聚酰亚胺膜的制造方法、电子设备的制造方法以及涂膜的剥离方法技术

本发明专利技术提供一种电子设备等的制造方法，在剥离处理之前将支撑体和基底膜良好的粘接，在剥离处理后可以容易地剥离支撑体和基底膜。本发明专利技术的电子设备的制造方法，在基底膜上形成器件(83)，其中，作为基底膜，至少具有聚酰亚胺膜，所述电子设备的制造方法包括：工序(a)，将含有可溶性聚酰亚胺树脂、热固化性的交联材料及溶剂的聚酰亚胺清漆涂布于支撑体(81)上，并以超过聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度且低于交联材料的交联起始温度进行干燥而形成涂膜；工序(c)，在通过工序(a)得到的聚酰亚胺膜(82)上形成器件(83)；工序(b)，在促进所述交联材料的交联反应后，将经由工序(c)得到的聚酰亚胺膜(82)从支撑体(81)剥离。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及聚酰亚胺膜的制造方法以及涂膜的剥离方法。另外，本专利技术涉及使用上述聚酰亚胺膜的制造方法、以及涂膜的剥离方法形成的电子设备的制造方法。
技术介绍
近年来，液晶显示器或有机EL显示器等平板显示器的薄型化不断推进，正在开发可自由弯折的挠性平板显示器等挠性显示器。在当前主流的平板显示器中，因使用玻璃作为基板，所以重量重且容易破损，但挠性显示器使用基底膜，因此具有非常薄且重量轻、且不易破损的优点。另外，由于可以赋予挠性，所以也可以实现曲面下的显示器显示。作为挠性显示器，也正在推进电子纸的开发。挠性显示器一般在作为支撑体的玻璃基板形成成为基底膜的树脂膜，将器件安装(形成)于基底膜上。而且，最终经由将基底膜从玻璃基板剥离的工序进行制造。专利文献1中提出了如下方法：在基板上依序叠层第1材料层、第2材料层、被剥离层而形成叠层体，在剥离前进行使第1材料层和第2材料层的密合性局部降低的处理(激光、加压等)，然后通过物理手段进行剥离，由此在第2材料层的层内或界面进行分离。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2003-163338号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题根据将器件安装于基底膜上的方法，就可以简便地制造挠性显示器等电子设备这一点而言是优异的。然而，在安装器件时需要以支撑体的玻璃基板和基底膜树脂不会剥离的方式使两者间具有粘接性。因此，为了在安装后从玻璃基板剥离基底膜，需要进行技术上的研究。作为剥离方法，有利用激光烧掉基底膜表面的方法、利用强力撕下的方法，但有时会因激光的能量而导致器件被破坏或基底膜受损，在制品的成品率方面存在问题。在挠性显示器等电子设备的制造中，在市场上强烈要求一种直至形成器件为止将玻璃基板与基底膜强力地粘接、在形成器件后可容易地从玻璃基板剥离基底膜的技术。需要说明的是，虽然针对挠性显示器中的课题进行了叙述，但在要于基底膜上形成器件的各种电子设备中也存在同样的课题。本专利技术是鉴于上述背景而完成的，其目的在于，提供一种在剥离处理前支撑体和基底膜良好地粘接，在剥离处理后支撑体和基底膜可容易地剥离，且成品率高的电子设备的制造方法以及涂膜的剥离方法，以及提供一种在上述基底膜的至少一层中使用的聚酰亚胺膜的制造方法。解决问题的技术方案本专利技术者等人反复努力研究，结果发现于以下方面中可以解决本专利技术的课题，直至完成了本专利技术。[1]一种聚酰亚胺膜的制造方法，包括：工序(a)，将含有可溶性聚酰亚胺树脂、热固化性的交联材料和溶剂的聚酰亚胺清漆(ポリイミドワニス)涂布于支撑体上，以超过所述可溶性聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度且低于热固化性的所述交联材料的交联起始温度进行干燥而形成涂膜；工序(b)，在促进所述交联材料的交联反应后，将经由工序(a)得到的聚酰亚胺膜从所述支撑体剥离。[2]根据[1]所述的聚酰亚胺膜的制造方法，其中，在工序(b)中，从所述支撑体侧对所述聚酰亚胺膜照射闪光。[3]一种电子设备的制造方法，在基底膜上形成器件，其中，作为所述基底膜，至少具有聚酰亚胺膜，所述电子设备的制造方法包括：工序(a)，将含有可溶性聚酰亚胺树脂、热固化性的交联材料和溶剂的聚酰亚胺清漆涂布于支撑体上，并以超过所述可溶性聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度且低于热固化性的所述交联材料的交联起始温度进行干燥而形成涂膜；工序(c)，在通过工序(a)得到的聚酰亚胺膜上形成所述器件；工序(b)，在促进所述交联材料的交联反应后，将经由工序(c)得到的所述聚酰亚胺膜从所述支撑体剥离。[4]根据[3]所述的电子设备的制造方法，其中，工序(c)包括利用气相生长法的薄膜形成工艺。[5]根据[3]或[4]所述的电子设备的制造方法，其中，工序(b)是从所述支撑体侧对所述聚酰亚胺膜照射闪光。[6]根据[5]所述的电子设备的制造方法，其中，所述闪光集中地照射在形成于所述支撑体上的所述聚酰亚胺膜的端缘部。[7]根据[5]或[6]所述的电子设备的制造方法，其中，俯视时，在与所述聚酰亚胺膜的端缘部相向的所述支撑体上设置吸收所述闪光的光吸收层。[8]根据[5]～[7]中任一项所述的电子设备的制造方法，其中，选择性地照射所述闪光的出射光中的所述聚酰亚胺膜的光吸收率高的区域。[9]根据[8]所述的电子设备的制造方法，其中，利用滤光器去除所述闪光的出射光中的所述聚酰亚胺膜的光吸收率低的区域。[10]根据[8]或[9]所述的电子设备的制造方法，其中，所述聚酰亚胺膜的光吸收率高的区域为紫外区域。[11]根据[9]所述的电子设备的制造方法，其中，所述滤光器去除400nm以上的波长。[12]根据[5]～[11]中任一项所述的电子设备的制造方法，其中，在工序(c)之前还具有将形成有所述聚酰亚胺膜的所述支撑体的周围的气氛减压的工序(d)，在照射所述闪光时，使存在于所述聚酰亚胺膜和所述支撑体的界面的气泡膨胀。[13]根据[3]～[12]中任一项所述的电子设备的制造方法，其中，所述器件为选自由挠性显示器、挠性器件、半导体器件、太阳能电池和燃料电池所组成的组中的任一个。[14]一种涂膜的剥离方法，包括：工序(a)，将含有可溶性聚酰亚胺树脂、热固化性的交联材料和溶剂的聚酰亚胺清漆涂布于支撑体上，并以超过所述可溶性聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度且低于热固化性的所述交联材料的交联起始温度进行干燥而形成聚酰亚胺膜；工序(b)，在促进所述交联材料的交联反应后，将经由工序(a)得到的所述聚酰亚胺膜从所述支撑体剥离。[15]根据[14]所述的涂膜的剥离方法，其中，在工序(b)中，从所述支撑体侧对所述聚酰亚胺膜照射闪光。专利技术效果根据本专利技术，实现如下优异的效果：可以提供一种在剥离处理前与支撑体良好地粘接、在剥离处理后可以容易地与支撑体剥离且成品率高的电子设备的制造方法及涂膜的剥离方法，以及可以提供一种在所述基底膜的至少一层中使用的聚酰亚胺膜的制造方法。附图说明图1是表示第一实施方式的闪光灯退火装置的主要部分构成的图。图2是表示闪光灯退火装置的处理顺序的流程图。图3是表示被处理体的结构的剖面图。图4是表示对被处理体照射了闪光的状态的图。图5是表示从玻璃基板剥离作为被剥离层的聚酰亚胺膜的情况的一例的图。图6是表示第二实施方式的闪光灯退火装置的主要部分构成的图。图7是从上方观察遮光板的俯视图。图8是形成了光吸收层的被处理体的俯视图。图9是表示对第三实施方式的被处理体照射了闪光的状态的图。图10是表示第四实施方式的闪光灯退火装置的主要部分构成的图。图11是表示氙闪光灯的光谱辐射分布的图。具体实施方式[聚酰亚胺膜的制造方法]本专利技术的聚酰亚胺膜的制造方法至少具有以下的工序(a)～工序(b)。工序(a)是将含有可溶性聚酰亚胺树脂、热固化性的交联材料和溶剂的聚酰亚胺清漆涂布于支撑体上，并以超过可溶性聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度且低于热固化性的交联材料的交联起始温度进行干燥而形成涂膜的工序。工序(b)是在促进交联材料的交联反应之后，将经由工序(a)得到的所述聚酰亚胺膜从所述支撑体剥离的工序。工序(a)中使用的聚酰亚胺清漆至少含有可溶性聚酰亚胺树脂、热固化性的交联材料和溶剂。可溶性聚酰亚胺树脂通常通过使四羧酸二酐和二胺单体缩聚并进行酰亚胺化而得到。只要具有溶剂可溶性，则聚酰亚胺树脂的种类就没有特别限定，从使对支撑体的接合性本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚酰亚胺膜的制造方法，包括：工序(a)，将含有可溶性聚酰亚胺树脂、热固化性的交联材料和溶剂的聚酰亚胺清漆涂布于支撑体上，以超过所述可溶性聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度且低于热固化性的所述交联材料的交联起始温度进行干燥而形成涂膜；工序(b)，在促进所述交联材料的交联反应后，将经由工序(a)得到的聚酰亚胺膜从所述支撑体剥离。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.05.12 JP 2014-0986421.一种聚酰亚胺膜的制造方法，包括：工序(a)，将含有可溶性聚酰亚胺树脂、热固化性的交联材料和溶剂的聚酰亚胺清漆涂布于支撑体上，以超过所述可溶性聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度且低于热固化性的所述交联材料的交联起始温度进行干燥而形成涂膜；工序(b)，在促进所述交联材料的交联反应后，将经由工序(a)得到的聚酰亚胺膜从所述支撑体剥离。2.如权利要求1所述的聚酰亚胺膜的制造方法，其中，在工序(b)中，从所述支撑体侧对所述聚酰亚胺膜照射闪光。3.一种电子设备的制造方法，在基底膜上形成器件，其中，作为所述基底膜，至少具有聚酰亚胺膜，所述电子设备的制造方法包括：工序(a)，将含有可溶性聚酰亚胺树脂、热固化性的交联材料和溶剂的聚酰亚胺清漆涂布于支撑体上，以超过所述可溶性聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度且低于热固化性的所述交联材料的交联起始温度进行干燥而形成涂膜；工序(c)，在通过工序(a)得到的所述聚酰亚胺膜上形成所述器件；工序(b)，在促进所述交联材料的交联反应后，将经由工序(c)得到的所述聚酰亚胺膜从所述支撑体剥离。4.如权利要求3所述的电子设备的制造方法，其中，工序(c)包括利用气相生长法的薄膜形成工艺。5.如权利要求3或4所述的电子设备的制造方法，其中，在工序(b)中，从所述支撑体侧对所述聚酰亚胺膜照射闪光。6.如权利要求5所述的电子设备的制造方法，其中，所述闪光集中地照射在形成于所述支撑体上的所述聚酰亚胺膜的端缘部。7.如权利要求5或6...

【专利技术属性】
技术研发人员：今川清水，饭田健二，木场繁夫，富田裕介，木村贵弘，锹田豊，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP