倒装LED芯片的反射层结构及倒装LED芯片制造技术

技术编号:9464182 阅读:62 留言:0更新日期:2013-12-19 02:03
本发明专利技术涉及一种倒装LED芯片的反射层结构及含有该结构的装装LED芯片。一种倒装LED芯片的反射层结构,包括设置于P型欧姆接触层的下侧的反射层,所述反射层与P型欧姆接触层之间还没有一过渡层,所述反射层选自Ag反射层或Al反射层,过渡层选自AlN过渡层。通过设置过渡层使Al或Ag反射层与半导体层附着力更强,可以将反射层的上表面做的更加平整,反光效果更好,提高光的利用效率;过渡层的导热性非常好,能及时将半导体产生的热量扩散,延长的芯片的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种倒装LED芯片的反射层结构及含有该结构的装装LED芯片。一种倒装LED芯片的反射层结构,包括设置于P型欧姆接触层的下侧的反射层,所述反射层与P型欧姆接触层之间还没有一过渡层,所述反射层选自Ag反射层或Al反射层,过渡层选自AlN过渡层。通过设置过渡层使Al或Ag反射层与半导体层附着力更强,可以将反射层的上表面做的更加平整,反光效果更好,提高光的利用效率;过渡层的导热性非常好,能及时将半导体产生的热量扩散,延长的芯片的使用寿命。【专利说明】倒装LED芯片的反射层结构及倒装LED芯片
本专利技术属于光电
,具体是涉及一种倒装LED芯片的反射层结构及含有该结构的装装LED芯片。
技术介绍
倒装LED芯片与正装LED芯片相比,倒装LED芯片具有较好的散热功能和发光效率,具有低电压、高亮度、高可靠性、高饱和电流密度等优点,性能方面有较大的优势,具有良好的发展前景。由于倒装LED的发光层位于P型和N型半导体层的中间,发光层发出的光一部分向下射出,但芯片的下面是焊接面和不透明的基板,为了有效利用这部分光,通常会在芯片的底部镀上一层反射层,反射层以Al或Ag材质为主。以Al或Ag材质作为反射层时,由于Al或Ag材质与半导体层的附着力很差,在制作时很难将其覆盖在半体层上,工艺复杂成本高,即使镀上后,其结合力也不强;现有技术中有用三氧化二铝等作为镀银前的过渡层,但是三氧化二铝与半导体结合力不好、以及导热性能非常差,LED在发光时会产生大量热量,影响LED芯片的寿命,因此无法从根本上解决现有技术的缺点。
技术实现思路
为了解决上述技术问题,本专利技术的目的是提供一种倒装LED芯片的反射层结构,使Al或Ag材质反射层能更好的附着于半导体上,并将半导体发光产生的热量快速的导走,延长芯片的寿命。为达到上述目的,本专利技术是通过以下的技术方案来实现的:氮化铝AlN由III A族元素Al和V A族元素N化合而成的半导体材料,导热性好,热膨胀系数小,是良好的耐热冲击材料,同时还发现,氮化铝与半导体的附着性能很好,并且与银或铝的附着性能也非常好。基于上述技术,本专利技术将氮化铝用于倒装LED芯片上,作为银或铝反射层的过渡层,提供一种倒装LED芯片的反射层结构,包括设置于P型欧姆接触层的下侧的反射层,所述反射层与P型欧姆接触层之间还没有一过渡层,所述反射层选自Ag反射层或Al反射层,过渡层选自AlN过渡层。本专利技术还进一步提供一种倒装LED芯片,包括有蓝宝石衬底;设置于蓝宝石衬底下侧的N型半导体层;设置于N型半导体层下侧的P型半导体层;设置于P型半导体层下侧的P型欧姆接触层;设置于P型欧姆接触层的下侧的反射层,所述反射层与P型欧姆接触层之间还没有AlN过渡层,所述反射层选自Ag反射层或Al反射层。以上所述的倒装LED芯片,其中,所述半导体层选自GaN半导体层。在反射层的下侧还设有一保护层。本专利技术的有益效果在于:通过设置过渡层使Al或Ag反射层与半导体层附着力更强,可以将反射层的上表面做的更加平整,反光效果更好,提高光的利用效率;过渡层的导热性非常好,能及时将半导体产生的热量扩散,延长的芯片的使用寿命。【专利附图】【附图说明】图1是本专利技术实施例的倒装LED芯片的结构示意图。【具体实施方式】以下结合附图与具体实施例对本专利技术的技术方案做详细说明。参照图1所示,本实施例的倒装LED芯片包括有蓝宝石衬底1、设置于蓝宝石衬底下侧的N-GaN层2、设置于N-GaN层下侧的P-GaN层3、N-GaN层与P-GaN层中间的发光层23、设置于P-GaN层下侧的P型欧姆接触层4、设置于P型欧姆接触层的下侧的银反射层6、N型欧姆接触层5、P型焊接电极7和N型焊接电极8。在P型欧姆接触层下侧制备银反射层之前,先在P型欧姆接触层上镀一层氮化铝,作为P型欧姆接触层与银反射层之间的过渡层9,让银反射层6的结合力和导热性都更加好。为了更好保护银反射层,在银反射层的下侧还设有一保护层10。以上实施例为本专利技术的优选实施例,本专利技术不限于上述实施例,对于本领域普通技术人员而言,在不背离本专利技术技术原理的基础上所做的任何显而易见的改动,都属于本专利技术的构思和所附权利要求的保护范围。【权利要求】1.一种倒装LED芯片的反射层结构,包括设置于P型欧姆接触层的下侧的反射层,其特征在于:所述反射层与P型欧姆接触层之间还没有一过渡层,所述反射层选自Ag反射层或Al反射层,过渡层选自AlN过渡层。2.一种倒装LED芯片,包括有蓝宝石衬底;设置于蓝宝石衬底下侧的N型半导体层;设置于N型半导体层下侧的P型半导体层;设置于P型半导体层下侧的P型欧姆接触层;设置于P型欧姆接触层的下侧的反射层,其特征在于:所述反射层与P型欧姆接触层之间还没有AlN过渡层,所述反射层选自Ag反射层或Al反射层。3.根据权利要求2所述的倒装LED芯片,其特征在于:所述半导体层选自GaN半导体层。4.根据权利要求2所述的倒装LED芯片,其特征在于:在反射层的下侧还设有一保护层。【文档编号】H01L33/44GK103456859SQ201310399087【公开日】2013年12月18日 申请日期:2013年9月5日 优先权日:2013年9月5日 【专利技术者】唐小玲, 夏红艺, 罗路遥 申请人:深圳市智讯达光电科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种倒装LED芯片的反射层结构,包括设置于P型欧姆接触层的下侧的反射层,其特征在于:所述反射层与P型欧姆接触层之间还没有一过渡层,所述反射层选自Ag反射层或Al反射层,过渡层选自AlN过渡层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:唐小玲夏红艺罗路遥
申请(专利权)人:深圳市智讯达光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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