加热器区块及基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种包括安装于其面对待处理物体(例如基板)的一个表面上的多个加热灯的加热器区块及包括所述加热器区块的基板处理装置。所述加热灯包括第一灯及第二灯，所述第一灯用以对所述待处理物体照射紫外(UV)线，所述第二灯用以对所述待处理物体照射红外(IR)线。对于所述一个表面上的多个区域中的每一个，所述第一灯的数目对所述第二灯的数目的相对比率是不同的。本发明专利技术提供所述加热器区块及基板处理装置，所述加热器区块可对所述基板的边缘区域的温度进行热补偿以提高所述基板的温度均匀性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种基板处理装置，且更具体而言，涉及一种其结构经改良以提高基板的温度均匀性的加热器区块及包括所述加热器区块的基板处理装置。
技术介绍
半导体及显示装置由以下方法制造而成：在基板上重复进行例如薄膜积层(thin film lamination)、离子植入及热处理等单元过程，从而在基板上形成具有所期望电路运作特性的元件。用于单元过程的基板热处理过程的装置包括快速热处理装置。所述快速热处理装置使用紫外线及红外线而将热传递至基板。为此，如例如在韩国专利公开申请第10-2002-0085452号中所公开，快速热处理装置包括红外线灯及紫外线灯。与此同时，当快速热处理装置处理基板时，所述基板的品质受所述基板的温度均匀性影响。因此，期望红外线灯及紫外线灯中的每一个均具有使基板的温度均匀性提高的结构。然而，在现有技术中，如在韩国专利公开申请中所公开，提供了线性灯型的红外线灯及紫外线灯。因此，在现有技术中，由于对待处理基板的热补偿是通过一维补偿(one-dimensional compensation)方法来进行，故在提高基板的整个区域的温度均匀性及补偿基板的边缘的温度方面存在局限性。此外，在现有技术中，如在韩国专利公开申请中所公开，红外线灯及紫外线灯交替地设置成格栅结构(lattice structure)。因此，在现有技术中，红外线灯与紫外线灯彼此干扰，使得自红外线灯所产生的光辐射能量减小且紫外线灯的寿命因红外线辐射能量而缩短。[现有技术文献][专利文献](专利文献1)KR10-2002-0085452 A
技术实现思路
本专利技术提供一种其结构经改良以提高基板的热处理效率的加热器区块及基板处理装置。本专利技术还提供一种其结构经改良以提高基板的温度均匀性的加热器区块及基板处理装置。本专利技术还提供一种其结构经改良以抑制或防止彼此不同的灯之间的热干扰及能量减少现象的加热器区块及基板处理装置。本专利技术还提供一种其结构经改良以延长照射紫外线的灯的寿命的加热器区块及基板处理装置。根据示例性实施例，一种加热器区块包括安装于所述加热器区块的面对待处理物体的一个表面上的多个加热灯。所述加热灯包括第一灯及第二灯，所述第一灯用以对所述待处理物体照射紫外(ultraviolet，UV)线，所述第二灯用以对所述待处理物体照射红外(infrared，IR)线。对于所述一个表面上的多个区域中的每一个，所述第一灯的数目对所述第二灯的数目的相对比率是不同的。所述一个表面上的所述多个区域可包括中心区域及围绕所述中心区域的周围区域，所述中心区域具有与所述待处理物体的大小及形状对应的大小及形状。所述第一灯及所述第二灯可一同安装于所述中心区域及所述周围区域中的每一个上。所述第一灯及所述第二灯可一同安装于所述中心区域上，且所述第二灯可安装于所述周围区域上。所述第一灯可安装于所述中心区域上，且所述第一灯及所述第二灯可一同安装于所述周围区域上。所述第一灯可安装于所述中心区域上，且所述第二灯可安装于所述周围区域上。安装于所述中心区域上的所述第一灯的数目可超过安装于所述中心区域上的所述加热灯的总数目的50％。安装于所述周围区域上的所述第二灯的数目可超过安装于所述周围区域
上的所述加热灯的总数目的50％。所述第一灯及所述第二灯可选择性地安装于所述中心区域与所述周围区域之间的边界上。当以所述中心区域与所述周围区域之间的所述边界为基准，所述中心区域上的所述加热灯的表面积等于或大于所述加热灯的总表面积的50％时，可安装所述第一灯，而当以所述中心区域与所述周围区域之间的所述边界为基准，所述周围区域上的所述加热灯的表面积超过所述加热灯的所述总表面积的50％时，可安装所述第二灯。根据另一示例性实施例，提供一种用以处理基板的基板处理装置，所述基板处理装置包括：腔室，具有内部空间，在所述内部空间中处理所述基板；基板支撑单元，安置于所述腔室中以支撑所述基板；加热器区块，被安置成面对所述基板支撑单元；以及传输构件，安置于所述腔室与所述加热器区块之间。提供多个第一灯及多个第二灯，所述第一灯用以对所述基板照射紫外(UV)线，所述第二灯用以对所述基板照射红外(IR)线，且所述第一灯与所述第二灯在所述加热器区块的面对所述基板的一个表面上彼此间隔开。所述加热器区块的所述一个表面可包括面对待处理物体的中心区域及围绕所述中心区域的周围区域，且所述第一灯可至少安装于所述一个表面的所述中心区域与所述周围区域中的所述中心区域上。所述加热器区块的所述一个表面可包括面对所述待处理物体的中心区域及围绕所述中心区域的周围区域，且所述第二灯可至少安装于所述一个表面的所述中心区域与所述周围区域中的所述周围区域上。对于所述中心区域与所述周围区域中的每一个，所述第一灯的数目对所述第二灯的数目的比率可为不同的。安装于所述中心区域上的所述第一灯的数目可超过安装于所述中心区域上的所述加热灯的总数目的50％，且安装于所述周围区域上的所述第二灯的数目可超过安装于所述周围区域上的所述加热灯的所述总数目的50％。附图说明结合附图从以下说明可更详细地理解示例性实施例，在附图中：图1是用于阐释根据示例性实施例的基板处理装置的图。图2是用于阐释根据示例性实施例的加热器区块及加热灯的图。图3至图5是用于阐释根据经修改的实例的加热器区块及加热灯的图。图6(a)、图6(b)是用于阐释根据示例性实施例及经修改的实例的加热器区块及加热灯的图。具体实施方式在下文中，将参照附图来详细地阐述本专利技术的实施例。然而，本专利技术可实施为不同形式，而不应被视为仅限于本文中所述的实施例。确切而言，提供这些实施例是为了使此揭示内容将透彻及完整，且将向所属领域中的技术人员充分传达本专利技术的范围。在图式中，为说明清晰起见，夸大了层及区的尺寸。通篇中，相同的参考编号指代相同的组件。图1是示出基板处理装置的一侧以阐释根据示例性实施例的基板处理装置的侧剖视图，且图2是示出加热器区块的灯安装表面以阐释配置根据示例性实施例的加热器区块的第一灯及第二灯的结构的平面图。此外，图3是示出加热器区块的灯安装表面以阐释配置根据经修改实例的加热器区块的第一灯及第二灯的结构的平面图，图4是示出加热器区块的灯安装表面以阐释配置根据另一经修改实例的加热器区块的第一灯及第二灯的结构的平面图，且图5是示出加热器区块的灯安装表面以阐释配置根据再一经修改实例的加热器区块的第一灯及第二灯的结构的平面图。此外，图6(a)、图6(b)是用于阐释根据实施例及经修改实例的一种选择性地将加热灯安装在加热器区块的一个表面(例如，位于上述一个表面的中心区域与周围区域之间的边界上的灯安装表面)上的方法的平面图。参照图1及图2，根据示例性实施例的基板处理装置包括：腔室100，具有内部空间，在所述内部空间中处理基板；基板支撑单元，安置于腔室100的内下侧上以支撑基板10；加热器区块300，被安置成面对基板支撑单元；以及传输构件400，安置于腔室100与加热器区块300之间以使加热器区块300自腔室100分离。基板10可包括大型玻璃基板，所述大型玻璃基板在制造各种显示元件(包括主动矩阵式发光二极管(AMOLED)、液晶显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED)及发光二极管(LED))或各种电子元件(包括太阳电池及半导本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种加热器区块，其特征在于，包括安装于所述加热器区块的面对待处理物体的一个表面上的多个加热灯，其中所述加热灯包括第一灯及第二灯，所述第一灯用以对所述待处理物体照射紫外线，所述第二灯用以对所述待处理物体照射红外线，且对于所述一个表面上的多个区域中的每一个，所述第一灯的数目对所述第二灯的数目的相对比率是不同的。

【技术特征摘要】
2015.03.27 KR 10-2015-00429951.一种加热器区块，其特征在于，包括安装于所述加热器区块的面对待处理物体的一个表面上的多个加热灯，其中所述加热灯包括第一灯及第二灯，所述第一灯用以对所述待处理物体照射紫外线，所述第二灯用以对所述待处理物体照射红外线，且对于所述一个表面上的多个区域中的每一个，所述第一灯的数目对所述第二灯的数目的相对比率是不同的。2.根据权利要求1所述的加热器区块，其特征在于，所述一个表面上的所述多个区域包括中心区域及围绕所述中心区域的周围区域，所述中心区域具有与所述待处理物体的大小及形状对应的大小及形状。3.根据权利要求2所述的加热器区块，其特征在于，所述第一灯及所述第二灯一同安装于所述中心区域及所述周围区域中的每一个上。4.根据权利要求2所述的加热器区块，其特征在于，所述第一灯及所述第二灯一同安装于所述中心区域上，且所述第二灯安装于所述周围区域上。5.根据权利要求2所述的加热器区块，其特征在于，所述第一灯安装于所述中心区域上，且所述第一灯及所述第二灯一同安装于所述周围区域上。6.根据权利要求2所述的加热器区块，其特征在于，所述第一灯安装于所述中心区域上，且所述第二灯安装于所述周围区域上。7.根据权利要求2所述的加热器区块，其特征在于，安装于所述中心区域上的所述第一灯的数目超过安装于所述中心区域上的所述加热灯的总数目的50％。8.根据权利要求2所述的加热器区块，其特征在于，安装于所述周围区域上的所述第二灯的数目超过安装于所述周围区域上的所述加热灯的总数目的50％。9.根据权利要求2所述的加热器区块，其特征在于，所述第一灯及所述第二灯选择性地安装于所述中心区域与所述周围区域之间的边界上，且当以所述中心区域与所述周围区域...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑弼盛，池尙炫，李成龙，韩容愚，
申请(专利权)人：AP系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR