【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基于设计及噪声的关注区域
本专利技术大体上涉及用于设置具有基于设计及噪声的关注区域的样品的检验的方法及系统。特定实施例涉及用于例如晶片检验及/或计量的应用的基于设计及噪声的关注区域。
技术介绍
以下描述及实例并未凭借其包含于此章节中而被认为是现有技术。在半导体制造过程期间的各个步骤使用检验过程以检测光罩及晶片上的缺陷以促进制造过程中的较高良率及因此较高利润。检验始终是制造半导体装置的重要部分。然而，随着半导体装置的尺寸减小，检验对于可接受半导体装置的成功制造来说变得甚至更重要，这是因为较小缺陷可导致装置故障。“关注区域”如其通常在所属领域中被提及那样是样品上的出于检验目的所关注的区域。有时，使用关注区域来区分样品上的经检验的区域与样品上的在检验过程中未经检验的区域。另外，有时使用关注区域来区分样品上的将用一或多个不同参数检验的区域。举例来说，如果样品的第一区域比所述样品上的第二区域更关键，那么可用比所述第二区域更高的灵敏度来检验所述第一区域，使得用较高灵敏度在所述第一区域中检测缺陷。检验过程的其它参数可以类似...
【技术保护点】
1.一种经配置用于设置具有基于设计及噪声的关注区域的样品的检验的系统，所述系统包括：/n输出获取子系统，其包括至少一能量源及检测器，其中所述能量源经配置以产生被引导到样品的能量，且其中所述检测器经配置以检测来自所述样品的能量且响应于所述所检测能量而产生输出；及/n一或多个计算机子系统，其经配置用于：/n基于所述样品的设计而产生所述样品的关注区域，其中所述关注区域定义含有所关注图案的所述设计的一部分；/n针对所述样品上的所述关注区域的多个例子确定一或多个输出属性，其中从由所述输出获取子系统针对所述多个例子产生的所述输出确定所述一或多个输出属性；/n基于所述一或多个输出属性将所...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181019 US 62/747,893;20181203 US 62/774,558;20191.一种经配置用于设置具有基于设计及噪声的关注区域的样品的检验的系统，所述系统包括：
输出获取子系统，其包括至少一能量源及检测器，其中所述能量源经配置以产生被引导到样品的能量，且其中所述检测器经配置以检测来自所述样品的能量且响应于所述所检测能量而产生输出；及
一或多个计算机子系统，其经配置用于：
基于所述样品的设计而产生所述样品的关注区域，其中所述关注区域定义含有所关注图案的所述设计的一部分；
针对所述样品上的所述关注区域的多个例子确定一或多个输出属性，其中从由所述输出获取子系统针对所述多个例子产生的所述输出确定所述一或多个输出属性；
基于所述一或多个输出属性将所述样品上的所述关注区域的所述多个例子分离成不同关注区域子群组，使得所述不同关注区域子群组具有所述一或多个输出属性的统计上不同值；且
基于所述不同关注区域子群组而选择所述样品的检验配方的参数，使得在针对所述样品执行所述检验配方时，用所述参数的不同值检验具有所述一或多个输出属性的所述统计上不同值的所述不同关注区域子群组。
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个输出属性中的至少一者是噪声属性。
3.根据权利要求1所述的系统，其中从其确定所述一或多个输出属性的所述输出是由所述检测器针对所述样品产生的输出。
4.根据权利要求1所述的系统，其中从其确定所述一或多个输出属性的所述输出是运用所述输出获取子系统的一个以上模式针对所述样品产生的输出。
5.根据权利要求1所述的系统，其中基于所述设计产生所述样品的所述关注区域包括在所述设计中搜索所述所关注图案。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述检验配方的所述参数的所述不同值包括在所述检验配方中用于检测所述样品上的缺陷的缺陷检测方法的不同灵敏度。
7.根据权利要求1所述的系统，其中所述所关注图案具有第一所关注图案类型，其中另一关注区域定义含有具有第二所关注图案类型的另一所关注图案的所述设计的另一部分，且其中分别针对所述关注区域及所述另一关注区域执行所述产生、确定、分离及选择。
8.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置用于针对所述样品上的所述关注区域的所述多个例子中的一或多者确定依据所述关注区域内的位置而变化的所述一或多个输出属性且基于依据所述位置而变化的所述一或多个输出属性将所述关注区域分离成两个或更多个不同子关注区域，使得所述两个或更多个不同子关注区域具有所述一或多个输出属性的统计上不同值。
9.根据权利要求1所述的系统，其中所述检验配方包括应用于由所述输出获取子系统针对所述样品产生的所述输出以借此检测所述样品上的缺陷的缺陷检测方法，且其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置用于基于相对于所述样品的所述设计确定的所述缺陷的位置而识别哪些所述缺陷为系统缺陷。
10.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置用于通过对少于所述样品上的所述关注区域的全部所述多个例子取样而选择针对其确定所述一或多个输出属性的所述关注区域的所述多个例子，其中基于所述一或多个输出属性中的预期裸片级变动而执行所述取样，且其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置用于基于所述经确定一或多个输出属性而确定所述关注区域的所述一或多个输出属性中的实际裸片级变动。
11.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置用于通过对少于所述样品上的所述关注区域的全部所述多个例子取样而选择针对其确定所述一或多个输出属性的所述关注区域的所述多个例子，其中基于所述一或多个输出属性中的预期样品级变动而执行所述取样，且其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置用于基于所述经确定一或多个输出属性而确定所述关注区域的所述一或多个输出属性中的实际样品级变动。
12.根据权利要求1所述的系统，其中使用第一预定方法来执行产生所述关注区域，且其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置用于运用第二预定方法针对所述所关注图案产生另一关注区域，针对所述另一关注区域执行所述确定及所述分离步骤，且基于针对所述关注区域及所述另一关注区域执行的所述确定及所述分离步骤的结果而选择所述第一或第二预定方法用于产生额外关注区域。
13.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置用于通过从针对所述多个例子确定的所述一或多个输出属性的统计分析推断所述方法的一或多个经修改参数而修改用于产生所述关注区域的方法。
14.根据权利要求1所述的系统，其中基于所述设计针对所述样品产生的另一关注区域定义含有不同所关注图案的所述设计的不同部分，且其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置用于基于针对所述关注区域执行的所述确定及分离的结果而确定是否针对所述另一关注区域执行所述确定及所述分离步骤。
15.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置用于基于所述设计而产生所述样品的另一关注区域，针对所述另一关注区域执行所述确定及所述分离步骤，识别含有具有高于预定阈值的类似性的测量且具有所述一或多个输出属性的统计上类似值的图案的所述关注区域及所述另一关注区域的所述不同关注区域子群组，且将所述经识别不同关注区域子群组中的所述关注区域及所述另一关注区域的所述多个例子组合成单个关注区域群组。
16.根据权利要求1所述的系统，其中所述关注区域是所述所关注图案的多个关注区域中的一者，且其中产生所述关注区域包括识别所述设计中的所述所关注图案的不同例子，确定所述设计中的所述所关注图案的所述不同例子的设计上下文，将具有不同设计上下文的所述不同例子分离成不同群组，及将所述不同群组中的一者指派到所述关注区域。
17.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：B·达菲，M·普利哈尔，E·索尔塔默罕默德，G·罗素，S·巴塔查里亚，C·马厄，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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