一种用于湿法刻蚀的压水滚动装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于湿法刻蚀的压水滚动装置，包括：柱形主体和若干环形垫圈，其中所述环形垫圈为耐磨垫圈，其套设在所述柱形主体的外表面，并且所述环形垫圈的内环直径与所述柱形主体的截面直径相匹配，其外径大于所述柱形主体的截面直径，所述环形垫圈其内外径之差在0.5mm‑3mm之间。本实用新型专利技术便于调节柱形主体到硅片的距离，从而控制硅片表面水膜的水量。只需要备用一个柱形主体和若干个环形垫圈，可以大幅度节省生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及晶体硅太阳能电池制造领域，具体地是涉及一种用于湿法刻蚀的压水滚动装置。
技术介绍
随着光伏行业的迅速发展，行业竞争愈演愈烈，提高光伏电池的光电转化效率成为各企业的当务之急。目前，晶体硅太阳能电池制造工序包括：制绒、扩散、边缘刻蚀、镀膜和丝网印刷，在上述行业背景下，能大幅度提高光电转化效率的利用溶液腐蚀的边缘刻蚀方法(以下简称湿法刻蚀)，逐渐代替传统的利用等离子体腐蚀的边缘刻蚀方法。湿法刻蚀具体步骤包括，在硅片的扩散面喷洒水、用压水滚轮将喷洒的水均匀铺开、将硅片从腐蚀液表面滑过以及后续的清洗步骤。当硅片表面覆盖的水量少时，会导致腐蚀液溢到硅片扩散面，造成硅片扩散面PN结损伤(该情况称之为过刻)，引起光电转化效率降低；当硅片表面覆盖的水量多时，会导致硅片滑过腐蚀液时，水流到腐蚀液中，将腐蚀液稀释。因此，硅片扩散面的水量控制对湿法刻蚀工艺至关重要。由于硅片扩散面喷洒的水量不能精确控制，为了控制硅片扩散面的水量，通常先在硅片扩散面喷洒过量的水，然后通过压水滚轮压掉一部分水，从使硅片扩散面的水量保持一定。而实际生产过程中，由于硅片扩散面亲水性的差异，需要调整压掉的水量。单个压水滚轮对应固定的压水量，备用多个压水滚轮无疑增加生产成本。因此，本技术的专利技术人亟需构思一种新技术以改善其问题。
技术实现思路
本技术旨在提供一种用于湿法刻蚀的压水滚动装置，其可以有效控制水膜量，控制减重，从而达到稳定生产。为解决上述技术问题，本技术的技术方案是：一种用于湿法刻蚀的压水滚动装置，包括：柱形主体和若干环形垫圈，其中所述环形垫圈为耐磨垫圈，其套设在所述柱形主体的外表面，并且所述环形垫圈的内环直径与所述柱形主体的截面直径相匹配，其外径大于所述柱形主体的截面直径，所述环形垫圈其内外径之差在0.5mm-3mm之间。优选地，所述环形垫圈的数量为2个，分别设置在所述柱形主体的两端。优选地，还包括多个平行设置的底部滚轮，所述底部滚轮设置在所述柱形主体下方，硅片设置在所述底部滚轮和所述柱形主体之间。优选地，所述底部滚轮为柱形，其直径大于或者等于所述柱形主体的直径，其长度大于或者等于所述柱形主体的长度。优选地，所述环形垫圈为PP耐磨垫圈、PVDF耐磨垫圈、PVC耐磨垫圈、TFE耐磨垫圈中的一种。采用上述技术方案，本技术至少包括如下有益效果：本技术所述的用于湿法刻蚀的压水滚动装置，便于调节柱形主体到硅片的距离，从而控制硅片表面水膜的水量。只需要备用一个柱形主体和若干个环形垫圈，节省生产成本。附图说明图1为本技术所述的用于湿法刻蚀的压水滚动装置的结构示意图。其中：1.柱形主体，2.环形垫圈,3.底部滚轮,4.硅片。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。如图1所示，为符合本技术的一种用于湿法刻蚀的压水滚动装置，包括：柱形主体1和若干环形垫圈2，其中所述环形垫圈2为耐磨垫圈，其套设在所述柱形主体1的外表面，并且所述环形垫圈2的内环直径与所述柱形主体1的截面直径相匹配，其外径大于所述柱形主体1的截面直径，所述环形垫圈2其内外径之差在0.5mm-3mm之间。优选地，所述环形垫圈2的厚度可以为0.5mm、0.7mm、0.9mm、1.1mm、1.3mm、1.5mm、1.7mm、1.9mm、2.1mm、2.3mm、2.5mm、2.7mm、2.9mm。优选地，所述环形垫圈2的数量为2个，分别设置在所述柱形主体1的两端。优选地，还包括多个平行设置的底部滚轮3，所述底部滚轮3设置在所述柱形主体1下方，硅片4设置在所述底部滚轮3和所述柱形主体1之间。并且所述硅片4不设置在所述环形垫圈2的下方，即硅片4在放置时，留出一定的空间，当滚轮滚动时，可以更加全面的挤压。相对于每隔一段距离设置一个环形垫圈2或者其他突起结构来说，不仅可以保证挤压掉水分，同时也在一定程度上降低了生产成本。优选地，所述底部滚轮3为柱形，其直径大于或者等于所述柱形主体1的直径，其长度大于或者等于所述柱形主体1的长度。优选地，所述环形垫圈2为PP耐磨垫圈、PVDF耐磨垫圈、PVC耐磨垫圈、TFE耐磨垫圈中的一种。优选地，所述环形垫圈2外侧设有沿所述环形垫圈2中心向外辐射的防滑槽。本技术所述的用于湿法刻蚀的压水滚动装置，便于调节柱形主体1到硅片4的距离，从而控制硅片4表面水膜的水量。只需要备用一个柱形主体1和若干个环形垫圈2，节省生产成本。对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本技术。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本技术的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本技术将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于湿法刻蚀的压水滚动装置，其特征在于，包括：柱形主体和若干环形垫圈，其中所述环形垫圈为耐磨垫圈，其套设在所述柱形主体的外表面，并且所述环形垫圈的内环直径与所述柱形主体的截面直径相匹配，其外径大于所述柱形主体的截面直径，所述环形垫圈其内外径之差在0.5mm‑3mm之间。

【技术特征摘要】
1.一种用于湿法刻蚀的压水滚动装置，其特征在于，包括：柱形主体和若干环形垫圈，其中所述环形垫圈为耐磨垫圈，其套设在所述柱形主体的外表面，并且所述环形垫圈的内环直径与所述柱形主体的截面直径相匹配，其外径大于所述柱形主体的截面直径，所述环形垫圈其内外径之差在0.5mm-3mm之间。2.如权利要求1所述的用于湿法刻蚀的压水滚动装置，其特征在于：所述环形垫圈的数量为2个，分别设置在所述柱形主体的两端。3.如权利要求1所述的用于湿法刻蚀的压水...

【专利技术属性】
技术研发人员：张伟，张雪峰，张磊，王雪亮，罗茂盛，
申请(专利权)人：江阴鑫辉太阳能有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32