可基于来自晶片计量工具的光谱确定结构的参数化几何模型。所述结构可具有几何结构诱发的各向异性效应。可从所述参数化几何模型确定所述结构的色散参数。这可实现用于测量具有诱发不可忽略的各向异性效应的几何结构及与周围结构的相对位置的纳米结构的计量...

一种叠加计量系统包含粒子束计量工具，所述粒子束计量工具用粒子束跨包含第一层目标元件及第二层目标元件的样本上的叠加目标扫描。所述叠加计量系统可进一步包含控制器，所述控制器从所述粒子束计量工具接收扫描信号、就对称性度量来确定所述扫描信号的对...

一种叠加计量系统可测量样本上的叠加目标的第一层上的装置特征图案与参考特征图案之间的第一层图案放置距离。所述系统可进一步继制造至少包含所述装置特征图案及所述参考特征图案的第二层之后测量所述第二层上的所述装置特征图案与所述参考特征图案之间的...

本发明提供减少噪声且增强测量准确度的计量目标设计、设计方法及测量方法。所揭示的目标包括与测量方向正交的额外周期性结构，给定目标结构沿所述测量方向具周期性。例如，除成像或散射测量目标中的沿每一测量方向的两个或更多个周期性结构之外，还可引入...

可通过配置传感器的收集区域的大小来减少杂散光及空气散射光，此减少系统中的灵敏度限制噪声源。通过调整所述收集区域的大小，可减少杂散深紫外光及空气散射深紫外光。伺服系统可控制由时间延迟及积分传感器收集的照明光点的位置。

本发明提供一种衬底处置设备。所述衬底处置设备可包含叉形结构，其具有经布置以提供对衬底的背面的接取的一或多个支撑部分。所述衬底处置设备还可包含经配置以将所述衬底处置设备耦合到所述衬底的所述背面的第一主动支撑元件及第二主动支撑元件。在放置于...

本申请实施例涉及用于预测晶片级缺陷可印性的设备及方法。使用光罩检验工具在不同成像配置处从测试光罩的多个图案区域中的每一者获取图像。基于从所述测试光罩的每一图案区域获取的图像恢复所述测试光罩的图案区域中的每一者的光罩近场。将光刻模型施加到...

本发明揭示一种方法，其可包含(但不限于)接收晶片的多个参考图像。所述方法可包含(但不限于)接收所述晶片的多个测试图像。所述方法可包含(但不限于)经由粗略对准过程来对准所述多个参考图像及所述多个测试图像。所述方法可包含(但不限于)在经由所...

通过半导体检查系统执行半导体检查方法。在所述方法中，接收指定跨半导体裸片的条带以用于检查的用户输入。所述条带的宽度小于所述半导体裸片的宽度并且对应于所述半导体检查系统的视场。基于所述用户输入，检查所述半导体裸片的所述条带。处理来自检查所...

本发明揭示一种用于在半导体制造过程中测量叠加的方法及系统，其包括：在经预先确定制造阶段捕获对象中的特征的图像；从所述图像导出图像参数的数量；及将所述数量转换成叠加测量。所述转换是参考在相同经预先确定制造阶段从具有已知OVL的特征的参考图...

本发明揭示一种光谱计量系统，其包含光谱计量工具及控制器。所述控制器生成包含两个或更多个层的多层光栅的模型，所述模型包含指示所述多层光栅的测试层的几何结构的几何参数及指示所述测试层的色散的色散参数。所述控制器进一步从所述光谱计量工具接收对...

本申请实施例是关于用于带电粒子显微镜的方法及系统。本申请的一实施例揭示一种具有改进的图像束稳定性的扫描电子显微镜系统。所述系统包含经配置以产生电子束的电子束源及将所述电子束的至少一部分引导到样本的部分上的一组电光元件。所述系统包含发射率...

本发明涉及通过空间谐波的多重截断而优化计算效率。基于经截断空间谐波级数的电磁模拟算法的计算效率针对周期性目标得以改进，所述周期性目标展现一基本空间周期及一或多个逼近周期，所述一或多个逼近周期是所述基本空间周期的整数分数。根据展现多重周期...

本发明揭示一种背照式图像传感器，其包含：第一像素；第二像素；及通道停止层，其位于所述第一像素与所述第二像素之间以隔离所述第一像素与所述第二像素。所述通道停止层包含LOCOS结构及所述LOCOS结构下方的掺杂硅区域。所述背照式图像传感器还...

本发明描述用于使用适应性关注区域ACA来执行裸片图像的缺陷检验的方法、系统及制品。使用ACA解决以下问题：处置需要旋转关注区域的组件的旋转；处置其中每一关注区域自身需要旋转、平移或仿射变换的情形；及使由缺陷或工艺变动引起的强度差与由大小...

本申请涉及具有多种模式的虚拟检验系统。一种系统包含一或多个计算机子系统，其经配置以识别样品上由检验系统用第一模式检测到但用一或多种其它模式未检测到的第一缺陷。所述计算机子系统还经配置以从存储媒体获取在对应于所述第一缺陷的所述样品上的位置...

本文描述了用于以改进的测量灵敏度来对高吸收膜(例如，高K介电膜)执行基于光学的膜厚度测量的设备和方法。在高反射膜堆叠的顶部上制造高吸收膜层。高反射膜堆叠包含一组或多组名义上相同的多层不同的光学对比材料。高反射膜堆叠在特定的波长范围内引起...

本文中提出用于实现适用于高处理量x射线计量的高亮度、基于液体的x射线源的方法及系统。通过使用电子流轰击旋转液态金属阳极材料来产生x射线辐射以产生高亮度x射线源。旋转阳极支撑结构在按恒定角速度旋转时，将所述液态金属阳极材料支撑在相对于所述...

可使用方法或系统来使裸片对裸片检测图像对准，所述方法或系统经配置以：接收参考图像及测试图像；从所述参考图像及所述测试图像上的局部区段确定全局偏移及旋转角；及在执行精细对准之前执行所述测试图像的粗略对准去歪斜。

一种透镜系统包含弯曲主镜及非球面副镜。所述非球面副镜具有小于所述主镜的直径的直径，并与所述主镜共享光轴。所述非球面副镜及所述主镜相对于所述光轴旋转地对称。在所述非球面副镜上安置支撑构件，所述支撑构件可在所述透镜系统的操作波长内是透明的。