一种刻蚀设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种刻蚀设备，涉及显示器件制备领域，在喷淋刻蚀过程中，刻蚀液能够对光刻胶边缘所覆盖的薄膜层进行刻蚀。该刻蚀设备包括刻蚀腔，刻蚀腔内设置有工作台和刻蚀液喷头，工作台用于承载待刻蚀基板，待刻蚀基板包括依次覆盖衬底基板的薄膜层和光刻胶，刻蚀液喷头可向所述待刻蚀基板上喷淋刻蚀液。工作台连接有振动机构，用于驱动所述工作台振动，以使得上述待刻蚀基板上的刻蚀液与光刻胶边缘覆盖的薄膜层相接触。该刻蚀设备用于对待刻蚀基板进行刻蚀。

【技术实现步骤摘要】


本技术涉及显示器件制备领域，尤其涉及一种刻蚀设备。

技术介绍

TFT-LCD(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管-液晶显示器)作为一种平板显示装置，因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点，而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。
上述TFT-LCD由对盒设置的阵列基板和彩膜基板构成。其中，阵列基板上设置有横纵交叉的栅线和数据线。栅线或数据线图案的制备过程为，首先，通过在如图1a所示衬底基板10上沉积一层薄膜层20，在薄膜层20上涂覆光刻胶30，并对该光刻胶30通过掩膜版11进行曝光，形成光刻胶保留区域31。然后，通过刻蚀工艺，例如湿法刻蚀形成如图1b所示的薄膜图案21，再将光刻胶保留区域31的光刻胶剥离，以形成栅线或数据线图案。上述湿法刻蚀包括喷淋法和浸泡法。
其中，喷淋法相对于浸泡法而言，刻蚀速率快，因此应用较为广泛。现有的喷淋法，如图1b所示，刻蚀液喷头40以一定的压力将刻蚀液50喷淋在形成有薄膜层20以及光刻胶保留区域31的基板上，以对未被光刻胶覆盖的金属薄膜20进行刻蚀。此外，在刻蚀的过程中，被光刻胶保留区域31覆盖的薄膜层20的两侧也会被轻微刻蚀，以使得刻蚀后形成薄膜图案21的两侧与衬底基板10具有夹角(Profile)α。然而光刻胶30边缘32处所覆盖的薄膜层20，由于在光刻胶30的遮挡下无法与刻蚀液50相接触，从而会尖角(Tip)β，降低薄膜图案21的两侧的平滑度。在此基础上为了加快刻蚀液的流出，如图1c所示，当将衬底基板10倾斜γ(约5°)时，上述尖角β更加明显。在此情况下。覆盖于薄膜图案21表面其余薄膜层容易在尖角的影响下容易发生断裂，从而产生搭接不良的现象。

技术实现思路

本技术的实施例提供一种刻蚀设备，在喷淋刻蚀过程中，刻蚀液能够对光刻胶边缘所覆盖的薄膜层进行刻蚀。
为达到上述目的，本技术的实施例采用如下技术方案：
本技术的实施例提供一种刻蚀设备，包括刻蚀腔，所述刻蚀腔内设置有工作台和刻蚀液喷头，所述工作台用于承载待刻蚀基板，所述待刻蚀基板包括依次覆盖衬底基板的薄膜层和光刻胶，所述刻蚀液喷头可向所述待刻蚀基板上喷淋刻蚀液。所述工作台连接有振动机构，用于驱动所述工作台振动，以使得所述待刻蚀基板上的刻蚀液与所述光刻胶边缘覆盖的薄膜层相接触。
进一步的，所述振动机构由设置于所述工作台至少一侧的子振动机构构成，用于在驱动所述工作台在振动过程中使得所述工作台上设置有所述子振动机构的一侧发生倾斜。
优选的，所述振动机构由分别设置于所述工作台相对两侧的第一子振动机构和第二子振动机构构成；所述第一子振动机构和所述第二子振动机构交替驱动所述工作台。
优选的，所述振动机构由设置于所述工作台相对两侧的第一子振动机构和第二子振动机构构成；所述第一子振动机构和所述第二子振动机构同时驱动所述工作台，且所述第一子振动机构和所述第二子振动机构的驱动方向相反。
进一步优选的，所述振动机构由分别设置于所述工作台四个侧边的第一子振动机构、第二子振动机构、第三子振动机构以及第四子振动机构构成；在一个振动周期内，所述第一子振动机构、所述第二子振动机构、所述第三子振动机构以及所述第四子振动机构交替振动。
进一步的，所述振动机构包括液压电机、气压电机或电磁电动机。
更进一步的，所述工作台包括支架，以及安装于所述支架上的第一传送机构，所述传送机构用于承载和传送所述待刻蚀基板。
优选的，所述传送机构包括安装于所述支架上的至少两个辊轴，所述辊轴沿轴心方向转动，且所述辊轴的轴心方向与所述待刻蚀基板传输方向垂直。
进一步优选的，相邻两个滚轴之间设置有用于所述刻蚀液流出的间隙。
优选的，所述传送机构包括安装于所述支架上传送带。
进一步优选的，所述传送带上设置有用于所述刻蚀液流出的排液孔。
更进一步优选的，所述工作台还包括安装于所述支架上的至少一对定位轴，用于对所述待刻蚀基板上平行于所述待刻蚀基板传输方向的两侧进行固定；所述定位轴沿轴心方向转动，且所述定位轴的轴心方向与所述待刻蚀基板垂直。
进一步的，所述的刻蚀设备还包括设置于所述工作台下方的回收槽，用于刻蚀液进行回收。
进一步的，所述的刻蚀设备还包括清洗腔，所述清洗腔设置第二传送机构，用于承接由所述第一传送机构传送至所述清洗腔的基板，所述清洗腔还包括设置于所述第二传送机构上方的清洁喷头。
更进一步的，所述的刻蚀设备还包括干燥腔，所述干燥腔设置第三传送机构，用于承接由所述第二传送机构传送至所述干燥腔的基板，所述干燥腔还包括设置于所述第三传送机构上方的风刀。
本技术实施例提供一种刻蚀设备，该刻蚀设备包括刻蚀腔，该刻蚀腔内设置有工作台和刻蚀液喷头，工作台用于承载待刻蚀基板，待刻蚀基板包括依次覆盖衬底基板的薄膜层和光刻胶，上述刻蚀液喷头可向待刻蚀基板上喷淋刻蚀液。上述工作台连接有振动机构，用于驱动上述工作台振动，以使得待刻蚀基板上的刻蚀液与光刻胶边缘覆盖的薄膜层相接触。由于振动机构在振动的过程中能够驱动承载待刻蚀基板的工作台振动，进一步带动喷淋至位于工作台上的待刻蚀基板的刻蚀液沿垂直于底座的方向上下波动，在波动的过程中，刻蚀液冲刷至光刻胶的边缘覆盖的薄膜层，并对该位置处的薄膜层进行刻蚀，从而能够减小上述光刻胶的边缘覆盖的薄膜层由于被光刻胶的遮挡，而无法与刻蚀液喷头喷淋的刻蚀液相接触而产生的尖角。进而降低了上述尖角导致后续覆盖薄膜层发生断裂的几率，降低了薄膜层搭接不良率，提升了产品质量。
附图说明
为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1a为现有技术中制作阵列基板的一种结构示意图；
图1b为现有技术中采用的一种湿法刻蚀的结构示意图；
图1c为现有技术中采用的另一种湿法刻蚀的结构示意图；
图2a为本技术提供的一种湿法刻蚀设备的结构示意图；
图2b为采用图2a中的刻蚀设备的刻蚀过程中待刻蚀基板的结构示意图；
图3a为本技术提供的一种振动电机为液压电机或气压电机的刻蚀设备的结构示意图；
图3b为本技术提供的一种振动电机为电磁电动机的刻蚀设备的结构示意图；
图4为本技术提供的一种包括两个子振动机构的刻蚀设备的结构示意图；
图5a为采用图4的刻蚀设备的交替驱动过程示意图；
图5b为采用图4的刻蚀设备的交替驱动另一种过程示意图；
图5c为采用图4的刻蚀设备的同时反向驱动过程示意图；
图5d为采用图4的刻蚀设备的同时反向驱动另一种过程示意图；
图6a为一种曲折薄膜图案的结构示意图；
图6b为本技术提供的一种包括四个子振动机构的刻蚀设备的结构示意图；
图7为本技术提供的另一种刻蚀设备的结构示意图；
图8a为本技术提供的一种刻蚀设备的第一传送机构的结构示意图；
图8b为本技术提供的一种刻蚀设备的另一种第一传送机构的结构示意图；
图9为本技术提供的一种刻本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种刻蚀设备，其特征在于，包括刻蚀腔，所述刻蚀腔内设置有工作台和刻蚀液喷头，所述工作台用于承载待刻蚀基板，所述待刻蚀基板包括依次覆盖衬底基板的薄膜层和光刻胶，所述刻蚀液喷头可向所述待刻蚀基板上喷淋刻蚀液；所述工作台连接有振动机构，用于驱动所述工作台振动，以使得所述待刻蚀基板上的刻蚀液与所述光刻胶边缘覆盖的薄膜层相接触。

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀设备，其特征在于，包括刻蚀腔，所述刻蚀腔内设置有工作台和刻蚀液喷头，所述工作台用于承载待刻蚀基板，所述待刻蚀基板包括依次覆盖衬底基板的薄膜层和光刻胶，所述刻蚀液喷头可向所述待刻蚀基板上喷淋刻蚀液；
所述工作台连接有振动机构，用于驱动所述工作台振动，以使得所述待刻蚀基板上的刻蚀液与所述光刻胶边缘覆盖的薄膜层相接触。
2.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述振动机构由设置于所述工作台至少一侧的子振动机构构成，用于在驱动所述工作台在振动过程中使得所述工作台上设置有所述子振动机构的一侧发生倾斜。
3.根据权利要求2所述的刻蚀设备，其特征在于，所述振动机构由分别设置于所述工作台相对两侧的第一子振动机构和第二子振动机构构成；所述第一子振动机构和所述第二子振动机构交替驱动所述工作台。
4.根据权利要求2所述的刻蚀设备，其特征在于，所述振动机构由设置于所述工作台相对两侧的第一子振动机构和第二子振动机构构成；所述第一子振动机构和所述第二子振动机构同时驱动所述工作台，且所述第一子振动机构和所述第二子振动机构的驱动方向相反。
5.根据权利要求2所述的刻蚀设备，其特征在于，所述振动机构由分别设置于所述工作台四个侧边的第一子振动机构、第二子振动机构、第三子振动机构以及第四子振动机构构成；在一个振动周期内，所述第一子振动机构、所述第二子振动机构、所述第三子振动机构以及所述第四子振动机构交替振动。
6.根据权利要求1-5任一项所述的刻蚀设备，其特征在于，还包括位于所述工作台下方的底座，所述底座与所述工作台之间设置有缓冲件。
7.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述振动机构...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘宁，魏钰，宋博韬，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34