随机计算引擎从半导体检验工具或半导体检视工具接收输入。所述随机计算引擎从所述输入确定异常位置及图案变化且从所述输入确定随机故障。与所述随机计算引擎连接的电子数据存储单元可包含具有已知随机行为及已知过程计量变化的数据库。所述随机计算引擎可...

本发明揭示一种工艺条件测量晶片组合件。在实施例中，所述工艺条件测量晶片组合件包含底部衬底及顶部衬底。在另一实施例中，所述工艺条件测量晶片组合件包含一或多个电子组件，所述一或多个电子组件经安置在一或多个印刷电路元件上且经内插在所述顶部衬底...

本发明揭示一种光电阴极结构，其可包含Cs2Te、CsKTe、CsI、CsBr、GaAs、GaN、InSb、CsKSb或金属中的一或多者，所述光电阴极结构在外表面上具有保护膜。所述保护膜包含钌、镍、铂、铬、铜、金、银、铝中的一或多者或其合...

一种检验系统可包含耦合到差分干涉对比成像工具的控制器，所述差分干涉对比成像工具用于基于两个经剪切照明光束的照明产生样本的图像。所述控制器可基于所述样本上的缺陷的第一图像集确定第一缺陷诱发相移，所述第一图像集具有第一选定照明光谱及所述两个...

本发明揭示一种具有灯室校正的等离子体光源。所述系统可包含经配置以产生泵浦照明的泵浦源。可通过椭圆反射器元件将所述泵浦照明引导到等离子体灯内所围封的气体体积以便产生等离子体。所述等离子体可经配置以产生宽带照明。所述系统还可包含经配置以变更...

一种用于测量辐射强度及温度的测量晶片装置包含晶片组合件，所述晶片组合件包含一或多个空腔。所述测量晶片装置进一步包含检测器组合件。所述检测器组合件安置于所述晶片组合件的所述一或多个空腔内。所述检测器组合件包含一或多个光传感器。所述检测器组...

环绕光学组件的外壳可与蒸气源连接。所述蒸气源可以从500ppm到15000ppm的蒸气水平将蒸气提供到所述外壳。所述外壳中的蒸气浓度可增加所述外壳中的所述光学组件的寿命。增加所述外壳中的所述光学组件的寿命。增加所述外壳中的所述光学组件的...

本发明提供增强测量的准确度且能够简化测量过程及改进计量目标与半导体装置之间的对应性的计量方法及工具。方法包含：以利特罗(Littrow)配置照明目标以产生包含

本发明提供过程控制方法、计量目标及生产系统以减少或消除过程覆盖误差。计量目标具有一(多)对具有不同分段的周期结构，例如，在所述对的一个周期结构中无分段，而在所述对的另一周期结构中具有类似装置的分段。过程控制方法直接在先前层处的所述周期结...

本申请涉及用于倾斜装置设计的计量目标设计。本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte C...

确定工件上特征的3D测量，例如球高、共面性、组件厚度或翘曲。系统包含宽带光源、微透镜阵列、可调谐彩色滤光器、透镜系统及检测器。所述微透镜阵列可将光束聚焦到所述微透镜阵列的焦平面中的点。所述可调谐彩色滤光器可使所述光束收窄到中心波长处的频...

本申请实施例涉及同时捕捉来自多个目标的重叠信号。本发明提供计量方法及系统，其中在所述计量系统的光学系统的收集路径的场平面处将经检测图像分裂成至少两个光瞳平面图像。例如棱镜的光学元件可用于分裂所述场平面图像，且可通过空间分裂所述场平面及/...

本发明揭示一种磁微聚焦电子发射源设备。所述设备可包括磁发射器单元，其中所述磁发射器单元包含发射器。此外，所述磁发射器单元可包括由一或多个磁性材料形成的一或多个磁性部分，其中所述磁发射器单元的所述一或多个磁性部分经配置以产生接近所述磁发射...

本发明提供一种厚度测量系统，其可包含：照明源；光束分光器，其将来自所述照明源的照明分裂为两个光束；平移台，其配置成沿着测量方向平移参考样本；第一干涉仪，其在测试样本的第一表面与所述参考样本的第一表面之间产生第一干涉图；和第二干涉仪，其在...

本申请实施例涉及一种电子源。该电子源形成于具有相对第一表面及第二表面的硅衬底上。至少一个场发射体制备于所述硅衬底的所述第二表面上以增强电子的发射。为防止硅的氧化，使用使氧化及缺陷最小化的过程来将薄的连续硼层直接安置于所述场发射体的输出表...

本发明揭示一种半导体检查工具，其使用多个光学模式扫描半导体裸片。基于所述扫描的结果识别所述半导体裸片上的多个缺陷。所述多个缺陷的相应缺陷对应于所述半导体检查工具的相应像素组。所述扫描无法解析所述相应缺陷。所述结果包括基于所述相应像素组的...

本申请实施例是关于验证计量目标及其设计。示例性的方法包括：使用与经设计计量目标有关的OCD数据作为目标模型与晶片上的对应实际目标之间的差异的估计；及调整计量目标设计模型以补偿所述经估计差异。专属验证目标可包括叠加目标特征且对尺寸进行优化...

一种样品分析系统包含扫描电子显微镜、光学及/或电子束检验系统及光学计量系统。所述系统进一步包含至少一个控制器。所述控制器经配置以：接收所述样品的第一多个选定关注区域；基于由所述扫描电子显微镜对所述第一选定关注区域所执行的第一检验来产生第...

本发明揭示通过改进的像素到设计对准PDA目标选择实现对图像的更准确设计对准的技术及系统。裸片的图像帧中的PDA目标可经偏置以在所述PDA目标中的一者中包含热点位置。可通过分析用作所述PDA目标的点的唯一性而针对重复图案评估所述PDA目标...

本发明提供一种用于夹持半导体晶片的组合件，其包含板及经安装于所述板上的静电吸盘。多个槽在所述静电吸盘的相应部分之间延伸以接纳晶片处置器的末端执行器的臂。所述末端执行器的所述臂支撑被放置到所述静电吸盘上及从所述静电吸盘移除的半导体晶片。