【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光电子器件制备技术,特别涉及一种作为反光镜的LED外延芯片结构及制备方法。
技术介绍
半导体发光二极管(Light Emitting Diode, LED)在信号显示、背光源和固态照明领域有着极其广泛的应用,尤其以III一V族化合物氮化镓(GaN)材料为基础的LED应用较多,具有高亮度、低能耗、长寿命、响应速度快等特点。垂直结构LED (Vertical LightEmitting Diode,VLED)相对于水平结构LED,具有散热性能好,发光效率高,寿命长等优势,因此是LED重要的发展方向。自John和Yabolonivitchl987年提出光子晶体的概念以来,光子晶体不仅成为微纳光电子学和量子光学的重要研究领域,而且在信息光学以及其他多个学科中得到广泛应用。光子晶体的典型特点是具有光子带隙,能够有效的控制光子(电磁波)传播的频率和方向,并且具有低损耗的优势。1967年,前苏联物理学家Veselago提出了一种左手材料(Left-handedmaterial,简称LHM)的概念,这种材料的介电常数ε和磁导率μ均为负值,电场、磁场和波矢之间构成左 ...
【技术保护点】
一种含左手材料的LED反光镜晶体:从上至下依次包括n?GaN层、多量子阱有源层、p?GaN层,其特征在于,在p?GaN层下面设置一电流扩散层,该电流扩散层下面设置不少于三层的导电金属层,最后一层导电金属层的下面设置一键合金属层,其中,各导电金属层结合面上设置有矩形腔排布的阵列,所有矩形腔中填充固态增益材料,形成左手材料区域A,同一导电金属层中没有矩形腔阵列的平面区域为右手材料区域B,左手材料区域A与右手材料区域B交替叠落;所述各矩形腔周长为120~600nm;阵列的单位距离L1、L2不超过250nm。
【技术特征摘要】
1.一种含左手材料的LED反光镜晶体:从上至下依次包括n-GaN层、多量子阱有源层、P-GaN层,其特征在于,在p-GaN层下面设置一电流扩散层,该电流扩散层下面设置不少于三层的导电金属层,最后一层导电金属层的下面设置一键合金属层,其中,各导电金属层结合面上设置有矩形腔排布的阵列,所有矩形腔中填充固态增益材料,形成左手材料区域A,同一导电金属层中没有矩形腔阵列的平面区域为右手材料区域B,左手材料区域A与右手材料区域B交替叠落;所述各矩形腔周长为120 600nm ;阵列的单位距离U、L2不超过250nmo2.如权利要求1所述的含左手材料的LED反光镜晶体,其特征在于,所述矩形腔的周长为160 320nm ;阵列的单位距离L1=L2,均取120nm 180nm。3.如权利要求1所述的含左手材料的LED反光镜晶体,其特征在于,所述电流扩散层由ITO或石墨烯制成。4.如权利要求1所述的含左手材料的LED反光镜晶体,其特征在于,所述导电金属层由Ag、Al、Au 或 Cu 制成ο5.如权利要求1所述的含左手材料的LED反光镜晶体,其特征在于,所述键合金属层由Cu或Cu/W合金制成。6.如权利要求1所述的含左手材料的LED反光镜晶体,其特征在于,所述固态增益材料...
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