刻蚀烘烤设备制造技术

本发明专利技术提供了一种刻蚀烘烤设备，该设备具有设备包括：反应腔，用于容纳需被清洁的石墨盘或外延衬底片；加热组件，加热组件构造在反应腔的外侧并能被操作提升反应腔内的温度；其中，刻蚀烘烤设备包括循环风冷系统，循环风冷系统包括：使气流循环运动的鼓风机；位于反应腔上方的顶部集气槽；位于反应腔下方的底部集气槽；连通在顶部集气槽和底部集气槽之间的风腔，风腔位于反应腔四周，引入风腔中的气流能够对加热组件进行冷却；以及换热器，换热器通过循环风道连接到底部集气槽的下游。采用本发明专利技术的刻蚀烘烤设备，反应腔体风道内相关的发热和受热部件可以被冷却，从而能够保证设备正常加热和使用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种刻蚀烘烤设备，尤其涉及一种具有风冷系统的氯气刻蚀烘烤设备。
技术介绍
金属有机化学气相沉积设备(简称MOCVD)以热分解反应方式在衬底上进行化学沉积反应，生长各种II1- V族、I1-VI族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料，石墨盘作为衬底的承载平台，在该反应过程中会有多余的化学反应残留物沉积在石墨盘表面上，假如不加以清除，必然会在新的一炉外延片生长过程中影响对应的温度控制、表面颗粒等，并最终影响到外延片生长的成品率。目前市场上还没有对于MOCVD和外延片进行刻蚀、清洁的专用设备，目前业内使用的石墨盘清洁方法通常采用真空烧结炉进行长时间高温烘烤的方式，存在单炉次烘烤的时间比较长(单炉次约14小时)，烘烤温度太高(最高温度约1400度)影响石墨盘循环使用的寿命等问题，同时无法对工艺生长过程中产生的报废外延衬底片进行刻蚀。另外该类设备体积比较大，在净化车间内占用比较大的安装和使用空间。该设备在烘烤石墨盘的工作原理是使用高温烧结的方式把氮化镓残留物物理性粉尘化，运行后会产生大量的粉尘，同时会大量残留在反应炉内，所以该类设备需要经常维护和清洁。为了解决通常烤盘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种刻蚀烘烤设备（10），所述设备包括：反应腔（300），用于容纳需被清洁的石墨盘或外延衬底片；加热组件（400），所述加热组件（400）构造在反应腔（300）的外侧并能被操作提升反应腔（300）内的温度；其特征在于，所述刻蚀烘烤设备（10）包括循环风冷系统（200），所述循环风冷系统（200）包括：串接在所述循环风冷系统（200）中、使气流循环运动的鼓风机（210）；位于反应腔（300）上方的顶部集气槽（220）；位于反应腔（300）下方的底部集气槽（230）；连通在所述顶部集气槽（220）和所述底部集气槽（230）之间的风腔，所述风腔位于所述反应腔（300）四周，引入风腔（240）中的气流...

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀烘烤设备(10)，所述设备包括: 反应腔(300)，用于容纳需被清洁的石墨盘或外延衬底片； 加热组件(400)，所述加热组件(400)构造在反应腔(300)的外侧并能被操作提升反应腔(300)内的温度； 其特征在于，所述刻蚀烘烤设备(10)包括循环风冷系统(200)，所述循环风冷系统(200)包括: 串接在所述循环风冷系统(200)中、使气流循环运动的鼓风机(210)； 位于反应腔(300)上方的顶部集气槽(220)； 位于反应腔(300)下方的底部集气槽(230); 连通在所述顶部集气槽(220)和所述底部集气槽(230)之间的风腔，所述风腔位于所述反应腔(300)四周，引入风腔(240)中的气流能够对所述加热组件(400)进行冷却；以及 换热器(250 )，所述换热器(250 )通过循环风道连接到底部集气槽(230 )的下游。2.按权利要求1所述的刻蚀烘烤 设备(10)，其特征在于，还包括层流风冷系统(100)，所述层流风冷系统(100)包括风机(110)、冷却风通道(130)以及过滤器(120)，所述冷却风通道(130)将风机(110)连接到过滤器(120)，所述风机(110)将气流引入所述过滤器(120)，并且从过滤器(120)的出风口导出。3.按权利要求2所述的刻蚀烘烤设备(10)，其特征在于，所述过滤器(120)具有竖直设置的孔板装置，所述孔板装置将导入所述过滤器(120)的气流转向水平气流，并且 所述过滤器(120)的出风口(122)设置引导所述水平气流沿平行于石墨盘的盘表面的方向流过所述石墨盘。4.按权利要求1所述的刻蚀烘烤设备(10)，其特征在于，所述循环风冷系统(200)还包括补风通道(260)，所述补风通道(260)设置在所述底部集气槽(230)与所述换热器(250)之间。...

【专利技术属性】
技术研发人员：周永君，徐小明，丁云鑫，
申请(专利权)人：杭州士兰明芯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：