本申请实施例涉及成像计量目标及方法。本发明提供计量工具及方法，其估计对应于从周期性目标上的光散射产生的不同衍射级的形貌相位的效应，及调整测量条件以改进测量准确度。在成像中，可通过基于对比函数行为的分析选择适当测量条件、改变照明条件(减小...

本发明涉及具有涂覆于圆柱形对称元件(例如，滚筒)的外表面上的靶材料(例如氙)的激光产生的等离子体光源。实施例包含可经优化以减少对所述滚筒的照射损坏的预脉冲布置及可用来减少对所述滚筒的照射损坏的脉冲修整单元。另外，揭示实施例，其中圆柱形对...

本发明揭示一种用于工件中的缺陷检测的设备及方法。提供至少一个光源，且所述光源产生所述工件在其处是透明的波长范围的照明光。相机通过透镜使来自所述工件的至少一个面的所述光成像于所述相机的检测器上。平台用于移动所述工件，且用于使用所述相机使所...

一种使用可移除不透明涂层以在透明薄膜的上表面进行准确光学形貌测量的方法包含：将高度反射涂层沉积到晶片的上表面上；测量所述高度反射涂层上的形貌；及从所述晶片移除所述高度反射涂层。所述高度反射涂层包含有机材料。所述高度反射涂层包括介于1与2...

本发明提供用于设置具有基于设计及噪声的关注区域的样品的检验的方法及系统。一个系统包含经配置用于产生样品的基于设计的关注区域的一或多个计算机子系统。所述计算机子系统还经配置用于针对所述样品上的所述关注区域的多个例子确定一或多个输出属性，且...

本发明揭示一种多极照明系统，其可包含：照明源，其用于产生源光束；一或多个声光偏转器，其用于沿至少两个方向衍射所述源光束；一或多个收集透镜，其用于收集从所述一或多个声光偏转器衍射的所述光的至少部分；及控制器，其用于产生用于所述一或多个声光...

本申请实施例是关于用于获取高温工艺应用中的测量参数的封装仪器化衬底设备。一种设备包含：仪器衬底设备；衬底组合件，其包含机械地耦合的底部衬底及顶部衬底；电子组合件；嵌套包壳组合件，其包含外包壳及内包壳，其中所述外包壳围封所述内包壳且所述内...

本发明揭示一种计量系统。在一个实施例中，所述系统包含经配置以获取样本的一或多个图像的特性化子系统。在另一实施例中，所述系统包含控制器，其经配置以：从所述特性化子系统接收样本的一或多个训练图像；在所述一或多个训练图像内接收一或多个训练关注...

本发明提供一种利用微透镜阵列MLA的光学特性化系统。所述系统可包含电子源及包含微偏转阵列MDA的MLA。所述MDA可包含绝缘体衬底及安置于所述绝缘体衬底上的多个六极静电偏转器。所述MDA可进一步包含多个电压连接线，所述多个电压连接线经配...

本发明公开一种多束电子源。所述多束源包含电子源、格栅透镜组合件及多透镜阵列组合件。所述多透镜阵列组合件包括跨衬底安置的一组透镜。所述格栅透镜组合件经配置以引起来自所述电子束源的一次电子束远心着陆在所述多透镜阵列组合件上。所述多透镜阵列组...

一种在半导体晶片缺陷检验系统处执行半导体晶片图像对准的方法。在所述方法中，将半导体晶片装载到所述半导体晶片缺陷检验系统中。针对所述半导体晶片执行预检验对准。在执行所述预检验对准之后，实行第一扫描带以产生所述半导体晶片上的第一区的第一图像...

本发明提供计量目标、目标设计方法及计量测量方法，所述方法独立地或结合计量叠加估计来估计不对称像差的效应。目标包括具有相同粗略节距、相同1:1线与空间比且按相同精细节距分割成精细元件的一或多对分段周期性结构，其中所述分段周期性结构彼此不同...

本发明提供用于在晶片上检测逻辑区域中的缺陷的方法及系统。一种方法包含获取晶片的逻辑区域中的不同类型的基于设计的关注区的信息。所述方法还包含：将所述不同类型的所述基于设计的关注区指定为不同类型的子区域；及针对所述逻辑区域内的局部区，将定位...

本发明揭示一种用于电子显微镜或类似装置的电子枪，其包含：场发射器阴极，其具有从单晶硅衬底的输出表面延伸的场发射器突出部；及电极，其经配置以增强来自所述场发射器突出部的尖端部分的电子发射以产生主电子束。连续SiC薄层使用最小化所述SiC层...

本发明揭示一种用于分析样本的系统，其包含检验子系统及至少一个控制器。所述检验子系统经配置以扫描样本以收集具有第一图像分辨率的第一多个样本图像。所述控制器经配置以基于所述第一多个样本图像来生成缺陷列表。所述控制器经进一步配置以将对应于所述...

本发明提供一种用于制造具有受控尺寸的半导体晶片特征的系统及方法。在使用中，识别半导体晶片的顶面。接着，垂直地蚀刻所述半导体晶片的所述顶面的第一部分以形成从所述半导体晶片的所述顶面的第二部分向下的阶状部，所述阶状部由水平面及垂直侧壁构成。...

本发明提供用于光掩模缺陷处理的方法及系统。一种方法包含将能量引导到光掩模并从所述光掩模检测能量。所述光掩模经配置以供在一或多个极紫外光波长处使用。所述方法还包含基于所述所检测能量而检测所述光掩模上的缺陷。另外，所述方法包含在所述所检测缺...

本申请实施例涉及分析及利用景观。本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分...

本发明提供一种用于缺陷检测及分析的系统。所述系统可包含检验子系统及包含存储器及一或多个处理器的控制器。所述检验子系统可包含照明源及一或多个检测器，所述一或多个检测器经配置以沿着一或多个检测器通道获取控制样本的缺陷的控制图块图像。所述一或...

本发明涉及一种光衰减装置，其包含：外壳；第一滤波器；第一电动机，其经配置以移动所述第一滤波器；及气动致动器，其经配置以移动所述第一滤波器以与所述外壳接触或不与所述外壳接触。所述滤波器包含在宽度上变化的多个狭缝开口，使得通过所述多个狭缝开...