The invention relates to a substrate includes a barrier layer made of heat source radiation wavelength have no substrate, made of absorbent material by heating of the radiation source has high absorption rate of the material absorption barrier layer, migration substrate or absorption layer contained in the ion and atom diffusion absorption layer disposed on the substrate the diffusion barrier layer is arranged in the cover, absorption layer. The invention also relates to a method for preparing a substrate, depositing an absorbing layer and a diffusion barrier sequentially by means of physical vapor deposition or chemical vapor deposition on a substrate. The invention also relates to a heat treatment device, comprising a body, a heating source disposed in the body and the substrate, wherein the heating source is located on the substrate adjacent to the substrate. The substrate and the heat treatment device of the present invention can achieve accurate heat treatment of high throughput composite material and have high processing efficiency.
【技术实现步骤摘要】
一种热处理用衬底、衬底的制备方法和应用有该衬底的热处理装置
本专利技术涉及材料热处理
,尤其涉及高通量微区快速热处理
,具体涉及一种热处理用的衬底,本专利技术还涉及该衬底的制备方法,以及一种应用有该衬底的热处理装置。
技术介绍
热处理是将材料通过加热、保温和冷却的手段,以获得预期组织和性能的一种材料加工工艺,它可以对材料的缺陷、应力、结构、形貌等都产生重要影响,具有广泛的应用。现有热处理工艺多采用各式炉体结构,如管式炉、箱式炉、马弗炉等,该类装备具有加热面积大的特点,适用于大面积材料样品的热处理。然而材料研究过程中往往需要进行多材料样品、多参数的实验,这种情况下采用现有的热处理装置往往需要进行大量的实验,消耗大量的人力、物力和能源,耗时费力。高通量组合材料制备与表征技术作为一种高效的材料研究方法,近年来广受重视。它通过在单一的小面积衬底上集成成千上万组材料样品,形成组合材料芯片以供研究。这种制备方法可以大幅度提高材料样品制备通量,提高研究效率,但是这种组合材料芯片上单个材料样品的面积通常都较小,有时仅为微米至毫米量级。申请公布号为CN104498677A(申请号为201510002879.8)的中国专利技术专利申请《一种高通量微区快速热处理设备及其热处理方法》,其公开的热处理设备中,采用激光作为辐照加热源对组合材料芯片进行微区热处理,利用激光热处理急热急冷的特点实现热处理区域可控,通过调节激光加热源的强度和频率分别对高通量材料中每单个材料样品进行加热,可以实现组合材料芯片的微区快速热处理。由于用于加热的激光往往是具有某一固定波长的,而组合材料库 ...
【技术保护点】
一种衬底,其特征在于:包括由对辐照加热源的辐照波长基本无吸收的材料制成的基板(1)、由对加热源辐射波具有高吸收率和吸收系数的材料制成的吸收层(2)、用于阻挡所述基板(1)或吸收层(2)中所包含离子、原子向材料样品迁移的扩散阻挡层(3),所述吸收层(2)和所述扩散阻挡层(3)叠放设置在所述基板(1)上。
【技术特征摘要】
1.一种衬底,其特征在于:包括由对辐照加热源的辐照波长基本无吸收的材料制成的基板(1)、由对加热源辐射波具有高吸收率和吸收系数的材料制成的吸收层(2)、用于阻挡所述基板(1)或吸收层(2)中所包含离子、原子向材料样品迁移的扩散阻挡层(3),所述吸收层(2)和所述扩散阻挡层(3)叠放设置在所述基板(1)上。2.根据权利要求1所述的衬底,其特征在于:所述吸收层(2)为一整体单元或者包括多个独立的吸收单元(4),多个所述吸收单元(4)间隔排列设置在所述基板(1)上。3.根据权利要求1或2所述的衬底,其特征在于:所述扩散阻挡层(3)为一整体单元或者包括多个独立的阻挡单元(5),每个阻挡单元(5)对应一个吸收单元(4)叠放设置。4.根据权利要求1所述的衬底,其特征在于:所述基板(1)至少设置有一层基板叠层,所述吸收层(2)至少设置有一层吸收叠层,所述扩散阻挡层(3)至少设置有一层阻挡叠层。5.根据权利要求4所述的衬底,其特征在于:每层所述基板叠层由硅片、钠钙玻璃、石英玻璃、刚玉、硼硅玻璃、蓝宝石、红宝石、硫化玻璃中的一种或者至少两种组合的材料制成;每层吸收叠层由Si、a-Si、Ge、SiC、SiGe、a-C、GaAs、Ti、SiO2、Au、Ag、W、Mo、Ti、Cr、Pt、ZnO、TiO2、Cr2O3、Al2O3中的一种或者至少两种组合的材料制成;每层阻挡叠层由Ti基、T...
【专利技术属性】
技术研发人员:向勇,项晓东,张晓琨,
申请(专利权)人:宁波英飞迈材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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