具有涂覆于圆柱形对称元件上的靶材料的基于等离子体的光源制造技术

本发明专利技术涉及具有涂覆于圆柱形对称元件(例如，滚筒)的外表面上的靶材料(例如氙)的激光产生的等离子体光源。实施例包含可经优化以减少对所述滚筒的照射损坏的预脉冲布置及可用来减少对所述滚筒的照射损坏的脉冲修整单元。另外，揭示实施例，其中圆柱形对称元件的表面形成有具有大于1mm的凹槽深度的多个凹槽及聚焦激光束且建立照射位点以从所述靶材料产生等离子体的聚焦单元，其中所述照射位点远离凹槽表面部分以保护所述表面部分免于照射损坏。

【技术实现步骤摘要】
具有涂覆于圆柱形对称元件上的靶材料的基于等离子体的光源分案申请信息本申请是申请日为2016年11月11日、申请号为201680065693.X、专利技术名称为“具有涂覆于圆柱形对称元件上的靶材料的基于等离子体的光源”的专利技术专利申请的分案申请。相关申请案的交叉参考本申请案涉及且要求来自下文列出的申请案(“相关申请案”)的最早可用有效提交日期的权利(例如，要求除临时专利申请案以外的最早可用优先权日期或要求依据35USC§119(e)的临时专利申请案、相关申请案的任何及所有母案、前代母案、前两代母案等等申请案的权利)。相关申请案：出于USPTO非法定要求的目的，本申请案组成2015年11月16日提交的第62/255,907号申请案的指定AlexeyKuritsyn、YeLiu及OlegKhodykin为专利技术者的标题为“具有涂覆于圆柱形对称元件上的靶材料的基于等离子体的光源(PLASMABASEDLIGHTSOURCEHAVINGATARGETMATERIALCOATEDONACYLINDRICALLY-SYMMETRICELEM本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种装置，其包括：/n圆柱形对称元件，其可绕轴旋转且具有涂覆有具有暴光表面且在所述暴光表面上的照射位点处界定表面法线的等离子体形成靶材料的带的表面；及/n系统，其输出激光束以与所述靶材料相互作用以产生等离子体，所述激光束在所述照射位点处沿着激光轴行进，其中所述激光轴及所述表面法线在所述照射位点处对向非零角度α。/n

【技术特征摘要】
20151116 US 62/255,907;20160919 US 15/268,7931.一种装置，其包括：
圆柱形对称元件，其可绕轴旋转且具有涂覆有具有暴光表面且在所述暴光表面上的照射位点处界定表面法线的等离子体形成靶材料的带的表面；及
系统，其输出激光束以与所述靶材料相互作用以产生等离子体，所述激光束在所述照射位点处沿着激光轴行进，其中所述激光轴及所述表面法线在所述照射位点处对向非零角度α。


2.根据权利要求1所述的装置，其中所述角度α大于10度。


3.根据权利要求1所述的装置，其中所述激光轴法向对准于与所述照射位点相交的轴且平行对准于所述旋转轴。


4.根据权利要求1所述的装置，其中所述激光轴法向对准于与所述照射位点相交的轴且平行对准于所述旋转轴。


5.一种装置，其包括：
圆柱形对称元件，其可绕轴旋转且具有涂覆有具有暴光表面的等离子体形成靶材料的带的表面；
系统，其输出激光束以与所述靶材料相互作用以产生等离子体；及
聚焦单元，其将所述激光束聚焦到在所述聚焦单元与所述等离子体形成靶材料的所述暴光表面之间的位置处的腰部。


6.一种装置，其包括：
圆柱形对称元件，其可绕轴旋转且具有涂覆有等离子体形成靶材料的带的表面；及
系统，其照射所述靶材料以产生等离子体，所述系统输出具有强度最大值I1及脉冲能量E1的第一激光束脉冲，及具有强度最大值I2及脉冲能量E2的第二激光束脉冲，其中E1<E2，且I1与I2之间的时间延迟经选择以引起所述第一激光束脉冲预调节所述等离子体形成靶材料以减少由所述第二激光束脉冲对所述圆柱形对称元件的所述表面的照射损坏。


7.根据权利要求6所述的装置，其中所述第一激光束脉冲相比于所述第二激光束脉冲具有较长的脉冲持续时间。


8.根据权利要求6所述的装置，其中所述第一激光束脉冲相比于所述第二激光束脉冲具有较短的波长。


9.根据权利要求6所述的装置，其中I1与I2之间的所述时间延迟在10ns到10μs的...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·库里岑，刘晔，O·霍德金，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US