本发明揭示一种用于检测在环境中施加于衬底上的温度分布的传感器。所述传感器包含传感器衬底与形成于所述传感器衬底上的一或多个温度感测元件。在实施例中，温度感测元件包含：至少一个腔，其具有安置于所述腔内的热膨胀材料；及通道，其从所述腔延伸且具...

可使用包含可印刷层及非印刷层的混合设计布局来识别缺陷。可通过合并所述不可印刷层布局的至少一部分与所述可印刷层布局来产生所述混合设计布局。可使用光学或扫描电子束图像来识别缺陷。

本发明提供用于执行用于缺陷分类器的主动学习的方法及系统。一种系统包含经配置用于执行用于训练缺陷分类器的主动学习的一或多个计算机子系统。所述主动学习包含将采集函数应用于样品的数据点。所述采集函数基于与所述数据点相关联的不确定性估计而选择所...

本发明揭示一种检验系统，其可包含用于产生照明束的照明源、用于导引所述照明束到样本的照明光学器件。所述系统可进一步包含用于从所述样本收集第一立体角范围内且依第一选定偏振的光的第一收集通道。所述系统可进一步包含用于从所述样本收集第二角范围(...

本发明揭示用于检验半导体样本的设备及方法。由可操作以获取光学图像的光学检验器提供对应于半导体样本上的候选缺陷事件的位置，此类候选缺陷事件是在其对应位置处跨所述样本从所述光学图像检测到。从所述候选缺陷事件的高分辨率检验器在所述样本上的所述...

本发明揭示一种用于产生激光维持等离子体LSP的泵浦照明的系统。在实施例中，所述系统包含：照明源，其经配置以输出具有第一光谱频率的照明；及光学频率转换器。所述光学频率转换器可经配置以从所述照明源接收具有所述第一光谱频率的所述照明，且经配置...

一种扫描电子显微术SEM系统包含多个电子束源，所述多个电子束源经配置以产生初级电子束。所述SEM系统包含具有多个电子光学柱的电子光学柱阵列。电子光学柱包含多个电子光学元件。所述多个电子光学元件包含偏转器层，所述偏转器层经配置以经由由所述...

本发明揭示一种检验系统，其包含照明源、TDI‑CCD传感器及暗场/明场传感器。偏振器从所述光源接收光。在渥拉斯顿(Wollaston)棱镜处引导来自所述偏振器的所述光，例如通过半波板。所述TDI‑CCD传感器及所述暗场/明场传感器的使用...

本发明涉及晶片检查。本发明揭示一种经配置以检查晶片的系统，该系统包括照明子系统，其经配置以使由所述照明子系统将多个脉冲光束中的第一者引导到晶片上的区域在时间上早于将所述多个脉冲光束中的第二者引导到所述区域；扫描子系统，其经配置以使所述多...

可通过定位每对准框架的至少一个对准验证位置来监测对准。所述对准验证位置是所述对准框架内的坐标。确定所述对准验证位置中的每一者与对准目标的最近例子之间的距离。可基于所述距离确定对准分数。所述对准分数可包含所述对准验证位置与所述对准目标之间...

本文描述实现基于X射线的测量系统的快速及准确的绝对校准及对准的多层目标。所述多层校准目标具有非常高衍射效率且使用快速、低成本生产技术来制造。每一目标包含使用成对的X射线透射及X射线吸收材料来构建的多层结构。所述多层目标结构的层定向为平行...

一种具有100nm或更小的直径的发射器与保护罩盖层及在所述发射器与所述保护罩盖层之间的扩散势垒一起使用。所述保护罩盖层安置在所述发射器的外表面上。所述保护罩盖层包含钼或铱。所述发射器可生成电子束。可对所述发射器进行脉冲控制。

第一阈值处的重复缺陷分析识别重复缺陷。所述重复缺陷定位于每一光罩上的相同坐标处。接收所述坐标处的半导体晶片的每一光罩上的图像，且获得多个带正负号差值图像。计算带正负号差值图像的重复缺陷阈值，还计算极性的一致性。将所述阈值应用于所述图像且...

本发明提供用于产生用于样品的缺陷样本的方法及系统。一种方法包含基于通过输出获取子系统的检测器产生的输出检测样品上的缺陷。对于在所述样品上的阵列区中检测到的所述缺陷，其中所述阵列区包含多个阵列单元类型，所述方法包含基于所述多个阵列单元类型...

本发明揭示具有特定内部宽度尺寸、扫掠电极或特定内部宽度尺寸与扫掠电极的组合的电子枪系统。所述内部宽度尺寸可小于在束限制孔径下游的通道中的次级电子的拉莫尔半径的值的两倍，且所述次级电子的拉莫尔时间可大于1ns。所述扫掠电极可在漂移区中产生...

本发明揭示聚焦及对准多重电子束的系统及方法。相机产生投射在具有多个目标的光纤阵列处的来自电子束的光的图像数据。图像处理模块基于所述图像数据确定对施加到中继透镜、场透镜或多极阵列的电压的调整。所述调整最小化所述电子束中的一者的位移、散焦或...

本发明揭示一种控制器，其经配置以：在至少一个离散背侧膜沉积过程之前对半导体晶片执行至少第一表征过程；在所述至少一个离散背侧膜沉积过程之后执行至少额外表征过程；基于至少所述第一表征过程及至少所述额外表征过程确定经由所述至少一个离散背侧膜沉...

本发明揭示一种用于测量样本的叠加误差的系统。所述系统可包含经配置以发射宽带照明的宽带照明源。所述系统还可包含经配置以将所述宽带照明引导到经安置于所述样本上的目标的一或多个光学元件，其中所述一或多个光学元件经配置以从所述目标收集照明且将其...

本申请涉及一种对在目标衬底上检测的缺陷进行自动化复检的方法和设备。所述方法包含：使用次级电子显微镜SEM执行所述缺陷的自动化复检以便获得所述缺陷的电子束图像；执行基于如根据所述电子束图像确定的所述缺陷的形态而将所述缺陷自动化分类成若干类...

本发明揭示一种提供逐位点对准的重叠计量学工具，其包含耦合到远心成像系统的控制器。所述控制器可接收通过所述成像系统在两个或更多个焦点位置处捕获的样本上的重叠目标的两个或更多个对准图像；基于所述对准图像产生指示所述重叠目标在所述成像系统内的...