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本发明提供了一种硅片标记点的制作方法，该制作方法包括以下步骤：步骤S10：在硅片上进行化学腐蚀以形成标记点。采用腐蚀制作标记点的方式，在腐蚀过程中不会对硅片造成物理损伤，降低了硅片在后续的加工过程中的破损的几率。...
该专利属于英利集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过英利集团有限公司授权不得商用。

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