部(4)的内周面(412)上形成沿与基板(9)的旋转方向相同方向上旋转的回旋液膜(95)。在基板处理装置(1)中，能够抑制通过从基板(9)飞散的处理液与杯部(4)之间冲撞产生的飞沫附着在基板(9)上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及处理基板的基板处理装置。
技术介绍
以往，半导体基板(以下，仅称为“基板”。)的制造工序中，利用基板处理装置对旋转的基板供给处理液并进行各种处理。在这种基板处理装置中，杯部设置在基板的周围，并接受因离心力而从基板飞散的处理液等。日本特开2011-181588号公报(文献1)的半导体基板的处理装置中，从喷嘴向在旋转的基板的上表面喷射处理流体，从而去除基板上不需要的物质。基板的周围设置有飞散防止外罩。飞散防止外罩的内侧的上部设置有环状的沐浴头，通过从沐浴头喷出液体在飞散防止外罩的里面形成液膜。从基板上去除的不需要的物质附着在飞散防止外罩之前就由该液膜而被洗掉，因此，防止了因不需要的物质而污染飞散防止外罩。日本特开2009-214052号公报(文献2)的涂敷装置中，通过向旋转的基板的上表面的中央部供给抗蚀液，从而在基板的上表面涂敷抗蚀液。基板的周围设置有杯部。杯部的内侧设置有环状的雾气供给喷嘴，通过雾气供给喷嘴向杯部的里面吹雾气，在杯部的里面形成液膜。由离心力从基板飞散的雾气通过接触该液膜而被吸附。在日本特开2011-86826号公报(文献3)的液处理装置中，通过向旋转的基板的上表面的中央部供给抗蚀液，使基板的上表面涂敷抗蚀液。基板的周围设置有外侧杯。通过沿着外侧杯的里面吐出冲洗液在外侧杯的里面形成冲洗液的液膜。由离心力从基板飞散的抗蚀液通过冲洗液的液膜而被捕捉。另一方面，在日本特开2003-45838号公报(文献4)的基板处理装置中，通过向旋转的基板的上表面的中央部供给处理液，从而进行基板的处理。基板的周围设置有挡板。另外，在进行基板的处理时，在接近基板的上表面的位置上配置有与基板的上表面相向的隔断板。从基板上飞散的处理液通过挡板或隔断板而被接受。因处理液与基板冲撞而产生的处理液的雾滴也附着在隔断板的上表面等。在此，对规定片数的基板的处理结束后，隔断板回避至基板以及挡板上方的回避位置处，在该回避位置进行隔断板的冲洗。通过向在回避位置处向旋转的隔断板的上表面供给冲洗液而进行隔断板的上表面的冲洗。但是，在如文献1至3的基板处理装置中，由离心力从基板向周围飞散的处理液经由在杯部的里面形成的液膜与杯部的里面发生冲撞。因处理液与杯部的里面的液膜之间的冲撞而产生的飞沫以入射到处理液的液膜上的入射角所对应的角度，从杯部朝向径向内侧飞溅，因此可能会附着在基板上。
技术实现思路
本专利技术涉及一种处理基板的基板处理装置，其目的在于，抑制因处理液在杯部的冲撞产生的飞沫附着在基板上。本专利技术的基板处理装置，包括：基板保持部，以水平状态保持基板；基板旋转机构，使所述基板保持部与所述基板一同以朝向上下方向的中心轴为中心进行旋转；处理液供给部，向所述基板供给处理液；杯部，配置在所述基板保持部的周围，其内周面接受从旋转的所述基板飞散的所述处理液；板，呈以所述中心轴为中心的圆环板状，其配置在所述基板的上方，且比所述基板的外周缘还要扩展至以所述中心轴为中心的径向外侧；液膜形成部，与使用所述处理液处理所述基板并行，向以所述中心轴为中心沿与所述基板的旋转方向相同的方向旋转的所述板的上表面供给液体，所述液体因离心力而从所述板的所述上表面向所述杯部的所述内周面供给，在所述杯部的所述内周面上形成沿与所述基板的旋转方向相同方向旋转的回旋液膜。根据该基板处理装置，能够抑制因向处理液的杯部的冲撞产生的飞沫附着在基板上。本专利技术一优选实施方式中，还包括位置固定构件，所述板进行旋转时，对所述板相对于所述基板保持部在以所述中心轴为中心的周向的相对位置进行固定；所述板与所述基板保持部在所述基板旋转机构的作用下一同进行旋转。本专利技术的另一优选实施方式中，所述液膜形成部包括在以所述中心轴为中心的周向上排列设置的多个吐出口，所述多个吐出口朝向所述板的所述上表面吐出所述液体。本专利技术的又一优选实施方式中，从所述液膜形成部向所述板供给的所述液体越接近所述板，越位于所述中心轴为中心朝向径向外侧。本专利技术的又一优选实施方式中，所述杯部的所述内周面对从所述液膜形成部供给的所述液体具有亲液性。本专利技术的又一优选实施方式中，所述板的所述上表面对从所述液膜形成部供给的所述液体具有亲液性。本专利技术的又一优选实施方式中，从所述处理液供给部所供给的所述处理液与从所述液膜形成部所供给的所述液体是同一种液体。通过以下参照附图对本专利技术进行的详细说明，能够清楚上述目的和其他目的、特征、形态以及优点。附图说明图1是一实施方式的基板处理装置的剖视图。图2是基板处理装置的剖视图。图3表示基板的处理流程图。图4是基板处理装置的剖视图。具体实施方式图1是表示本专利技术的一实施方式的基板处理装置1的剖视图。基板处理装置1是向大致圆板状的半导体基板9(以下，仅称为“基板9”。)供给处理液来逐张处理基板9的单张式装置。在基板处理装置1中，可以将纯水、酸性药液、碱性药液等作为处理液使用以进行基板9的冲洗处理或其他各种处理。在图1中，基板处理装置1的局部结构的剖视中，省略标注剖面线(在其他剖视图中也同样省略)。基板处理装置1具有腔室体21、板22、板移动机构23、液膜形成部24、基板保持部31、基板旋转机构32、杯部4、处理液供给部5和外罩6。外罩6的内部容纳有腔室体21、板22、板移动机构23、液膜形成部24、基板保持部31、基板旋转机构32、杯部4和处理液供给部5。外罩6具有外罩底部61和外罩侧壁部62。外罩底部61从下方支撑腔室体21等。外罩侧壁部62将腔室体21等周围包围。腔室体21具有腔室本体25。腔室体21呈以朝向上下方向的中心轴J1为中心的大致圆筒状。腔室本体25具有腔室底部251和腔室侧壁部252。腔室底部251具有中央部254、侧壁部255和外周部256。中央部254呈以中心轴J1为中心的大致圆环板状。侧壁部255呈以中心轴J1为中心的大致圆筒状，从中央部254的外缘部向下方扩展。外周部256呈以中心轴J1为中心的大致圆环板状，从侧壁部255的下端向以中心轴J1为中心的径向(以下，仅称为“径向”。)外侧扩展。腔室侧壁部252呈以中心轴J1为中心的大致圆筒状。腔室侧壁部252从腔室底部251的外缘部向上方凸出。如图1所示，基板保持部31在杯部4的内部以水平状态保持基板9。即，基板9在形成有微细图案的上表面91与中心轴J1垂直且朝上侧的状态被基板保持部31所保持。基板保持部31具有基座部311、多个卡盘312。基座部311呈与中心轴J1垂直的大致圆板状，并且中央具有开口。多个(例如，三个)卡盘312固定于基座部311的上表面。多个卡盘312在以中心轴J1为中心的周向(以下，仅称为“周向”。)大约等角度间隔配置。基板9的外缘部通过多个卡盘312在基座部311的上方被保持。基板旋转机构32配置在腔室底部251的中央部254的下方。基板旋转机构32可以为例如轴旋转型电动马达。基板旋转机构32的旋转轴321贯通腔室底部251的中央部254并向腔室体21的内部延伸。旋转轴321呈以中心轴J1为中心的大致圆筒状。旋转轴321的前端部上固定有基板保持部31的基座部311。旋转轴321与腔室底部251的中央部254之间设置有为防止气体或液体通过的密封件。通过旋转轴321的旋转，基板保持部31与基板9一同以中心轴J1为中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，用于基板处理，其特征在于，包括：基板保持部，以水平状态保持基板；基板旋转机构，使所述基板保持部与所述基板一同以朝向上下方向的中心轴为中心进行旋转；处理液供给部，向所述基板供给处理液；杯部，配置在所述基板保持部的周围，其内周面接受从旋转的所述基板飞散的所述处理液；板，呈以所述中心轴为中心的圆环板状，其配置在所述基板的上方，且比所述基板的外周缘还要扩展至以所述中心轴为中心的径向外侧；液膜形成部，与使用所述处理液处理所述基板并行，向以所述中心轴为中心沿与所述基板的旋转方向相同的方向旋转的所述板的上表面供给液体，所述液体因离心力而从所述板的所述上表面向所述杯部的所述内周面供给，在所述杯部的所述内周面上形成沿与所述基板的旋转方向相同的方向旋转的回旋液膜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.13 JP 2014-0496341.一种基板处理装置，用于基板处理，其特征在于，包括：基板保持部，以水平状态保持基板；基板旋转机构，使所述基板保持部与所述基板一同以朝向上下方向的中心轴为中心进行旋转；处理液供给部，向所述基板供给处理液；杯部，配置在所述基板保持部的周围，其内周面接受从旋转的所述基板飞散的所述处理液；板，呈以所述中心轴为中心的圆环板状，其配置在所述基板的上方，且比所述基板的外周缘还要扩展至以所述中心轴为中心的径向外侧；液膜形成部，与使用所述处理液处理所述基板并行，向以所述中心轴为中心沿与所述基板的旋转方向相同的方向旋转的所述板的上表面供给液体，所述液体因离心力而从所述板的所述上表面向所述杯部的所述内周面供给，在所述杯部的所述内周面上形成沿与所述基板的旋转方向相同的方向旋转的回旋液膜。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还包括：位置固定构件，所述板进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：中井仁司，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP