本发明揭示一种高亮度电子束源。所述电子束源可包含经配置以产生宽带照明的宽带照明源。可调谐光谱滤波器可经配置以对所述宽带照明进行滤波以提供具有激发光谱的经滤波照明。所述电子束源可进一步包含经配置以响应于所述经滤波照明发射一或多个电子束的光...

公开了用于对其上形成有至少两层的目标执行叠对计量的设备和方法。提供目标，所述目标具有用于测量至少两个叠对方向上的叠对的多个周期性结构。在第一方向上横跨所述目标的多个扫描刈并且相对于所述目标以第一倾斜角扫描带电粒子束，使得以一定角度扫描所...

本发明揭示一种叠加计量系统，其可包含：控制器，其通过测量基于光学可分辨特征的光学叠加测量与基于装置级特征的装置级叠加测量之间的差来产生对包含所述光学可分辨特征及所述装置级特征的混合叠加目标的光学工具错误调整；基于特征在装置区域内的位置来...

一种在半导体晶片制造过程中确定图案中的OVL的方法包括从经形成于所述晶片中的至少两个不同层中的计量目标中的单元捕获图像，其中所述目标的部分相对于不同层中的对应部分在相反方向上偏移。可使用多个不同波长的辐射来捕获所述图像，每一图像包含+1...

本申请实施例是关于用于晶片边缘检验及复检的方法及系统。一种用于检验或复检样本的边缘部分的电子光学系统包含：电子束源，其经配置以产生一或多个电子束；样本载台，其经配置以固定所述样本；及电子光学柱，其包含经配置以将所述一或多个电子束的至少一...

本发明揭示一种用于光学检验工具的光束成形器，其包含：聚焦透镜，其用以使光束以一倾斜入射角聚焦到目标上；及相位调制器，其用以在所述光束以所述倾斜入射角聚焦到所述目标上时使所述光束的顶部在所述目标的平面中基本上变平。

所述系统包含光电阴极电子源、衍射光学元件及用以聚焦小光束的微透镜阵列。源将辐射光束引导到所述衍射光学元件，所述衍射光学元件产生小光束阵列以与光电阴极表面结合使用以从所述小光束产生电子束阵列。

本发明涉及一种多光束计量系统，其包含：照明源，其经配置以产生光束阵列；照明子系统，其将所述光束阵列引导到样本的测量位置阵列处；成像子系统，其使所述测量位置阵列成像为检测平面中的成像光点阵列；及检测组合件，其产生与所述成像光点中的每一者相...

本文中描述用于利用宽带、软X射线照明源的基于x射线的半导体计量的方法及系统。经激光器产生的等离子体LPP光源产生高亮度、宽带、软x射线照明。所述LPP光源将高度聚焦、短持续时间激光器源引导到处于液态或固态的非金属液滴目标。在一个实例中，...

在一些实施例中，从第一源获得半导体结构的相应实例的第一多个电子显微镜图像。所述第一多个电子显微镜图像展示一或多个半导体制造参数的不同值。训练模型，所述模型指定所述第一多个电子显微镜图像与所述一或多个半导体制造参数的所述值之间的关系。收集...

使用机器学习技术以在给定临界参数的参考值时预测固定参数的值。举例来说，可基于一或多个临界参数及与例如光谱椭偏测量光谱或镜面反射光谱的光谱相关联的低维实值向量训练神经网络。另一神经网络可映射所述低维实值向量。当使用两个神经网络时，可训练一...

本发明涉及一种在制造过程中使用的监测叠加的方法，其中连续层经逐层沉积以形成堆叠。每一层可包含例如衍射光栅的周期性结构以与另一层中的周期性结构对准。可照亮所述堆叠周期性结构，以从所述周期性结构形成+及‑第一级衍射图案。可捕获包含+及‑衍射...

本文中呈现用于基于组合x射线反射测量术XRR及x射线光电子光谱术XPS测量半导体结构的结构及材料特性的方法及系统。组合XRR及XPS系统包含由XRI测量子系统及XPS测量子系统两者共享的x射线照明源及x射线照明光学器件。此通过同时收集来...

本申请实施例涉及双列并行CCD传感器及使用传感器的检验系统。一种双列并行图像CCD传感器利用双列并行读出电路，所述双列并行读出电路包含两对交叉连接的转移门以在高速度下以低噪声将像素数据(电荷)从一对邻近像素列交替地转移到共享输出电路。沿...

本发明提供用于复原数字化光谱的系统、方法、设备及制品，且所述系统、方法、设备及制品可包括：光学系统，其经配置以变换射线，所述光学系统包含衍射光栅、转向镜、载台及经配置以根据移动机制移动所述载台、衍射光栅或转向镜中的一者以改变所述载台上的...

本发明揭示用于量化且校正用于计量操作的图像中的不均匀性的方法及系统。可使用晶片的计量区域图像及设计剪辑。所述计量区域图像可为扫描电子显微镜图像。所述设计剪辑可为所述晶片的所述设计剪辑或合成设计剪辑。可量化且校正包含电子束失真的工具失真。...

深度学习算法用于例如半导体晶片的缺陷探索。用晶片检验工具检验关照区域。所述深度学习算法用于识别所述关照区域中的缺陷且对其进行分类。此可针对其余关照区域重复，但可略过类似关照区域以增加处理量。

这些电子束分离器设计解决电子光学系统中的热诱导束漂移。缠绕于束分离器单元周围的加热器线圈可维持恒定功率。额外线圈还可以双线方式缠绕于所述束分离器周围，这可在所述束分离器线圈中维持恒定功率。可确定维恩功率，且接着可确定加热器线圈电流。

本发明揭示计量目标、其设计方法及测量方法，所述目标具备相对于光刻工具的正交产生轴X及Y倾斜的周期性结构，从而实现具有对角线(倾斜(oblique/tilted))元件的装置(例如DRAM装置)的更准确叠加测量。一或多个倾斜周期性结构可用...

本发明揭示用于检验光刻光罩的方法及设备。基于从设计数据库产生的光罩数据库图像来经由深度学习过程产生近场光罩图像，且基于所述近场光罩图像来经由基于物理的过程模拟检验系统的图像平面处的远场光罩图像。所述深度学习过程包含基于最小化所述远场光罩...