本发明专利技术提供了一种硅片标记点的制作方法，该制作方法包括以下步骤：步骤S10：在硅片上进行化学腐蚀以形成标记点。采用腐蚀制作标记点的方式，在腐蚀过程中不会对硅片造成物理损伤，降低了硅片在后续的加工过程中的破损的几率。
【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种硅片标记点的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S10：在硅片上进行化学腐蚀以形成标记点（10）。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王英超，熊景峰，胡志岩，李高非，赵文超，
申请(专利权)人：英利集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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