光刻机的预对准机构制造技术

本实用新型专利技术提供一种光刻机的预对准机构，至少包括：具有旋转本体及第一抽气通孔的旋转台，具有塑料本体、对应所述第一抽气通孔的第二抽气通孔、及连通所述第二抽气通孔的沟槽的真空吸盘，具有光源发射端以及光源接收端的光学组件。本实用新型专利技术的光刻机的预对准机构因采用了工程塑料作为真空吸盘，进而良好的控制了由于其自身造成的污染，确保了预对准机构中真空吸盘的平整度，加强了所述真空吸盘对附于其上的晶圆的固定作用，为预对准工序的正常实施提供了保证。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

光刻机的预对准机构
本技术涉及一种光刻机设备，特别是涉及一种光刻机的预对准机构。
技术介绍
随着半导体技术的进步，集成电路的集成度越来越高，半导体器件的尺寸越来越小，因此制作过程中工艺上的细微失误，将对成品率、器件性能、器件可靠性产生严重的影响。对于半导体器件而言，由于其极易受到多种污染物的损害，例如微粒、金属离子、化学物质、细菌，因此制作过程中必须对各种污染进行良好的控制。其中，金属离子污染，以可移动离子污染(mobile ionic contaminants, MICs)为主,其为存在于材料中的运动力很强的金属原子且以离子形态出现。就半导体器件制作过程中的光刻工艺而言，在经过晶圆表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘之后，需对所述晶圆进行对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等一系列工序，其中，在进行对准曝光时，又分为预对准及通过对准标志进行精确对准两个步骤。自对准曝光机作为制作过程中重要的生产用机台，主要用于微影制程，一般而言， 其与涂布显影机(涂胶显影机)共同使用，完成微影制程中最核心的图像形成步骤。在自对准曝光机的预对准过程中，用于固定晶圆且与其直接接触的真空吸盘，是预对准工序中的重要部件。现有的真空吸盘多为金属材质，由于真空吸盘长期重复使用，很容易在不断的接触中造成晶圆的金属离子污染。进一步，由于部分金属材质(如铁)易磨损， 从而造成真空吸盘的表面磨损，一方面，表面磨损的粉尘污染机台，极易引起晶圆的金属离子污染，并导致交叉污染，甚至生产停线，造成极大的风险；另一方面，表面磨损致使真空吸盘的表面平整度降低，导致晶圆无法正常固定于真空吸盘之上，影响预对准工序的正常实施。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种光刻机的预对准机构，用于解决现有技术中预对准机构经过长期使用易造成金属离子污染、及真空吸盘固定晶圆效果不佳的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种光刻机的预对准机构，设置在所述光刻机中用于对边缘具有缺口或平边的晶圆进行预对准作业的预对准平台上，所述预对准机构至少包括旋转台，设置在所述预对准平台上，包括具有一平整台面的旋转本体、以及穿设于所述旋转本体的第一抽气通孔；真空吸盘，固定于所述旋转台上，包括具有上、下平整表面的塑料本体、以及穿设于所述塑料本体且对应所述第一抽气通孔的第二抽气通孔，所述塑料本体的下表面贴合于所述旋转本体的平整台面上，所述塑料本体的上表面开设有多个连通所述第二抽气通孔的沟槽；以及光学组件，包括设置在所述真空吸盘上侧的光源发射端、以及设置在所述光源发射端的光源传播路径上且位于所述真空吸盘下侧的光源接收端，所述光源接收端透过所述真空吸盘上晶圆边缘的缺口或平边感测到所述光源发射端发射的光线后使所述旋转台停止旋转以预对准所述晶圆。可选地，还包括设置在所述预对准平台一侧的机械手，夹持并移动所述晶圆将其放置于或移离所述真空吸盘。可选地，所述塑料本体为聚醚醚酮材质。可选地，所述光源发射端为LED光源；所述光源接收端为CXD传感器。可选地，所述旋转台还包括开设于所述平整台面上且具有内螺纹的盲孔。可选地，所述真空吸盘还包括穿设于所述塑料本体且对应所述盲孔的沉孔。可选地，所述真空吸盘与旋转台通过穿设于所述沉孔并旋紧于所述盲孔中的紧固件固定。可选地，所述第一抽气通孔藉由一导管连通一抽真空装置。可选地，所述沟槽包括环绕所述第二抽气通孔的多个环形沟槽、及连通各该环形沟槽和所述第二抽气通孔的十字沟槽。可选地，所述第二抽气通孔位于所述塑料本体的中心；所述第一抽气通孔位于所述旋转本体的中心。如上所述，本技术的光刻机的预对准机构，具有以下有益效果与现有技术的预对准机构相比，本技术的光刻机的预对准机构因采用了工程塑料作为真空吸盘，进而良好的控制了由于其自身造成的污染，确保了预对准机构中真空吸盘的平整度，加强了所述真空吸盘对附于其上的晶圆的固定作用，为预对准工序的正常实施提供了保证。附图说明图I显示为本技术的光刻机的预对准机构在实施例中的结构示意图。图2显示为本技术的光刻机的预对准机构在实施例中的结构分解示意图。图3显示为本技术的光刻机的预对准机构真空吸盘的俯视示意图。元件标号说明I光刻机的预对准机构11旋转台111旋转本体112第一抽气通孔113 盲孔12真空吸盘121塑料本体122第二抽气通孔I23 沟槽1231环形沟槽1232十字沟槽124 沉孔413光学组件131光源发射端132光源接收端14紧固件2晶圆3导管4抽真空装置具体实施方式以下由特定的具体实施例说明本技术的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点及功效。请参阅图I至图3。须知，本技术光刻机的预对准机构说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本技术可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更
技术实现思路
下，当亦视为本技术可实施的范畴。现有的真空吸盘多为金属材质，由于真空吸盘长期重复使用，很容易在不断的接触中造成晶圆的金属离子污染。进一步，由于部分金属材质(如铁)易磨损，从而造成真空吸盘的表面磨损，一方面，表面磨损的粉尘污染机台，极易引起晶圆的金属离子污染，并导致交叉污染，甚至停线，造成极大的风险；另一方面，表面磨损致使表面平整度降低，导致晶圆无法正常固定，影响预对准的正常实施。有鉴于此，本技术提供了一种光刻机的预对准机构，良好的控制了由于其自身造成的污染，确保了预对准机构中真空吸盘的平整度，加强了所述真空吸盘对附于其上的晶圆的固定作用，为预对准工序的正常实施提供了保证。以下将详细阐述本技术的光刻机的预对准机构的原理及实施方式，使本领域技术人员不需要创造性劳动即可理解本技术的光刻机的预对准机构。如图I至图3所示，本技术提供一种光刻机的预对准机构1，设置在所述光刻机(未图示)中用于对边缘具有缺口(notch)或平边(flat)的晶圆2进行预对准作业的预对准平台(未图示)上，所述预对准机构I至少包括旋转台11、真空吸盘12、及光学组件13。请参阅图I及图2，其中，图2为图I的分解示意图。所述旋转台11设置在所述预对准平台(未图示)上，包括具有一平整台面的旋转本体111、以及穿设于所述旋转本体111的第一抽气通孔112。在本实施例中，所述旋转台11 还包括开设于所述平整台面上且具有内螺纹的用于固定的两个盲孔113，且所述第一抽气通孔112藉由一导管3连通一抽真空装置4，其中，所述第一抽气通孔112位于所述旋转本体111的中心，且开设于所述平整台面上的所述两个盲孔113以所述第一抽气通孔112为中心对称分布于其两侧。所述真空吸盘12固定于所述旋转台11上，包括具有上、下平整表面的塑料本体 121、以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻机的预对准机构，设置在所述光刻机中用于对边缘具有缺口或平边的晶圆进行预对准作业的预对准平台上，其特征在于，所述预对准机构至少包括：旋转台，设置在所述预对准平台上，包括具有一平整台面的旋转本体、以及穿设于所述旋转本体的第一抽气通孔；真空吸盘，固定于所述旋转台上，包括具有上、下平整表面的塑料本体、以及穿设于所述塑料本体且对应所述第一抽气通孔的第二抽气通孔，所述塑料本体的下表面贴合于所述旋转本体的平整台面上，所述塑料本体的上表面开设有多个连通所述第二抽气通孔的沟槽；以及光学组件，包括设置在所述真空吸盘上侧的光源发射端、以及设置在所述光源发射端的光源传播路径上且位于所述真空吸盘下侧的光源接收端，所述光源接收端透过所述真空吸盘上晶圆边缘的缺口或平边感测到所述光源发射端发射的光线后使所述旋转台停止旋转以预对准所述晶圆。

【技术特征摘要】
1.一种光刻机的预对准机构，设置在所述光刻机中用于对边缘具有缺口或平边的晶圆进行预对准作业的预对准平台上，其特征在于，所述预对准机构至少包括 旋转台，设置在所述预对准平台上，包括具有一平整台面的旋转本体、以及穿设于所述旋转本体的第一抽气通孔； 真空吸盘，固定于所述旋转台上，包括具有上、下平整表面的塑料本体、以及穿设于所述塑料本体且对应所述第一抽气通孔的第二抽气通孔，所述塑料本体的下表面贴合于所述旋转本体的平整台面上，所述塑料本体的上表面开设有多个连通所述第二抽气通孔的沟槽；以及 光学组件，包括设置在所述真空吸盘上侧的光源发射端、以及设置在所述光源发射端的光源传播路径上且位于所述真空吸盘下侧的光源接收端，所述光源接收端透过所述真空吸盘上晶圆边缘的缺口或平边感测到所述光源发射端发射的光线后使所述旋转台停止旋转以预对准所述晶圆。2.根据权利要求I所述的光刻机的预对准机构，其特征在于还包括设置在所述预对准平台一侧的机械手，夹持并移动所述晶圆将其放置于或移离所述真空吸盘。3.根据权利要求I所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：宣胤杰，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：实用新型
国别省市：