本发明揭示一种检验系统，其包含控制器，所述控制器通信地耦合到物理检验装置PID、经配置以分析所存储PID数据的虚拟检验装置VID及缺陷验证装置DVD。所述控制器可：接收包含用定义工艺窗口的选定光刻配置制造的多个图案的样本的图案布局；接收...

本发明提供用于识别晶片上的干扰缺陷的来源的方法及系统。一种方法包含：通过将热阈值应用于由检验子系统的检测器对于晶片所生成的输出来检测所述晶片上的缺陷，使得所述经检测缺陷的至少大部分包含干扰缺陷；及相对于所述晶片的设计信息来确定所述经检测...

本发明涉及晶片上的重复缺陷，其可通过融合多个裸片图像来检测。在一例子中，统计地融合多个裸片图像以形成裸片融合图像。所述裸片图像中的每一者可为晶片上的不同裸片的图像。检测所述裸片融合图像中是否存在重复缺陷。可使用激光扫描系统或其它系统来产...

本发明提供通过识别其中(若干)对应计量测量信号具有最小振幅不对称性的(若干)计量测量参数值而导出所述(若干)值的计量方法。如所揭示选择所述测量参数值明显降低测量不精准度。例如，可检测波长值及/或焦点值以指示最小振幅不对称性及/或最小相位...

本发明揭示一种光谱滤波器，其包含弯曲滤波元件，所述弯曲滤波元件包含形成球体的部分的凹面。所述凹面可经定位以接收从经定位于接近对应于所述凹面的所述球体的中心的第一位置处的光纤的输出面所发散的光。所述凹面可透射所述光的光谱的第一部分。所述凹...

本发明揭示一种用于产生宽频带辐射的系统。所述系统包含目标材料源，其经配置以将液态或固态目标材料中的一或多者输送到腔室的等离子体形成区域。所述系统进一步包含泵源，其经配置以产生泵辐射来激发所述腔室的所述等离子体形成区域中的所述目标材料产生...

本发明提供一种包含控制器的度量系统，所述控制器经耦合到用于基于来自多层膜堆叠的照明光束的反射而生成检测信号的检测器。所述多层膜堆叠可包含具有两种或更多种材料的重复图案的一或多个区域。所述控制器可通过使用使所述区域的所述有效介电常数值与构...

本文中呈现用于基于高亮度多色反射小角度x射线散射测量RSAXS度量而执行半导体结构的测量的方法及系统。同时或依序用小的照射射束点大小在波长、入射角及方位角的一定范围内执行RSAXS测量。在一些实施例中，用在软x射线SXR区域中的x射线辐...

本发明揭示用于测量及控制半导体样本的检验的偏振的方法及设备。所述方法包含：(i)在特定操作模式中设置检验系统；(ii)通过多次旋转递增所述系统的第一波片，同时使所述系统的第二波片保持静止；(iii)对于所述第一波片的每次旋转，从所述样本...

本申请涉及一种使用面镜及/或棱镜的激光重复率倍增器及平顶射束轮廓产生器。一种重复率(脉冲)倍增器包含一或多个射束分裂器及棱镜，从而形成具有延迟每一脉冲的能量的部分的不同光学路径长度的一或多个环形腔。一系列输入激光脉冲在所述环形腔中循环且...

本发明提供了用于从样本的低分辨率图像产生所述样本的高分辨率图像的方法和系统。一个系统包含经配置以用于获取样本的低分辨率图像的一或多个计算机子系统。所述系统还包含通过所述一或多个计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含深度卷积...

可在晶片上的各种位点处进行初始检验或临界尺寸测量。位置、设计片段、工艺工具参数或其它参数可用于训练深度学习模型。可验证所述深度学习模型且这些结果可用于重新训练所述深度学习模型。可重复此工艺直到预测达到检测准确度阈值。所述深度学习模型可用...

本发明揭示用于包含具有基于成像的目标及基于散射测量的目标两者的目标区域的混合叠加目标设计的设计。所述基于成像的叠加目标设计可包含并排光栅结构。在所述目标区域中的不同位置处的基于散射测量的叠加目标设计可包含光栅叠光栅结构。本发明还揭示一种...

可使用所揭示技术及系统来获得运用较少图像采集对扫描电子显微镜复检工具进行的物镜对准。可基于图像确定用于所述扫描电子显微镜的两个不同X‑Y电压对。基于第一X‑Y电压对的第二图像可用于确定第二X‑Y电压对。可将所述X‑Y电压对施加在所述扫描...

本申请实施例涉及用于半导体检验和光刻系统的载台设备。在可相对于载台框架移动的载台的卡盘上接纳半导体样本。使所述载台、卡盘和样本在用于检验或曝光所述样本的检验或曝光头部下方移动，且多个二维编码器头部与所述卡盘耦合。多个二维编码器标尺与所述...

噪声图用于缺陷检测。接收一或多个像素处的强度的一或多个测量且确定每一测量的强度统计。所述强度统计分组为至少一个区域且与至少一个对准目标一起存储。可由晶片检验工具使用所述噪声图来检验晶片。所述噪声图可用作抑制噪声的分割掩码。

本发明提供光罩上及晶片上的计量目标设计，以及目标设计及处理方法。目标设计包括：粗间距周期性结构，其具有在子元件CD及/或高度上变化的细间距子元件；正交周期性结构，其垂直于测量方向，具有周期性循环条当中的正交未解析间距，所述周期性循环条提...

可将来自热扫描的缺陷保存例如在永久存储装置、随机存取存储器或分离数据库上。所述永久存储装置可为基于区块的虚拟检验器虚拟分析器VIVA或本地存储装置。可确定重复者缺陷检测工作且可基于所述重复者缺陷检测工作检验晶片。可分析重复者缺陷且可从所...

本发明提供用于变换在晶片上检测到的缺陷的定位的方法及系统。一种方法包含对准检验子系统针对印刷于所述晶片上的多裸片光罩的第一例子中的第一裸片中的第一扫描带中的第一帧的输出与印刷于所述晶片上的其它光罩例子中的对应帧、扫描带及裸片的输出。所述...

本发明针对于用于向用于光学计量的测量头提供照明的系统。在本发明的一些实施例中，来自多个照明源的照明光束经组合以将处于一或多个选定波长的照明递送到所述测量头。在本发明的一些实施例中，递送到所述测量头的照明的强度及/或空间相干性被控制。在本...