【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光谱
，具体涉及的平面闪耀全息光栅制作所使用的离子束刻蚀装置中调整栅线与离子束流垂直度的方法。
技术介绍
离子束刻蚀装置是ー种常用的平面闪耀全息光栅制作装置，离子束流以垂直于光刻胶栅线方向，与光刻胶光栅基底成一定角度入射至基底表面，将基底上的正弦型光刻胶光栅槽形刻蚀转移至基底上，形成三角槽形闪耀全息光栅，其闪耀角等于束流的入射角。它的最大优点在于:离子束流垂直于栅线方向，因此，只要调整基底与束流的夹角，即入射角，即可制作不同闪耀角的闪耀全息光柵。但是实际操作中这种装置的精确调整较为困难，光刻胶光栅栅线与离子束流垂直度的精确度很难保证。平面闪耀全息光栅的刻蚀原理是，欲制作闪耀角为e，光栅周期为d的平面闪耀全息光栅，需提供光栅周期为d，占空比为1:1，高度为h=0.7326dtan 0的正弦型光刻胶掩模，使离子束流垂直于光刻胶栅线方向，与光刻胶光栅基底成e角入射至基底表面，通过一定刻蚀时间，形成闪耀角为e=arctan^^的平面闪耀全息光柵。如果离子束流与光刻胶栅线方向不垂直，即离子束流在光栅基底表面投影与光刻胶栅线垂线成ー个角度5，则形成的平面...
【技术保护点】
调整闪耀光栅离子束刻蚀装置中栅线与束流垂直度的方法，其特征是，该方法由以下步骤实现：步骤一、离子源（6）产生离子束流经离子源栅网出射，所述离子束流（7）的出射方向垂直于离子源栅网（5）平面；步骤二、光源光束经平板（2）的中心圆孔（13）入射至反射镜（4），经反射镜（4）反射的光束入射至光栅（9）表面形成0级衍射光和?1级衍射光；0级衍射光入射至平板（2）的中心圆孔（13）内并与光栅（9）栅线垂直；所述反射镜（4）固定在步骤一所述的离子源栅网（5）表面，反射镜（4）的反射面与离子源栅网（5）表面平行；步骤三、调整光栅，使步骤二所述的?1级衍射光入射至平板（2）的中心圆孔（13...
【技术特征摘要】
1.整闪耀光栅离子束刻蚀装置中栅线与束流垂直度的方法，其特征是，该方法由以下步骤实现: 步骤一、离子源(6)产生离子束流经离子源栅网出射，所述离子束流(7)的出射方向垂直于离子源栅网(5)平面； 步骤ニ、光源光束经平板(2)的中心圆孔(13)入射至反射镜(4)，经反射镜(4)反射的光束入射至光栅(9)表面形成O级衍射光和-1级衍射光；0级衍射光入射至平板(2)的中心圆孔(13)内并与光栅(9)栅线垂直；所述反射镜(4)固定在步骤一所述的离子源栅网(5)表面，反射镜(4 )的反射面与离子源栅网(5 )表面平行； 步骤三、调整光栅，使步骤ニ所述的-1级衍射光...
【专利技术属性】
技术研发人员：谭鑫，吴娜，巴音贺希格，齐向东，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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