【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种批处理式热处理装置的加热器，更详细地说，涉及一种能够同时对多个基板的基板整个面积进行均匀热处理，并且为了在结束热处理工序之后能够迅速地冷却热处理装置的腔室内部而使冷却用气体流过的批处理式热处理装置的加热器。
技术介绍
在半导体、平板显示器以及太阳能电池的制造中使用的退火装置，是对蒸镀在像硅晶片、玻璃这样的基板上的规定薄膜进行结晶化、相变化等工序所不可缺少的进行热处理步骤的装置。作为代表性的退火装置，有在制造液晶显示器或者薄膜型晶体硅太阳能电池时将蒸镀在玻璃基板上的非晶体硅结晶化为多晶硅的硅结晶化装置。为了执行如上所述的结晶化工序(热处理工序)，需要有能够对形成有规定薄膜的基板进行加热的热处理装置。例如，为了使非晶体硅结晶化至少需要550°C至600°C的温度。通常，热处理装置具有能够对一个基板进行热处理的单片式和对多个基板进行热处理的批处理式。虽然单片式具有装置的结构简单的优点，但是存在生产率低的缺点。因此，最近批处理式作为大量生产用而受到瞩目。尤其是，最近随着平板显示器以及太阳能电池玻璃基板的尺寸大面积化，上述问题更加受到关注。因此，需要开发...
【技术保护点】
一种批处理式热处理装置的加热器，适用于可同时对多个基板进行热处理的批处理式热处理装置，其特征在于，所述加热器包括可使冷却用气体流向所述加热器内部的空间。
【技术特征摘要】
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